티올계 정착기를 가지는 분자 전자소자용 화합물 및 그제조 방법과 그 화합물로부터 얻어지는 분자 활성층을가지는 분자 전자소자
    41.
    发明授权
    티올계 정착기를 가지는 분자 전자소자용 화합물 및 그제조 방법과 그 화합물로부터 얻어지는 분자 활성층을가지는 분자 전자소자 失效
    已经从用于具有定影装置以及制造该化合物的方法以及所述化合物的分子电子器件的硫醇得到分子电子器件的活性分子

    公开(公告)号:KR100714126B1

    公开(公告)日:2007-05-02

    申请号:KR1020060018435

    申请日:2006-02-24

    Abstract: 다음 식의 티올계 정착기를 가지는 터피리딘-루쎄늄 유기금속 화합물로 이루어지는 분자 전자소자용 화합물 및 그 제조 방법과, 그 화합물로부터 얻어지는 분자 활성층을 가지는 분자 전자 소자에 대하여 개시한다.

    식중, R
    1 및 R
    2 는 각각 티오아세틸기 또는 수소 원자이고, R
    1 및 R
    2 중 적어도 하나는 티오아세틸기이고, m 및 n은 각각 0 ∼ 20의 정수이다. 이 화합물이 전극 표면에 자기조립되어 형성되는 분자 활성층은 스위치 소자 또는 메모리 소자를 구성한다.
    분자 전자소자, 분자 스위치, 분자 메모리, 자기조립, 루쎄늄-터피리딘

    Abstract translation: 它公开了具有相对于基座ssenyum化合物和用于分子电子器件的制造方法,包括一种有机金属化合物,具有由这些化合物发射具有硫醇基定影吡啶的公式所获得的活性分子的分子电子装置。

    발광 가능한 실리콘 나노점 박막 제조 장치 및 방법
    42.
    发明公开
    발광 가능한 실리콘 나노점 박막 제조 장치 및 방법 失效
    用于制造发光灯的硅纳米薄膜的装置和方法

    公开(公告)号:KR1020040057031A

    公开(公告)日:2004-07-01

    申请号:KR1020030011016

    申请日:2003-02-21

    Inventor: 박종혁

    Abstract: PURPOSE: An apparatus and method for manufacturing a silicon nano dot thin film capable of emitting light are provided to obtain the silicon nano dot thin film having a uniform doping concentration without damage by depositing an Si based matrix thin film using a PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) and simultaneously doping luminescent material in the thin film using a sputtering process. CONSTITUTION: An apparatus for manufacturing a silicon nano dot thin film capable of emitting light is provided with a chamber(10) having a gas supply line(1) and a gas exhaust line(6), and a shower head(2) connected with the gas supply line in the chamber. The apparatus further includes a stage(4) opposite to the shower head for loading a substrate(3) and a sputter gun(7) at one sidewall of the chamber toward the substrate. A matrix thin film is deposited on the substrate by using the plasma(9) between the shower head and substrate. At this time, luminescent material is doped in the thin film by using the sputter gun.

    Abstract translation: 目的:提供一种能够发射光的硅纳米点薄膜的制造装置和方法,以通过使用PECVD(等离子体增强化学品)沉积Si基基质薄膜来获得具有均匀掺杂浓度而不损坏的硅纳米点薄膜 气相沉积),并使用溅射工艺在薄膜中同时掺杂发光材料。 本发明提供一种能够发光的硅纳米点薄膜的制造装置,具有:具有气体供给管线(1)和排气管线(6)的室(10),以及与 气室中的气体供应管线。 该装置还包括与淋浴喷头相对的台(4),用于将衬底(3)和溅射枪(7)装载到腔室的一个侧壁朝向衬底。 通过使用淋浴头和基底之间的等离子体(9)将基质薄膜沉积在基底上。 此时,通过使用溅射枪将发光材料掺杂在薄膜中。

    가스감지 센서 및 그의 형성방법
    43.
    发明公开
    가스감지 센서 및 그의 형성방법 有权
    气体检测传感器及其形成方法

    公开(公告)号:KR1020110098423A

    公开(公告)日:2011-09-01

    申请号:KR1020100018043

    申请日:2010-02-26

    Inventor: 박종혁 오지영

    Abstract: 가스감지 센서 및 그 형성방법이 제공된다. 가스감지 센서의 형성방법은 기판 상에 감지 전극을 형성하는 것, 그리고 감지 전극에 접촉하며, 금속 산화물 나노입자를 포함하는 감지막을 형성하는 것을 포함한다. 감지막은 용액 공정(solution process)을 수행하여 형성된다.

    금속 산화물 형성 방법 및 이를 포함하는 트랜지스터 구조체 형성 방법
    44.
    发明公开
    금속 산화물 형성 방법 및 이를 포함하는 트랜지스터 구조체 형성 방법 无效
    形成金属氧化物的方法及其形成晶体结构的方法

    公开(公告)号:KR1020100065036A

    公开(公告)日:2010-06-15

    申请号:KR1020090030256

    申请日:2009-04-08

    Abstract: PURPOSE: A method for forming a metal oxide and a method for forming a transistor structure including the same are provided to efficiently form the metal oxide by forming a doped zinc oxide with a solution process method. CONSTITUTION: A metal oxide precursor solution and an alcohol based solution are prepared. The metal oxide precursor solution comprises dopant chemical species. The alcohol based solution includes alkaline chemical species. A reactant is formed by reacting the metal oxide precursor solution with the alcohol based solution. A metal oxide(150) is formed by refining the reactant.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于形成金属氧化物的方法和形成包含该金属氧化物的晶体管结构的方法,以通过用溶液处理方法形成掺杂的氧化锌来有效地形成金属氧化物。 构成:制备金属氧化物前体溶液和醇基溶液。 金属氧化物前体溶液包括掺杂剂化学物质。 醇基溶液包括碱性化学物质。 通过使金属氧化物前体溶液与醇基溶液反应形成反应物。 通过精制反应物形成金属氧化物(150)。

    나노 복합체의 제조방법 및 이를 이용한 염료감응 태양전지의 제조방법
    47.
    发明公开
    나노 복합체의 제조방법 및 이를 이용한 염료감응 태양전지의 제조방법 有权
    纳米复合材料及其制造方法,以及透明的太阳能电池

    公开(公告)号:KR1020090033713A

    公开(公告)日:2009-04-06

    申请号:KR1020070098887

    申请日:2007-10-01

    Abstract: A nanocomposite is provided to increase a surface area of nanoparticles in order to improve the amount of dye molecule absorbed and allow electron to move freely using nanotubes. A nanocomposite(120) comprises a plurality of nanotubes formed in a perpendicular direction of a substrate and a plurality of nanoparticles(110) dispersed between the nanotubes(100). The nanotubes and the nanoparticles contain titanium oxide(TiO2), tin oxide(SnO2), zinc oxide(ZnO) and tungsten oxide(WO3) or a mixture thereof. An outer diameter of nanotube is 50nm to 300nm. An inner diameter of nanotube shows 50nm to 200nm. A size of the nanoparticle is 2nm to 50nm. The nanoparticle has a formation of sphere, tube, rod or tubular shape.

    Abstract translation: 提供纳米复合材料以增加纳米颗粒的表面积,以改善吸收的染料分子的量,并允许电子使用纳米管自由移动。 纳米复合材料(120)包括在基底的垂直方向上形成的多个纳米管和分散在纳米管(100)之间的多个纳米颗粒(110)。 纳米管和纳米颗粒含有氧化钛(TiO 2),氧化锡(SnO 2),氧化锌(ZnO)和氧化钨(WO 3)或其混合物。 纳米管的外径为50nm至300nm。 纳米管内径为50nm〜200nm。 纳米颗粒的尺寸为2nm至50nm。 纳米颗粒具有球形,管状,棒状或管状形状。

    다중 구조의 나노와이어 및 그 제조방법
    49.
    发明授权
    다중 구조의 나노와이어 및 그 제조방법 失效
    多结构纳米及其形成方法

    公开(公告)号:KR100853200B1

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:KR1020070035723

    申请日:2007-04-11

    Abstract: A nanowire of multi-structure and a fabrication method thereof are provided to obtain a nanowire for optical element or electronic device by jointing silicon nanowire at both ends of compound semiconductor nanorod. A nanowire of multi-structure(100) has: a nanorod(110) of group II-VI compound or group III-V compound; and a silicon nanowire(130) which is jointed with each end in the opposite site of the nanorod and extended to each end of the nanorod, respectively. The compound semiconductor is one selected from a group consisting of AlN, AlP, AlAs, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs, InSb, AlInGaP, AlGaAs, InGaN, CdS, CdSe, CdTe, ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, TiO2, HgTe and CdHgTe. A fabrication method of the nanowire of multi-structure comprises steps of: preparing a number of compound semiconductor; forming catalyst tip(120) at both ends of the nanorod; and growing silicon nanowire at both ends of the nanorod having catalyst tip. The catalyst tip is removed by wet-process after completing the growing of the silicon nanowire. The step of growing the silicon nanowire comprises a process comprising steps of: dispersing the nanorod on a substrate; and putting the substrate having the dispersed nanorod to a chamber in a silicon source atmosphere and subjecting the chamber to heat-treatment in order to decompose the silicon source to silicon element or silicon molecule.

    Abstract translation: 提供多结构的纳米线及其制造方法,以通过在化合物半导体纳米棒的两端连接硅纳米线来获得光学元件或电子器件的纳米线。 多结构(100)的纳米线具有:II-VI族化合物或III-V族化合物的纳米棒(110); 和一个硅纳米线(130),其分别与纳米棒的相对位置的每个端部连接并分别延伸到纳米棒的每一端。 化合物半导体是选自AlN,AlP,AlAs,GaN,GaP,GaAs,InP,InAs,InSb,AlInGaP,AlGaAs,InGaN,CdS,CdSe,CdTe,ZnO,ZnS,ZnSe,ZnTe,TiO2中的一种 ,HgTe和CdHgTe。 多结构纳米线的制造方法包括以下步骤:制备多种化合物半导体; 在纳米棒的两端形成催化剂尖端(120); 并在具有催化剂末端的纳米棒的两端生长硅纳米线。 在完成硅纳米线的生长之后,通过湿法除去催化剂尖端。 生长硅纳米线的步骤包括以下步骤:将纳米棒分散在基底上; 并将具有分散的纳米棒的基板放置在硅源气氛中的室中,并对该室进行热处理,以将硅源分解成硅元素或硅分子。

    유기 유전박막을 구비한 분자 전자 소자 및 그 제조 방법
    50.
    发明授权
    유기 유전박막을 구비한 분자 전자 소자 및 그 제조 방법 失效
    具有有机介电薄膜的分子电子器件及其制造方法

    公开(公告)号:KR100848312B1

    公开(公告)日:2008-07-24

    申请号:KR1020060103137

    申请日:2006-10-23

    Abstract: 하부 도전층과 분자 활성층과의 사이에 형성된 유기 유전박막을 포함하는 분자 전자 소자 및 그 제조 방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 분자 전자 소자는 기판과, 기판 위에 형성되어 있는 유기 유전박막과, 유기 유전박막 위에 형성되어 있고 전하 트랩 사이트를 가지는 분자 활성층과, 분자 활성층 위에 형성된 전극을 포함한다. 유기 유전박막은 전극 또는 Si층 위에 자기조립 방법으로 고정화될 수 있다. 유기 유전박막은 상호 수소 결합되어 있는 제1 분자층 및 제2 분자층을 포함할 수 있다. 유기 유전박막은 M'-RT (식중, M'은 티올 유도체 또는 실란 유도체이고, R은 F로 치환 또는 비치환된 C
    1 ∼ C
    20 의 포화 또는 불포화 탄화수소기이고, T는 -NH
    2 또는 -COOH)로 표시되는 구조를 가지는 유기 화합물이 기판상에 자기조립됨으로써 형성될 수 있다.
    분자 전자 소자, 유기 유전박막, 아민알킬티올, 분자 활성층, 자기조립

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