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公开(公告)号：CN1310709C
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN03805881.2
申请日：2003-04-08
Applicant: 陶氏康宁爱尔兰有限公司
Inventor： A·J·古德温 , J·P·S·拜德耶尔 , P·莫林 , C·斯帕诺斯
IPC: B05D7/24
CPC classification number: B05D1/62
Abstract: 在基材表面上形成聚合物涂层的方法，该方法包括步骤：活化含一种或多种酸和/或酸酐基团和至少一种可聚合基团的至少一种可聚合的有机酸或酸酐单体和/或含一种或多种碱性基团和至少一种可聚合基团的至少一种可聚合的有机碱单体，这通过使所述单体经历软电离等离子工艺如低压脉冲等离子或大气压辉光放电处理而进行；和在基材表面上沉积来自步骤(I)的活化单体，从而在所述基材表面上形成聚合物涂层，同时保持单体的酸和/或碱官能度。优选的可聚合基团是链烯基。由以上方法得到的聚合物盐涂层具有优良的阻挡性能和根据本发明的涂层将提高基材的亲水、生物相容、防垢和控制表面pH的应用如过滤和分离介质。
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公开(公告)号：CN1942256A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200480041771.X
申请日：2004-12-16
Applicant: 太阳化学公司
Inventor： 沃伊切赫·A·维尔恰克
IPC: B05D3/06 , B32B27/00 , B32B27/20 , B32B27/30 , B32B27/38 , B32B27/08 , C08F2/46 , C08F2/48 , C08F2/52 , C08J7/18
CPC classification number: B05D7/542 , B05D1/36 , B05D1/62 , B05D3/067 , B05D3/068 , B05D7/546 , B41M1/04 , B41M1/06 , B41M1/10 , B41M5/52 , B41M5/5254 , B41M7/0081 , C08J7/18 , D06P5/2011 , Y10T428/31511 , Y10T428/31536 , Y10T428/31935
Abstract: 在衬底上形成具有残留官能(反应)团的等离子体聚合物，在该等离子聚合物涂覆的衬底上涂敷可辐射固化涂层组合物，该可辐射固化组合物被辐射固化。该可辐射固化组合物包含与该等离子体聚合物的反应基团形成聚合物的成分，将固化的组合物固定到该等离子体聚合物上，而等离子体聚合物则被固定在该衬底上。
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公开(公告)号：CN1263654C
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN00801625.9
申请日：2000-07-26
Applicant: 普拉斯蒂派克包装公司
Inventor： 威廉·A·斯莱特
CPC classification number: B32B27/08 , B05D1/62 , B05D7/227 , B29B2911/1402 , B29B2911/14026 , B29B2911/14033 , B29B2911/1404 , B29B2911/14053 , B29B2911/14066 , B29B2911/1408 , B29B2911/14093 , B29B2911/14106 , B29B2911/14113 , B29B2911/14133 , B29B2911/1416 , B29B2911/14186 , B29B2911/14213 , B29B2911/1424 , B29B2911/14266 , B29B2911/14326 , B29B2911/1433 , B29B2911/14333 , B29B2911/14336 , B29B2911/14426 , B29B2911/1444 , B29B2911/14466 , B29B2911/14646 , B29B2911/14993 , B29C49/0073 , B29C49/04 , B29C49/221 , B29C59/103 , B29C59/12 , B29C59/16 , B29C2035/0855 , B29C2049/027 , B29C2791/001 , B29K2077/00 , B29K2105/26 , B29K2995/0067 , B29K2995/0069 , B29L2031/7158 , B29L2031/716 , B32B37/153 , B32B2255/10 , B32B2255/20 , B32B2272/00 , B32B2307/402 , B32B2310/0862 , B32B2439/00 , B65D23/02 , C23C16/045 , C23C16/26 , Y10T428/1352 , Y10T428/1379 , Y10T428/1383 , Y10T428/30 , Y10T428/31855 , Y10T428/31909 , Y10T428/31913
Abstract: 一种吹塑容器(10)，具有抗渗性并包括具有开口(13)的上壁部；位于上壁部(12)下方的中间侧壁部(14)，以及位于中间侧壁部下方支持容器的底部(16)。该容器包括至少由40%回收塑料形成的具有内表面(22)和外表面的一模塑外层(24)，以及一碳涂层形成在外层(26)内表面并粘附其上且大体上与外层作同等扩张，其中所述碳涂层的厚度小于约10微米。所述碳涂层具有沿所述容器的垂直长度上在0.05到10微米范围内变化的厚度。
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公开(公告)号：CN1791701A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200480011126.3
申请日：2004-04-23
Applicant: 亚利桑那西格玛实验室公司
CPC classification number: B05D5/083 , B01D2325/48 , B05D1/60 , B05D1/62 , B05D3/0493 , B05D3/142 , B05D3/144 , B05D2201/00 , B05D2202/00 , B05D2203/00 , B05D2256/00 , C23C8/02 , C23C8/20 , C23C8/80 , C23C14/562 , C23C28/00 , C23C30/00 , D06M10/025 , D06M10/08 , D06M10/10 , D06M14/18 , D06M14/20 , D06M14/22 , D06M14/24 , D06M14/26 , D06M14/28 , D06M14/30 , D06M14/32 , D06M14/34 , D06M14/36 , D06M15/263 , D06M15/277 , D21H19/08 , D21H19/16 , D21H19/82
Abstract: 在等离子场(20)中预处理多孔基体(12)，并且在真空汽相沉积室(10)中在多孔基体之上立刻闪蒸(22)、沉积并固化(24)功能化的单体。通过明智地控制工艺过程以便所得到的聚合物敷层以不延伸越过材料中的孔隙的超薄层(大约0.02－ 3.0μm)的方式粘附到单根纤维的表面，多孔基体(12)的多孔性基本未受影响，同时纤维和最终产品获得了希望的功能性。所得到的聚合物层还用于改善金属和陶瓷敷层的粘附力和耐久性。
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公开(公告)号：CN1255682C
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN200410005810.2
申请日：2004-01-28
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01N33/543 , C12Q1/68 , C03C17/34
CPC classification number: B01L3/508 , B01L7/52 , B01L2300/163 , B05D1/62 , B05D2203/35 , C03C17/30
Abstract: 提供了一种处理生化反应体系中所用基质表面的方法，该方法包括通过汽相沉积下式(1)化合物和下式(2)化合物而在所述表面上形成聚合物膜：其中，R是甲基与乙基中的一个，X是甲基与三氟甲基中的一个，n1是1-3的整数，n2是1-10的整数，m是1-10的整数。(RO)3-Si-(CH2)n1-X (1)；(RO)3-Si-(CH2)n2-(CF2)m-X (2)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1241243C
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN03122983.2
申请日：2003-04-23
Applicant: 旺宏电子股份有限公司
IPC: H01L21/312
Abstract: 一保护层沉积在一基底的表面上，其是由等离子体增强型化学气相沉积制造工艺而形成，然后在保护层上沉积一高分子层。此基底放置在一反应室内的垫块上，接着在至少一等离子体源影响下，氟碳气体导入反应室中，此氟碳气体可以是CFx气体，此至少一等离子体源包括通过使用无线电频率等离子体能量离子化氟碳气体的第一等离子体源，以及在沉积保护层时的无线电频率及沉积高分子层时较大的偏压，使用一几近于零的自偏压至基底的第二等离子体源。沉积高分子之前先沉积保护层以保护基底表面，避免沉积高分子层时损坏基底。
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公开(公告)号：CN1219912C
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN01806380.2
申请日：2001-03-02
Applicant: LG电子株式会社
IPC: C23C16/54
CPC classification number: B05D1/62 , B05D3/148 , B05D2252/02 , C23C16/509 , C23C16/545 , C23C16/56
Abstract: 本发明公开了至少包含一个室的等离子聚合系统。在所述室中产生反应性气体的等离子体而使片材表面聚合之后，向该室中加入氧气和氮气的混合气体以阻止片材聚合性能的恶化。空气可作为混合气体供应。
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公开(公告)号：CN1656249A
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN03811891.2
申请日：2003-05-26
Applicant: 肖特股份公司
Inventor： 斯特凡·贝勒 , 安德烈亚斯·吕特林豪斯-亨克尔 , 哈特穆特·鲍赫
CPC classification number: C23C16/54 , B05D1/62 , B08B7/00 , B29C49/421 , B29C2049/4221 , B29C2791/001 , B65D23/02 , B65G2201/0244 , C08J9/0004 , C08J2300/14 , C23C14/046 , C23C14/505 , C23C14/56 , C23C16/045 , C23C16/401 , C23C16/458 , C23C16/511 , H01J37/32733
Abstract: 为了使基体(11)的真空涂层变得更经济，本发明提出一种用于对基体进行真空涂层的设备(1)，它包括：一运输装置；至少一个具有多个涂层台位(91～94)的涂层站(7、71、72、......、7N)，该涂层台位在运输装置上被运输；和一用于抽真空的装置；以及一用于在运输装置上旋转涂层台位(91～94)的装置。
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公开(公告)号：CN1193114C
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：CN01806109.5
申请日：2001-03-02
Applicant: LG电子株式会社
IPC: C23C16/54
CPC classification number: C23C16/45502 , B05D1/62 , B05D3/0486 , B05D2252/02 , C23C16/4412 , C23C16/455 , C23C16/545
Abstract: 本发明提供了一种等离子聚合装置，其包括至少一个室，在该室中要涂布的片可以连续移动；至少一个向该室供应反应性气体的气体入口；和至少一个将反应性气体排出该室的气体出口，其中气体入口和气体出口以这样的方式设置在室上，即反应性气体的流动方向基本上与板的移动方向平行。
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公开(公告)号：CN1161821C
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：CN00801762.X
申请日：2000-08-14
Applicant: LG电子株式会社
IPC: H01L21/205 , H01L21/302 , C23C16/32
CPC classification number: B05D1/62 , H01J37/32009 , H01J37/32541 , H01J2237/3382
Abstract: 本发明涉及等离子聚合设备，包括：聚合室，用于通过高压放电在衬底的表面进行聚合；放电电极，安装在聚合室的内部；相对电极，具有多个均匀边沿以便在电极的表面形成均匀的电场；高压加载单元，用于将高压施加到电极；气体提供单元，用于向聚合室内提供单体气体和非单体气体；和泵吸单元，用于保持聚合室内的真空。本发明可以保持电极的均匀性，因此通过保持电极每个部分上的电流密度和碳化程度可以制造出高质量的聚合膜。
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