公开(公告)号：KR100654760B1

公开(公告)日：2006-12-08

申请号：KR1020040081903

申请日：2004-10-13

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문성욱 ,  신현준

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은 경사노광방식을 이용한 경사구조 프로브 팁의 반도체 검사장치 제조방법에 관한 것이다.
기존에는 이열구조의 반도체 패드 및 행렬 배열 반도체 패드의 검사를 위해 수직형 프로브 팁이 개발되었다.
본 발명에서는 프로브 팁의 기계적 특성 향상을 위해 경사구조 프로브 팁을 경사노광기를 이용하여 제작하는 방법을 제시한다.
본 발명의 경사노광기를 이용한 경사구조 프로브 팁의 반도체 검사장치 제조방법은 인쇄회로(50)기판에 프로브 팁(40)과 전기신호 연결을 위해 세라믹 재질의 보강판(10)에 관통홀(20)을 가공하고 관통홀에 전기도금 공정을 하여 전기배선을 형성한다. 그 보강판 위에 직접 경사구조 수직형 프로브 팁을 제작하여 기존의 접합방식에서 발생하는 생산성 저하 및 공정 안정화를 극복하기 위해 접합공정을 제거함으로써 완성되는 발명이 제시된다.
반도체 검사장치 , 프로브 팁, 프로브 팁 보강판, 경사구조, 경사노광기

公开(公告)号：KR1020060033819A

公开(公告)日：2006-04-20

申请号：KR1020040082894

申请日：2004-10-16

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문성욱 ,  신현준

IPC: G02B26/08

CPC classification number: G02B26/0841 ,  B81C1/00142 ,  B81C1/0015 ,  B81C1/00174 ,  G02B26/085 ,  G02B26/0866 ,  Y10S359/904

Abstract: 본 발명은 광의 방향을 변화시키는 광 스케너나 동적 광 이득 보상기용으로 이용되는 동적 거울로 이용하기 위한 단결정실리콘 시소동작 미소거울 어레이에 관한 것이다.
횡축으로 넓게 입사되는 분산된 빛을 시소 형태의 단결정 실리콘 면 구조를 이용하여 원하는 방향으로의 반사률을 높일 수 있도록 하였고, 거울간의 간격을 최소화하여 광의 손실을 최소화하였다. 시소 구조에서 거울의 기울어짐을 얻기 위한 구동원 부분 제작을 위하여 MEMS의 표면마이크로가공기술을 이용한 정전 구동형 캔틸레버를 제작하였고 SOI (silicon on insulator) 웨이퍼를 이용하여 물리적 특성이 좋고 조도가 우수한 단결정 실리콘면을 거울로 제작하였다. 특히 시소 구조를 이용함으로써 구동력을 발생시키는 면에서의 물리적 변형이 시소의 회전축을 중심으로 거울면에 영향을 주는 특징을 가지고 있다.
캔틸레버, 미소거울, SOI 웨이퍼, 시소구조거울,

公开(公告)号：KR1020050077899A

公开(公告)日：2005-08-04

申请号：KR1020040005559

申请日：2004-01-29

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문성욱 ,  신현준 ,  한용희

IPC: H01L31/09

CPC classification number: G01J5/046 ,  G01J5/20 ,  H01C7/006 ,  H01C7/047 ,  H01C17/12

Abstract: 본 발명은 고감도 특성을 갖는 볼로메타형 비냉각 적외선 감지소자를 위한 볼로메타용 산화물 박막에 관한 것이다.
현재 비냉각 적외선 감지소자의 적외선 감지물질로 사용되는 바나듐 산화물는 TCR값이 -2.0%/℃ 내외이며, 물질 특성상 무수히 많은 중간상의 존재로 인하여 정확한 상 조절과 재현성 달성이 어렵다. 이로 인하여 고가의 이온빔 장치 등이 달린 박막 증착장비를 이용하여 제조되며, 공정온도도 400℃ 이상으로 높은 편이다.
본 발명에 따른 볼로메타용 산화물 박막은 바나듐에 텅스텐이 첨가된 바나듐 텅스텐 산화물(VW-Ox)로서, 300℃의 저온에서 바나듐-텅스텐 금속박막을 산화시켜 텅스텐 조성변화 및 산화시간 변화에 따라 5∼200㏀의 저항 범위내에서 -1.5 내지 -4.1 %/℃의 다양한 TCR값을 갖는 볼로메타용 산화물의 제조가 가능하다. 또한, 본 발명에 의해 고가의 이온빔 장치없이 저가의 박막증착 장비로 저온에서 재현성 있는 박막의 제조가 가능하다. 본 발명의 결과로 100㏀ 이내의 낮은 저항에서 -3%/℃ 이상의 높은 TCR값을 갖는 볼로메타 물질을 재현성 있게 제조할 수 있으며, 고감도를 갖는 비냉각형 적외선 소자의 제조가 가능하다.

公开(公告)号：KR100485548B1

公开(公告)日：2005-04-27

申请号：KR1020020084010

申请日：2002-12-26

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문성욱 ,  신현준 ,  채경수

IPC: G02B26/02

Abstract: 본 발명은 이중거울 구조를 이용한 초소형 광감쇄기에 관한 것으로서, 더 상세하게는 두개의 반사거울 면을 활용하여 거울을 움직이는 구동기의 구동 변위를 종래의 것에 비해 50% 정도 줄일 수 있는 광감쇄기에 관한 것이다.
본 발명의 이중거울 구조를 이용한 초소형 광감쇄기는 광신호가 분배되는 광통신망의 노드에 위치하여 광의 세기를 조절해주는 광감쇄기에 있어서; 입력광을 단속하여 광의 세기를 조절하고 서로 반대방향으로 움직이는 2개의 거울과, 상기 거울에 각각 연결되어 거울을 움직이는 구동기와, 상기 구동기와 임의의 간격을 두고 이격되고 구동기가 거울을 움직일 수 있도록 전압을 인가하는 구동전극과, 광섬유를 고정시키는 광섬유 고정부로 구성되되, 상기 구동전극에 전압이 인가될 경우 구동기에 구동전극 방향으로 힘이 발생되고, 구동기의 구동 변위는 입력 전압의 세기에 의해 결정되며, 상기 입력광은 구동기에 의해 서로 다른 방향으로 움직이는 두 거울 사이의 자유공간을 광경로로 사용하여 통과하며, 상기 구동기의 동작에 따라 2개의 거울이 동시에 움직이거나 별도로 움직이는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광감쇄기는 능동 기능을 할 수 있는 것으로, 종래의 수동 광감쇄기 소자와 달리 구동 전압에 따라 광의 세기를 자유자재로 조절할 수 있다.

公开(公告)号：KR100458285B1

公开(公告)日：2004-11-26

申请号：KR1020020078353

申请日：2002-12-10

Applicant: 한국과학기술연구원 ,  한국전자통신연구원

Inventor： 문성욱 ,  신현준 ,  이준섭

IPC: G02B6/40

Abstract: PURPOSE: A method for fabricating a V-groove structure using a photoresist is provided to replace a prior silicon V-groove with a slant micro V-groove structure using the photoresist on a wafer. CONSTITUTION: According to the method for fabricating a V-groove(12) structure using a photoresist(16), a photo mask is placed on a substrate(13) coated with a photoresist and then it is exposed to light(14) slantly. It is exposed twice by changing an incident angle of the light and thus a slant side has a different angle. The substrate coated with a photoresist is exposed using a gray level mask(17) by controlling the penetration of the exposure light differently, and thus the V-groove structure is fabricated by making the exposure light be incident vertically and by controlling an intensity of the light.

Abstract translation: 目的：提供使用光致抗蚀剂制造V形槽结构的方法，以使用晶圆上的光致抗蚀剂代替具有倾斜微V形槽结构的现有硅V形槽。 组成：根据使用光致抗蚀剂（16）制造V型槽（12）结构的方法，将光掩模置于涂有光致抗蚀剂的基片（13）上，然后将其倾斜曝光（14）。 它通过改变光的入射角而暴露两次，因此斜面具有不同的角度。 使用灰度级掩模（17）通过不同地控制曝光光线的穿透来曝光涂覆有光致抗蚀剂的基板，并且因此通过使曝光光垂直入射并且通过控制曝光光线的强度来制造V形凹槽结构 光。

公开(公告)号：KR100451416B1

公开(公告)日：2004-10-07

申请号：KR1020020071419

申请日：2002-11-16

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 김태송 ,  주병권 ,  강지윤 ,  신현준

IPC: G01J1/00

Abstract: PURPOSE: An optical system for a fluorescent measurement unit is provided to prevent light from being detected through an optical sensor by shielding light radiated from a light source using first and second shielding films. CONSTITUTION: An optical system for a fluorescent measurement unit includes a light source(110) for radiating light and a first shielding film(220) formed with an opening(221) so as to allow light radiated from the light source(110) to partially pass through the shielding film(220). A band pass filter(120) is provided to allow light having a predetermined frequency to pass through. Light passing through the first shielding film(220) and the band pass filter(120) are focused by a first lens(130). Light passing through the first lens(130) is radiated onto a test sample(172) contained in a channel(173).

Abstract translation: 目的：提供一种用于荧光测量单元的光学系统，以通过使用第一和第二屏蔽膜屏蔽从光源辐射的光来防止通过光学传感器检测到光。 用于荧光测量单元的光学系统包括用于发射光的光源（110）和形成有开口（221）的第一屏蔽膜（220），以允许从光源（110）辐射的光部分地 穿过屏蔽膜（220）。 提供带通滤波器（120）以允许具有预定频率的光通过。 穿过第一屏蔽膜（220）和带通滤波器（120）的光被第一透镜（130）聚焦。 穿过第一透镜（130）的光照射到包含在通道（173）中的测试样本（172）上。