公开(公告)号：CN1107877C

公开(公告)日：2003-05-07

申请号：CN98105604.0

申请日：1998-01-20

Applicant: 日本皮拉工业株式会社

Inventor： 谷野吉弥

IPC: G02B1/10

CPC classification number: G02B5/0891 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明的目的是提供对激光等高能光束照射具有充分耐力并适合用作高能光束用的反射镜、衍射光栅等的镜面体。本发明的镜面体是在作为碳化硅烧结体的基体(2)的表面上被覆形成由化学蒸镀的碳化硅膜(3)，将该膜表面加工成镜面(3)。在离碳化硅膜(3)的镜面300以内深度d范围内存在碳化硅的无缺陷结晶层(3b)。碳化硅膜(3)形成强取向的结晶，以便使在用密勒指数表示的特定的一个结晶面[例如(220)面]上X射线的衍射强度比达到峰值强度的90%以上。

公开(公告)号：CN1337047A

公开(公告)日：2002-02-20

申请号：CN00802927.X

申请日：2000-01-18

Applicant: X射线光学系统公司

Inventor： 陈泽武

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明提供了一种光学曲面元件及其制作方法,其中,一个柔性层粘结到一个厚的环氧树脂层上,环氧树脂层的作用是使柔性层的形状与所需形状相一致。环氧树脂层在压力的作用下,经历高粘性的塑变,并且,使柔性层的形状与模具曲面的形状相一致。作用在环氧树脂上的压力,可通过给底板施加压力来获得。在环氧树脂的塑变压力的作用下,只要柔性层的光学平滑表面与模具的曲面之间良好地接触,即能够消除柔性层的光学表面的不平整性,而且也能够在环氧树脂固化和去离模具时,保持柔性层的形状。除了环氧树脂材料之外,也能够采用其他材料(例如热塑材料)来粘结和保持柔性层。

公开(公告)号：CN1327596A

公开(公告)日：2001-12-19

申请号：CN00802292.5

申请日：2000-05-30

Applicant: 穆鲁丁阿布贝克诺维奇·库马科夫

Inventor： 穆鲁丁阿布贝克诺维奇·库马科夫

IPC: G21K1/02 ,  G21K1/06 ,  G21K5/04 ,  A61N5/10

CPC classification number: C03B23/047 ,  A61N5/10 ,  A61N2005/1091 ,  A61N2005/1095 ,  B82Y10/00 ,  C03B23/0473 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70216 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/067 ,  Y02P40/57

Abstract: 一种本发明通过透镜装置可增强辐射的集成程度,使用高能量的粒子,并改善装置的参数,使用该参数取决于上述因素的透镜。该透镜有一组具有各种集成(合)度的小透镜(18和19),其中有最低级集成(合)度的透镜采用一种管道(通道)形式。小透镜由发明性工作产生,其中在管道内的气体媒质的压力比先前集成度的小透镜之间的间隙的压力大,且温度足够地使小透镜的材料软化,从而粘到墙壁上。

公开(公告)号：CN107408417B

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201680018150.2

申请日：2016-03-23

Applicant: 株式会社理学

Inventor： 河原直树

IPC: G21K1/06 ,  G01N23/223

CPC classification number: G01N23/223 ,  G01N23/207 ,  G01N23/22 ,  G01N2223/315 ,  G21K1/06 ,  G21K1/062 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/06 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: 本发明的双重弯曲X射线分光元件(1)夹持于凸模成形夹具(21)所具有的双重弯曲凸面(21a)、与凹模成形夹具(22)所具有的与双重弯曲凸面(21a)吻合的双重弯曲凹面(22a)之间，在加热到400℃～600℃、按照具有双重弯曲面的形状而变形的玻璃板(3)的凹面(3a)上，形成反射X射线的反射膜(5)。

公开(公告)号：CN108431903A

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201680046657.9

申请日：2016-06-30

Applicant: 塞博利亚·贾斯瓦尔

Inventor： 塞博利亚·贾斯瓦尔

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 用于0.1nm至250nm的极紫外/软X射线谱/DUV的涂层包括与亚波长“B层”交替的一个或多个亚波长“A层”。A层可以包括第1族、第2族和第18族材料。B层可以包括过渡金属、镧系元素、锕系元素或它们的组合之一。A层和/或B层可以包括纳米结构，其特征的尺寸或形状类似于预期的缺陷。附加的顶层可以包括较高原子序数的A层材料、疏水材料或带电材料。这样的材料可以用于制造用于诸如光刻、晶片图案化、天文和空间应用、生物医学、生物技术应用或其他应用等应用中的例如反射镜、透镜或其他光学器件、面板、光源、光掩模、光刻胶等部件或其他部件。

公开(公告)号：CN108431693A

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201680075231.6

申请日：2016-10-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 玛丽亚·皮特 ,  埃里克·阿奇里斯·阿贝格 ,  A·J·M·吉斯贝斯 ,  J·H·克洛特韦克 ,  马克西姆·A·纳萨勒维奇 ,  W·T·A·J·范登艾登 ,  威廉·琼·范德赞德 ,  彼得-詹·范兹沃勒 ,  J·P·M·B·沃缪伦 ,  D·F·弗莱斯 ,  W-P·福尔蒂森

IPC: G03F7/20 ,  B01D67/00 ,  G03F1/62 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70983 ,  G21K2201/067

Abstract: 披露了制造用于光刻设备的表膜的方法。在一种配置中，该方法包括将至少一个石墨烯层(2)沉积在衬底(6)的平坦表面(4)上。该衬底包括第一衬底部分和第二衬底部分(12)。该方法还包括移除第一衬底部分，以便由所述至少一个石墨烯层形成独立隔膜(14)。该独立隔膜由第二衬底部分支撑。

公开(公告)号：CN105027257B

公开(公告)日：2018-05-15

申请号：CN201480010996.2

申请日：2014-03-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 苏梅德拉·N·巴曼 ,  卡拉·比斯利 ,  阿布海杰特·巴苏·马利克 ,  拉尔夫·霍夫曼 ,  妮琴·K·英吉

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/20

CPC classification number: G03F1/24 ,  G03F7/164 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种极紫外线镜或坯料生产系统包括：第一沉积系统，用于在半导体基板之上沉积平坦化层；第二沉积系统，用于在该平坦化层之上沉积超平滑层，该超平滑层具有经重组的分子；以及第三沉积系统，用于在该超平滑层之上沉积多层堆叠物。该极紫外线坯料包括：基板；该基板之上的平坦化层；该平坦化层之上的超平滑层，该超平滑层具有经重组的分子；多层堆叠物；以及该多层堆叠物之上的覆盖层。一种极紫外线光刻系统包括：极紫外线光源；镜，用于导引来自该极紫外线光源的光；中间掩模台，用于置放带有平坦化层和在该平坦化层之上的超平滑层的极紫外线掩模坯料；以及晶片台，用于置放晶片。

公开(公告)号：CN104011568B

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201280064971.1

申请日：2012-11-14

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J.劳夫 ,  H.费尔德曼 ,  M.莱

IPC: G02B5/09 ,  G21K1/06 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7015 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/09 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70316 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 一种用于EUV辐射(14)的反射镜(20)，包含总反射表面(24)，该总反射表面具有第一EUV辐射反射区和至少一个第二EUV辐射反射区，其中所述EUV辐射反射区在结构上彼此定界开，所述第一区包含至少一个第一部分反射表面(22)，所述第一部分反射表面(22)在各个情况下由所述至少一个第二区沿着周边(31)围绕，所述至少一个第二EUV辐射反射区包含至少一个第二部分反射表面(23)，该第二部分反射表面以路径连接的方式实现且以连续方式实现。

公开(公告)号：CN107078454A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201480083028.4

申请日：2014-12-15

Applicant: 极光先进雷射株式会社

Inventor： 柿崎弘司 ,  诹访辉 ,  若林理

IPC: H01S3/13 ,  H01S3/101 ,  H01S3/225

CPC classification number: G02B26/10 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/352 ,  G02B26/101 ,  G02B26/12 ,  G21K5/08 ,  G21K5/10 ,  G21K2201/067 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02592 ,  H01L21/0268 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L27/1285

Abstract: 该激光照射装置可以具备：激光装置，其输出脉冲激光；光束扫描光学系统，其将从激光装置输出的脉冲激光分配至多个光路；多个光束均匀器，它们分别配置于多个光路，分别使分配至多个光路的脉冲激光的光强分布均匀化；以及控制部，其将光束扫描光学系统控制成，将从激光装置输出的脉冲激光按照每个脉冲分配至多个光路。

公开(公告)号：CN103348415B

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201280007951.0

申请日：2012-02-02

Applicant: 皇家飞利浦有限公司

Inventor： T·克勒 ,  E·勒斯尔

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/067 ,  A61B6/0407 ,  A61B6/4035 ,  A61B6/4078 ,  A61B6/4291 ,  A61B6/4441 ,  A61B6/484 ,  A61B6/508 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/067 ,  G21K2207/005

Abstract: 本发明涉及X射线微分相衬成像。为了增强通过相衬成像采集的信息，用于X射线微分相衬成像的分析光栅(34)被提供有吸收结构(48)。后者包括第一多个(50)第一区域(52)和第二多个(54)第二区域(56)，所述第一区域(52)具有第一X射线衰减，所述第二区域(56)具有第二X射线衰减。所述第二X射线衰减小于所述第一X射线衰减，并且以交替的方式周期性地布置所述第一区域和第二区域。第三多个(58)第三区域(60)被提供有第三X射线衰减，其在从所述第二X射线衰减到所述第一X射线衰减的范围之内，其中，每第二个所述第一区域或每第二个所述第二区域被一个所述第三区域取代。