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公开(公告)号:KR100343148B1
公开(公告)日:2002-07-06
申请号:KR1020000066828
申请日:2000-11-10
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/31
Abstract: 공정을 단순화시키고, 게이트 상부절연막의 손실을 억제하여 비트라인과 게이트와의 단선을 억제하고, 게이트 구조형성 후 적층되는 층간절연막의 보이드 발생을 억제할 수 있는 반도체 소자의 콘택패드 형성방법에 관해 개시한다. 이를 위해 본 발명은, 반도체 기판에 게이트 상부절연막을 포함하는 게이트 구조와, 정지층(stopping layer) 및 층간절연막을 형성하고 수행하는 화학기계적 연마공정에서, 게이트 상부절연막과 층간절연막과의 연마선택비가 높은 슬러리를 이용하여 상기 적어도 게이트 상부절연막이 노출되도록 상기 층간절연막을 평탄화하고, 상기 층간절연막에 콘택패드가 형성될 영역을 식각 후, 콘택패드용 도전물질을 증착하고 수행하는 화학기계적 연마공정에서 게이트 상부절연막과 상기 콘택패드용 도전물질과의 연마선택비가 높은 슬러리를 이용하여 평탄화를 진행한다.
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公开(公告)号:KR1020010110528A
公开(公告)日:2001-12-13
申请号:KR1020000031032
申请日:2000-06-07
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302
Abstract: 균일도(uniformity)를 개선하고, 커패시터 하부전극의 높이를 높여 커패시턴스를 늘릴 수 있는 2단계 화학기계적 연마를 통한 하부전극층 분리방법에 관해 개시한다. 이를 위해 본 발명은, 제1 절연막이 형성된 반도체 기판에 매몰 콘택홀을 형성하고 상기 매몰 콘택홀을 채우는 플러그를 형성하는 공정과, 상기 매몰 콘택 플러그가 형성된 반도체 기판 위에 식각정지층, 제2 절연막 및 캡핑층을 순차적으로 형성하는 공정과, 상기 식각정지층, 제2 절연막 및 캡핑층을 패터닝하여 상기 매몰 콘택 플러그를 노출시키는 오목형상의 제2 절연막 패턴을 형성하는 공정과, 상기 제2 절연막 패턴이 형성된 반도체 기판 위에 하부전극층 및 충진용 제3 절연막 패턴을 형성하는 공정과, 상기 하부전극층이 노출되도록 제1 연마제를 이용하여 1차 화학기계적 연마를 진행하는 공정과, 상기 제2 절연막 표면이 노출되도록 제2 연마제를 이용하여 2차 화학기계적 연마를 진행하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 2단계 화학기계적 � �마를 통한 하부전극층 분리방법을 제공한다.
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公开(公告)号:KR1020010105589A
公开(公告)日:2001-11-29
申请号:KR1020000026182
申请日:2000-05-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
Abstract: A method for monitoring client interaction with a resource downloaded from a server in a computer network includes the steps of using a client to specify an address of a resource located on a first server, downloading a file corresponding to the resource from the first server in response to specification of the address, using the client to specify an address of a first executable program located on a second server, the address of the first executable program being embedded in the file downloaded from the first server, the first executable program including a software timer for monitoring the amount of time the client spends interacting with and displaying the file downloaded from the first server, downloading the first executable program from the second server to run on the client so as to determine the amount of time the client interacts with the file downloaded from the first server, using a server to acquire client identifying indicia from the client, and uploading the amount of time determined by the first executable program to a third server. The first executable program may also monitor time, keyboard events, mouse events, and the like, in order to track choices and selections made by a user in the file, and may execute upon the occurrence of a predetermined event, as well as monitoring or determining the amount of information downloaded by the client. The monitored information and client identifying indicia is stored on a database in a server for use in analysis and for automatically serving out files assembled according to user interests and preferences.
Abstract translation: 一种用于监视与从计算机网络中的服务器下载的资源的客户端交互的方法包括以下步骤:使用客户端来指定位于第一服务器上的资源的地址,响应于从第一服务器下载对应于资源的文件 使用所述客户端来指定位于第二服务器上的第一可执行程序的地址,所述第一可执行程序的地址被嵌入在从所述第一服务器下载的文件中,所述第一可执行程序包括软件定时器 用于监视客户端与第一服务器交互并显示从第一服务器下载的文件的时间量,从第二服务器下载第一可执行程序以在客户端上运行,以便确定客户端与下载的文件交互的时间量 从第一个服务器,使用服务器从客户端获取客户端识别标记,并上传tim数量 e由第一可执行程序确定为第三服务器。 第一可执行程序还可以监视时间,键盘事件,鼠标事件等,以便跟踪用户在文件中做出的选择和选择,并且可以在发生预定事件时执行,以及监视或 确定客户端下载的信息量。 所监视的信息和客户端识别标记被存储在服务器中的数据库上以用于分析,并且根据用户兴趣和偏好自动地输出组装的文件。
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公开(公告)号:KR1019980034362A
公开(公告)日:1998-08-05
申请号:KR1019960052392
申请日:1996-11-06
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
Abstract: 본 발명은 반도체장치의 제조과정에 사용되는 슬러리 공급장치 및 이 장치를 이용한 슬러리 공급방법에 관해 개시한다. 슬러리 공급튜브에 슬러리 응집 방지 수단을 구비한다. 따라서 슬러리 공급튜브내의 슬러리의 응집을 항시 방지할 수 있고 이 장치를 사용하여 슬러리를 공급함에 따라 양질의 응집이 배제된 슬러리를 폴리싱 패드에 공급하여 웨이퍼의 스크래치를 방지할 수 있다.
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