Abstract:
Cette source d'électrons à émission de champ comporte une pointe (12-14) émettrice d'électrons dont la plus grande largeur de sa section transversale est supérieure à 0,4 mm, la face extérieure de cette pointe étant réalisée dans un matériau composite formé d'une matrice en matériau électriquement isolant à l'intérieur de laquelle et à la surface de laquelle sont réparties aléatoirement des particules de carbone pour rendre électriquement conductrice la pointe. Les particules de carbone représentent moins de 40% en masse du matériau composite. Les particules de carbone sont des particules de noir de carbone présentant une surface spécifique de plus de 150 m 2 /g ou de poudre de graphite et la pointe est entièrement réalisée dans ce matériau composite.
Abstract:
Vorrichtung zur Eigenschaftsänderung eines dreidimensionalen Formteils (2) mittels Elektronen, umfassend mindestens einen Elektronengenerator (4a; 4b) zum Erzeugen von beschleunigten Elektronen und zwei Elektronenaustrittsfenster (6a; 6b), wobei die beiden Elektronenaustrittsfenster (6a; 6b) gegenüberliegend angeordnet sind und einen Prozessraum begrenzen, durch den das Formteil (2) mittels eines Formteilführungssystems (7) hindurchführbar und die gesamte Oberfläche, die gesamte Randschicht oder das gesamte Volumen des Formteils (2) in einem Durchlauf mit Elektronen beaufschlagbar ist.
Abstract:
An energy ray generating device (1a) comprises an electron gun (2), a vacuum vessel (3), and an outgoing window forming part (10a or 10b). The electron gun (2) comprises a resin member (4), a case (5), a connector (6), a filament (7), and internal wires (9a, 9b). The case (5) comprises inner surfaces (5a, 5b) facing each other in the Z-axis direction and inner surfaces (5c, 5d) facing each other in the X-axis direction and an opening (5g) passing from the inner surface (5a) to the outer surface. The resin member (4) is disposed in contact with the inner surfaces (5a, 5c) of the case (5) and apart from the other inner surfaces (5b, 5d to 5f). The resin member (4) comprises a projecting part (4b) projecting from the opening (5g). The filament (7) is fitted to the end of the projecting part (4b). The connector (6) is disposed on the inner surface (5c). Consequently, the effect of the expansion of the resin member (4) due to heating with a high voltage can be effectively suppressed.
Abstract:
Canon à électrons à anode focalisante, formant une fenêtre de ce canon, application à l'irradiation et à la stérilisation. Ce canon comprend une enceinte (2) sous vide, contenant une cathode (6) ayant une face émettrice d'électrons (8), et une anode (4) formée dans l'une des parois de l'enceinte et transparente aux électrons. L'anode est courbe pour résister à la différence de pression entre l'intérieur et l'extérieur de l'enceinte. La face émettrice est également courbe et coopère avec l'anode pour focaliser les électrons à l'extérieur de l'enceinte.
Abstract:
Powders and aggregates are treated in pneumatic transfer as a thin layer moving at high velocity with electrons from a selfshielded electron beam processor of voltage less than or equal to 500 kilovolts.
Abstract:
An electron beam source or generator (20) is described for the treatment of materials, such as toxics, as influent in a reaction chamber. Preferred embodiments of the system include a source (100) of an oxidizing agent in fluid communication with the influent. The oxidizing agent together with a dose of electron beam promotes reaction of the contaminant into less toxic forms so as to provide greatly enhanced destruction of contaminant that are otherwise resistant to oxidizing reactions.
Abstract:
A device for leading out a charge-particle beam into the atmosphere comprising at least one scanning electromagnet (4, 5) for creating an alternating deflection field ensuring periodical movements of the beam along the surface of the outlet window (2) of a vacuum chamber (1), at least one permanent magnet (12) for deflecting the beam outside from the outlet window (2) and at least one compensating winding (13) for creating a deflection field to compensate the deflection field of the permanent magnet (12). The compensating winding (13) is connected to a direct current source (15) through a circuit breaker (14) ensuring connection of the compensating winding (13) to the direct current source (15) in the presence of the alternating deflection field and ensuring disconnection of the compensating winding (13) from the direct current source (15) in the absence of the said field.
Abstract:
A non-mechanical contact signal measurement apparatus includes a first conductor on a structure under test and a gas in contact with the first conductor. At least one electron beam is directed into the gas so as to induce a plasma in the gas where the electron beam passes through the gas. A second conductor is in electrical contact with the plasma. A signal source is coupled to an electrical measurement device through the first conductor, the plasma, and the second conductor when the plasma is directed on the first conductor. The electrical measurement device is responsive to the signal source.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Behandlung von Formteilen (2) mit energiereichen Elektronenstrahlen (10), bei der die Elektrodenstrahlen (10) durch zwei sich gegenüberliegende stationäre oder bewegliche Elektronenaustrittsfenster auf das Formteil (2) geleitet werden, die einen Prozessraum (6) für das Formteil (2) begrenzen. Es ist eine Transporteinrichtung für das Formteil (2) vorhanden, mit der das Formteil (2) an den senkrecht zur Transportrichtung im wesentlichen vertikal angeordneten Elektronenaustrittsfenstern (7,8) vorbei durch den Prozessraum (6) führbar ist und dass für den Zutransport des Formteils (2) ein gegenüber der Röntgenstrahlung im Prozessraum (6) weitgehend abgeschirmter Kanal (3, 3a, 3b, 3c) angeordnet ist.
Abstract:
Verfahren zum Ändern der Stoffeigenschaften eines dreidimensionalen Formteils (2) mittels Elektronen, wobei mindestens ein Elektronengenerator (4a; 4b; 4c) Elektronen erzeugt und derart durch mindestens drei Elektronenaustrittsfenster (6a; 6b; 6c), die den Querschnitt eines Prozessraumes (7) weitgehend vollständig umschließen, beschleunigt, dass die Elektronen die gesamte Oberfläche, Randschicht oder das gesamte Volumen des Formteils (2) während einer Durchquerung des Prozessraumes (7) beaufschlagen, wobei mittels einer ersten Einrichtung (8; 9) die über die Fläche mindestens eines Elektronenaustrittsfensters (6c) abgegebene Elektronenenergiedichte derart gesteuert wird, dass über einzelne Teilbereiche des Elektronenaustrittsfensters (6c) in Abhängigkeit von der Geometrie des Formteils (2) oder/und der Position des Formteils (2) im Prozessraum (7) unterschiedliche Elektronenenergiedichten abgegeben werden.