保护涂料组合物
    41.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1310709C

    公开(公告)日:2007-04-18

    申请号:CN03805881.2

    申请日:2003-04-08

    CPC classification number: B05D1/62

    Abstract: 在基材表面上形成聚合物涂层的方法,该方法包括步骤:活化含一种或多种酸和/或酸酐基团和至少一种可聚合基团的至少一种可聚合的有机酸或酸酐单体和/或含一种或多种碱性基团和至少一种可聚合基团的至少一种可聚合的有机碱单体,这通过使所述单体经历软电离等离子工艺如低压脉冲等离子或大气压辉光放电处理而进行;和在基材表面上沉积来自步骤(I)的活化单体,从而在所述基材表面上形成聚合物涂层,同时保持单体的酸和/或碱官能度。优选的可聚合基团是链烯基。由以上方法得到的聚合物盐涂层具有优良的阻挡性能和根据本发明的涂层将提高基材的亲水、生物相容、防垢和控制表面pH的应用如过滤和分离介质。

    在图案化材料上形成高分子层的方法

    公开(公告)号:CN1241243C

    公开(公告)日:2006-02-08

    申请号:CN03122983.2

    申请日:2003-04-23

    CPC classification number: B05D1/62 B05D3/142 B05D5/083

    Abstract: 一保护层沉积在一基底的表面上,其是由等离子体增强型化学气相沉积制造工艺而形成,然后在保护层上沉积一高分子层。此基底放置在一反应室内的垫块上,接着在至少一等离子体源影响下,氟碳气体导入反应室中,此氟碳气体可以是CFx气体,此至少一等离子体源包括通过使用无线电频率等离子体能量离子化氟碳气体的第一等离子体源,以及在沉积保护层时的无线电频率及沉积高分子层时较大的偏压,使用一几近于零的自偏压至基底的第二等离子体源。沉积高分子之前先沉积保护层以保护基底表面,避免沉积高分子层时损坏基底。

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