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公开(公告)号：KR1020130098553A
公开(公告)日：2013-09-05
申请号：KR1020120020155
申请日：2012-02-28
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: C08K5/524 , C08G77/14 , C08K5/005 , C08K5/1345 , C08K5/375 , C08K5/5435 , H01L33/56
Abstract: PURPOSE: An optical siloxane resin composition provides a siloxane cured material which has high optical transmittancy, heat resistance against yellowing, excellent productivity due to a photocure, high refractivity, and high hardness. CONSTITUTION: An optical siloxane resin composition includes a siloxane including a photo-ionic-polymerizable epoxy group, a photoinitiator, and an antioxidant. The siloxane including a photo-ionic-polymerizable epoxy group is formed by a sol-gel reaction of an alkoxysilane including an epoxy group. The photoinitiator includes an onium salt and/or an organic metal salt. The antioxidant is selected from a phenolic-based group, a phosphate-based group, an aminic-based group, a thioester-based group, and combinations thereof.
Abstract translation: 目的：光学硅氧烷树脂组合物提供了具有高光透射性，耐黄变性，耐光固化性，高折射率和高硬度的优异生产率的硅氧烷固化材料。 构成：光学硅氧烷树脂组合物包括含有光离子聚合性环氧基的硅氧烷，光引发剂和抗氧化剂。 包含光离子聚合性环氧基的硅氧烷是通过包含环氧基的烷氧基硅烷的溶胶 - 凝胶反应形成的。 光引发剂包括鎓盐和/或有机金属盐。 抗氧化剂选自酚类基团，磷酸酯基，基于氨基的基团，硫酯基，以及它们的组合。
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公开(公告)号：KR1020130017057A
公开(公告)日：2013-02-19
申请号：KR1020110079318
申请日：2011-08-09
Applicant: 한국과학기술원
IPC: C08L83/04 , C08L83/07 , C08L83/08 , C08K5/5415
Abstract: PURPOSE: A transparent hybrid resin composition is provided to have light transmittance, light resistance, heat resistance, refractivity, and mechanical strength, and to minimize shrinkage. CONSTITUTION: A transparent hybrid resin composition comprises: a thiol oligosiloxane hybrid which is manufactured by the non-hydrolytic condensation reaction of organic silanediol with thiol group-containing organic alkoxysilane(I), or a mixture with single metal alkoxide mixture and organic alkoxysilane; a vinyl oligosiloxane hybrid manufactured by the non-aqueous condensation reaction of vinyl group-containing organic alkoxy silane(II) or a mixture with metal alkoxide and the organic silanediol; an organic compound which comprises at least two or more vinyl groups; and a photoinitiator or thermoinitiator.
Abstract translation: 目的：提供透光性，耐光性，耐热性，折射率和机械强度的透明混合树脂组合物，并使收缩率最小化。 构成：透明的混合树脂组合物包含：通过有机硅烷二醇与含硫醇基的有机烷氧基硅烷（I）的非水解缩合反应或与单一金属醇盐混合物和有机烷氧基硅烷的混合物制造的硫醇低聚硅氧烷杂化物; 通过含有乙烯基的有机烷氧基硅烷（II）的非水性缩合反应或与金属醇盐和有机硅烷二醇的混合物制造的乙烯基低聚硅氧烷混合物; 包含至少两个以上乙烯基的有机化合物; 和光引发剂或热引发剂。
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公开(公告)号：KR1020120023543A
公开(公告)日：2012-03-13
申请号：KR1020110076685
申请日：2011-08-01
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01B1/22 , H01B1/02 , H01B1/12 , H01L29/786
CPC classification number: H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02623 , H01L29/24 , H01L29/26
Abstract: PURPOSE: A Fluorine-containing metal oxide semiconductor is provided to simplify manufacturing processes, to reduce cost, and to have excellent semiconductor properties like high current value, charge mobility, current ratio, threshold voltage, sub-threshold swing, etc. CONSTITUTION: A fluorine-containing metal oxide semiconductor aqueous solution composition comprises: one or more fluorine compound precursors selected from a group consisting of fluorine-containing metal compound and fluorine-containing organic material, and aqueous solution containing water and a catalyst. The fluorine-containing metal oxide semiconductor aqueous solution composition comprises metal salt. A manufacturing method of the fluorine-containing metal oxide semiconductor comprises a step of coating the fluorine-containing metal oxide semiconductor aqueous solution compostion on a substrate, and a step of forming fluorine-containing metal oxide semiconductor by heat-treating the substrate.
Abstract translation: 目的：提供含氟金属氧化物半导体，以简化制造工艺，降低成本，并具有优异的半导体特性，如高电流值，电荷迁移率，电流比，阈值电压，次阈值摆幅等。构成：A 含氟金属氧化物半导体水溶液组合物包含：一种或多种选自含氟金属化合物和含氟有机材料的氟化合物前体，以及含有水和催化剂的水溶液。 含氟金属氧化物半导体水溶液组合物包含金属盐。 含氟金属氧化物半导体的制造方法包括将含氟金属氧化物半导体水溶液组合物涂布在基板上的工序，以及通过对基板进行热处理来形成含氟金属氧化物半导体的工序。
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44.发明公开용액 조성물, 이를 이용한 금속 산화물 반도체 제조 방법, 상기 제조 방법에 의해 형성된 금속 산화물 반도체 및 이를 포함하는 박막 트랜지스터 无效溶液组合物，使用其制造金属氧化物半导体的方法，金属氧化物半导体和薄膜晶体管，包括其制造的金属氧化物半导体的方法制造的薄膜晶体管
公开(公告)号：KR1020110027488A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：KR1020090085595
申请日：2009-09-10
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사 , 한국과학기술원
IPC: H01B1/22 , H01L29/786
CPC classification number: H01L29/26 , H01B1/22 , H01L21/02565 , H01L29/7869
Abstract: PURPOSE: A solution composition is provided to obtain a metal oxide semiconductor which can be formed in a solution type and shows excellent semiconductor characteristics. CONSTITUTION: A solution composition for preparing a metal oxide semiconductor for a thin film transistor comprises aluminum salts and organic salts of metal. The negative ion of organic salts of metal includes acetate. A method for manufacturing a metal oxide semiconductor comprises the steps of: preparing the solution composition; coating the solution composition on a substrate; and heating the solution composition applied on the substrate to form the metal oxide semiconductor containing aluminum metal oxide.
Abstract translation: 目的：提供一种溶液组合物，以获得能够形成溶液型并显示优异的半导体特性的金属氧化物半导体。 构成：用于制备薄膜晶体管的金属氧化物半导体的溶液组合物包括铝盐和金属的有机盐。 金属有机盐的负离子包括乙酸盐。 一种制造金属氧化物半导体的方法包括以下步骤：制备溶液组合物; 将溶液组合物涂布在基材上; 并加热施加在基板上的溶液组合物，形成含有金属氧化物的金属氧化物半导体。
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公开(公告)号：KR1020100130850A
公开(公告)日：2010-12-14
申请号：KR1020090049564
申请日：2009-06-04
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사 , 한국과학기술원
IPC: G02F1/136 , H01L29/786
CPC classification number: H01L27/1225 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02628 , H01L29/7869 , H01L29/66742
Abstract: PURPOSE: A thin film transistor array panel and a method for fabricating the same are provided to have excellent stability and electronic property and be easily fabricated. CONSTITUTION: An oxide semiconductor layer(41) is formed on an insulation substrate(10), and includes a zinc acetate and a metal inorganic salt. A gate electrode(26) is overlapped with the oxide semiconductor layer. A gate insulation layer(30) is exposed between the oxide semiconductor layer and the gate electrode.
Abstract translation: 目的：提供一种薄膜晶体管阵列面板及其制造方法，具有优异的稳定性和电子性能，并且易于制造。 构成：在绝缘基板（10）上形成氧化物半导体层（41），其包含乙酸锌和金属无机盐。 栅电极（26）与氧化物半导体层重叠。 栅极绝缘层（30）暴露在氧化物半导体层和栅电极之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100929547B1
公开(公告)日：2009-12-03
申请号：KR1020080039373
申请日：2008-04-28
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 유기 실란의 축합 반응을 이용한 올리고실록산 하이브리드 및 이를 이용한 가스 차단막에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 유기실란디올과 유기알콕시실란의 비가수 축합 반응에 의해 축합도가 높은 무기 망목구조의 중심체와 외부에 적어도 하나 이상의 유기기 또는 유기 관능기를 포함하는 것을 특징으로 하는 올리고실록산 하이브리드, 및 상기 올리고실록산 하이브리드를 이용한 단일층 또는 다층으로 이루어진 가스 차단 특성이 우수한 가스 차단막을 제공한다.
올리고실록산 하이브리드, 축합 반응, 유기알콕시실란, 유기실란디올, 가스 차단막Abstract translation: 目的：提供一种使用多层低聚硅氧烷混合涂层和无机层的气帘及其制造方法，以形成致密的无机网状结构以提高稳定性和凝聚度。 构成：制造气幕的方法包括以下步骤：使有机烷氧基硅烷与有机硅烷二醇反应以获得低聚硅氧烷杂化物; 并用含有低聚硅氧烷杂化物的涂布液涂布元件或基材以形成涂层。 有机烷氧基硅烷是由式1表示的化合物。在式1中，R 1选自C 1 -C 20烷基，C 3 -C 8环烷基，用C 3 -C 8环烷基，C 2 -C 20烯基和C 6 -C 20芳基取代的C 4 -C 20烷基 组。
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公开(公告)号：KR1020090113576A
公开(公告)日：2009-11-02
申请号：KR1020080039373
申请日：2008-04-28
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: PURPOSE: A gas curtain using a multi-layered oligosiloxane hybrid coating layer and inorganic layer and a manufacturing method thereof are provided to form dense inorganic network structure in order to improve stability and condensation degree. CONSTITUTION: A method for manufacturing a gas curtain comprises the following steps of: allowing organoalkoxysilane to react to organosilane diol to obtain oligosiloxane hybrid; and coating an element or substrate with a coating liquid containing the oligosiloxane hybrid to form a coating layer. The organoalkoxysilane is a compound represented by formula 1. In the formula 1, R1 is selected from C1-C20 alkyl, C3-C8 cycloalkyl, C4-C20 alkyl substituted with C3-C8 cycloalkyl, C2-C20 alkenyl, and C6-C20 aryl groups.
Abstract translation: 目的：提供使用多层寡硅氧烷混合涂层和无机层的气幕及其制造方法，以形成致密的无机网络结构，以提高稳定性和缩合度。 构成：制造气幕的方法包括以下步骤：使有机烷氧基硅烷与有机硅烷二醇反应得到低聚硅氧烷杂化物; 并用含有寡硅氧烷杂化物的涂布液涂覆元件或基底以形成涂层。 有机烷氧基硅烷是由式1表示的化合物。在式1中，R 1选自C 1 -C 20烷基，C 3 -C 8环烷基，被C 3 -C 8环烷基取代的C 4 -C 20烷基，C 2 -C 20烯基和C 6 -C 20芳基 组。
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公开(公告)号：KR100832306B1
公开(公告)日：2008-05-26
申请号：KR1020070020498
申请日：2007-02-28
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: H01J9/261 , H01J11/12 , H01J11/48 , H01J2209/264
Abstract: A plasma display panel and a low temperature manufacture method thereof are provided to restrain the deformation of a substrate during a process and to implement a large-scale panel by using a compound having a 3-dimensional network structure. A plasma display panel is configured by coupling an upper plate to a lower plate. At least one of an upper dielectric(14), a lower dielectric(23), a barrier rib(24), and an encapsulant of upper and lower plates is made of a compound having a 3-dimensional network structure obtained by polymerizing and hardening an organic monomer, an organic oligomer, or a siloxane-based oligomer having a polymerization-possible functional group. The 3-dimensional network structure is obtained through the hardening under temperature of 25 °C to 300 °C. A molecular weight of the oligomer is 100 to 10,000 below. The barrier rib includes a white color pigment.
Abstract translation: 提供了一种等离子体显示面板及其低温制造方法，以在工艺过程中抑制衬底的变形并且通过使用具有3维网络结构的化合物来实现大规模面板。 等离子显示面板通过将上板连接到下板来构造。 上电介质（14），下电介质（23），隔板（24）和上板和下板的密封剂中的至少一个由具有通过聚合和固化获得的三维网状结构的化合物制成 有机单体，有机低聚物或具有可聚合官能团的硅氧烷类低聚物。 通过在25℃至300℃的温度下硬化获得三维网状结构。 低聚物的分子量低于100至10,000。 隔壁包括白色颜料。
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公开(公告)号：KR100738650B1
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：KR1020050032475
申请日：2005-04-19
Applicant: 한국과학기술원
IPC: H01J11/36
CPC classification number: H01J9/242 , H01J2211/36
Abstract: 본 발명은 실리콘 화합물 수지를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽의 제조방법을 제공한다.
제 1측면에 따른 본 발명은 기판위에 실리콘 화합물 수지층을 형성하는 단계; 상기 실리콘 화합물 수지층을 격벽 모양의 패턴이 형성된 마스터로 압착하여 전사하는 단계; 및 상기 실리콘 화합물 수지를 경화한 후 마스터를 이형시키는 단계를 포함한다.
제 2측면에 따른 본 발명은 실리콘 화합물 수지를 격벽 모양의 패턴이 형성된 마스터의 홈에 충진하는 단계; 기판상에 상기 마스터를 압착하여 전사하는 단계; 및 상기 전사된 실리콘 화합물 수지를 경화한 후 마스터를 이형시키는 단계를 포함한다.
플라즈마 디스플레이 패널, 격벽, 실리콘 화합물-
50.发明授权패턴 복제에 사용되는 몰드 제조용 불화 유기규소 화합물,그를 이용하여 제조된 패턴 복제용 유기-무기 혼성 몰드,그 몰드를 이용한 패턴 복제 방법 및 그 방법에 의하여복제된 패턴 有权用于生产用于替换图案的模具的氟化有机锗化合物，用于使用该模板的图案复制的有机无机混合模具，使用模型复制的图案的方法和由方法重现的图案
公开(公告)号：KR100700435B1
公开(公告)日：2007-03-27
申请号：KR1020050051011
申请日：2005-06-14
IPC: G03F7/00 , G03F7/075 , H01L21/027 , B82B3/00
Abstract: 본 발명은 패턴 복제에 사용되는 몰드 제조용 불화 유기규소 화합물, 그를 이용하여 제조된 패턴 복제용 유기-무기 혼성 몰드, 그 몰드를 이용한 패턴 복제 방법 및 그 방법에 의하여 복제된 패턴에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 이형제 처리와 같은 표면처리를 필요로 하지 않는 동시에 일정 수준 이상의 강도를 가지므로써, 나노 임프린트 공정 및 소프트 식각(soft lithography) 패터닝 공정에서 모두 사용가능한 새로운 몰드 제조용 불화 유기규소 화합물, 그를 이용하여 제조된 패턴 복제용 유기-무기 혼성 몰드, 그 몰드를 이용한 패턴 복제 방법 및 그 방법에 의하여 복제된 패턴에 관한 것이다.
불화 유기규소, 유기-무기, 혼성, 몰드, 패턴, 복제
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