TDI 검출 디바이스, 피드-스루 장비 및 이들 디바이스를 이용하는 전자빔 장치
    41.
    发明公开
    TDI 검출 디바이스, 피드-스루 장비 및 이들 디바이스를 이용하는 전자빔 장치 有权
    TDI传感设备,馈通设备和使用这些设备的电子束设备

    公开(公告)号:KR1020040005966A

    公开(公告)日:2004-01-16

    申请号:KR1020037014904

    申请日:2002-05-14

    Abstract: 전자빔장치는 TDI센서(64) 및 피드스루장치(50)를 포함한다. 피드스루장치는 상이한 환경을 분리시키는 플랜지(51)에 부착된 핀(52) 및 상기 핀(52)과 쌍을 이루는 또 다른 핀(53)을 상호접속시키는 소켓컨택트954)를 가지고, 상기 핀(52), 또 다른 핀(53) 및 소켓컨택트(54)가 함께 접속블럭을 구성하고, 소켓컨택트(54)는 탄성부재(61)를 가진다. 따라서, 다수의 접속블럭이 제공되더라도, 센서내의 고장을 방지할 수 있도록 접속력이 낮은 수준으로 유지될 수 있다. 핀(53)은 TDI센서(64)와 접속되고, 상기 센서내의 픽셀어레이는, 이미지투영 광학시스템의 광학특성을 토대로 적응가능하게 구성되어 있다. 상기 센서는 다수의 통합스테이지를 가지며, 이는 시야내의 최대 수용가능한 일그러짐을 보다 크게 설정할 수 있도록 이미지투영 광학시스템의 시야를 가능한 한 작게 감소시킬 수 있다. 또한, 통합스테이지의 개수는, TDI센서의 데이터속도가 감소되지 않고, 핀의 개수가 가능한 한 많이 증가하지 않도록 결정된다. 라인 카운트의 수는 통합스테이지의 수와 거의 동일한 것이 바람직하다.

    METHOD FOR DETERMINING A DISTANCE BETWEEN TWO BEAMLETS IN A MULTI-BEAMLET EXPOSURE APPARATUS
    42.
    发明申请
    METHOD FOR DETERMINING A DISTANCE BETWEEN TWO BEAMLETS IN A MULTI-BEAMLET EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
    用于确定多束接触装置中的两束光束之间的距离的方法

    公开(公告)号:WO2012062931A1

    公开(公告)日:2012-05-18

    申请号:PCT/EP2011/070032

    申请日:2011-11-14

    Abstract: The invention relates to a method for determining a distance between two charged particle beamlets in a multi -beamlet exposure apparatus. The apparatus is provided with a sensor comprising a converter element (1) for converting the energy of charged particles (2) into light (3) and a light sensitive detector (5). The converter element is provided with a sensor surface area provided with a two-dimensional pattern of beamlet blocking (8) and non-blocking regions (7). The method comprises scanning a first beamlet over the two-dimensional pattern, receiving light generated by the converter element in response to charged particles being part of the first beamlet transmitted through the two-dimensional pattern, and converting the received light into a first signal by means of the light sensitive detector. Then the two-dimensional pattern and the first beamlet are moved relatively with respect to each other over a predetermined distance. Subsequently, the method continues with scanning a second beamlet over the two- dimensional pattern, receiving light generated by the converter element in response to charged particles being part of the second beamlet transmitted through the two-dimensional pattern, and converting the received light into a second signal by means of the light sensitive detector. Finally, the distance between the first beamlet and second beamlet is determined based on the first signal, the second signal and the predetermined distance.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于确定多束电曝光设备中两个带电粒子束之间的距离的方法。 该装置设置有传感器,其包括用于将带电粒子(2)的能量转换成光(3)的转换器元件(1)和光敏检测器(5)。 转换器元件设置有设置有子束阻挡(8)和非阻挡区域(7)的二维图案的传感器表面区域。 该方法包括在二维图案上扫描第一子束,响应于作为通过二维图案传输的第一子束的一部分的带电粒子接收由转换器元件产生的光,并且将接收的光转换为第一信号,由 光敏探测器的手段。 然后,二维图案和第一子束相对于彼此相对移动预定距离。 随后,该方法继续在二维图案上扫描第二子束,响应于作为通过二维图案传输的第二子束的一部分的带电粒子接收由转换器元件产生的光,并将接收的光转换为 第二信号通过光敏检测器。 最后,基于第一信号,第二信号和预定距离来确定第一子束和第二子束之间的距离。

    IMAGING DEVICE COMPRISING OPTICALLY COUPLED FIBER OPTIC PLATE ASSEMBLY
    43.
    发明申请
    IMAGING DEVICE COMPRISING OPTICALLY COUPLED FIBER OPTIC PLATE ASSEMBLY 审中-公开
    包含光耦合光纤板组件的成像装置

    公开(公告)号:WO2006065476A8

    公开(公告)日:2006-10-26

    申请号:PCT/US2005042340

    申请日:2005-11-21

    Inventor: MOONEN DANIEL

    Abstract: A fiber optic plate assembly is provided for transferring optical signals to a detector or other optical element within an imaging device or imaging system. The fiber optic plate assembly comprises first and second fiber optic plates coupled via an optical coupling gel configured to permit separation of the two plates from each other to permit repair or replacement of one of the plates. Alternatively, the imaging device may comprise a single fiber optic plate coupled directly to an optical detector.

    Abstract translation: 提供了一种用于将光学信号传送到成像装置或成像系统内的检测器或其它光学元件的光纤板组件。 光纤板组件包括通过光学耦合凝胶耦合的第一和第二光纤板,其配置成允许将两个板彼此分开以允许修复或更换其中一个板。 或者,成像装置可以包括直接耦合到光学检测器的单个光纤板。

    撮像装置及びその製造方法
    44.
    发明申请
    撮像装置及びその製造方法 审中-公开
    图像拾取装置及其制造方法

    公开(公告)号:WO2004034471A1

    公开(公告)日:2004-04-22

    申请号:PCT/JP2003/012911

    申请日:2003-10-08

    Abstract:  この発明は、FOPとCCD読出部との接合時に静電破壊し難い構造を備えた撮像装置等に関する。当該撮像装置は、光入射面としての裏面と対向した前面上にCCD読出部が設けられた半導体基板と、半導体基板が固定されるキャビティを有するパッケージと、キャビティの上部開口を覆う蓋と、半導体基板に接合されるFOPと、電気配線とを備える。蓋は、FOPをキャビティ内に挿入するための案内口を有し、半導体基板は、CCD読出部が設けられた領域に対応する部分が薄型化されている。また、半導体基板は、CCD読出部とキャビティ底面とが向き合うように該底面に固定される一方、FOPの出射端面は、案内口からキャビティに挿入された状態で、半導体基板の薄型化された部分に光学的に結合されている。

    Abstract translation: 一种具有当将FOP附着到CCD读出部分时不受静电破坏的结构的图像拾取装置。 图像拾取装置包括:半导体衬底,具有布置在与背面相对的前表面上作为光入射表面的CCD读取部分; 具有固定有半导体基板的空腔的封装体; 用于覆盖空腔的上开口的盖; 附接到半导体衬底的FOP; 和电线。 盖具有用于将FOP插入腔中的引导开口。 半导体衬底具有对应于设置有CCD读取部的区域的变薄部分。 此外,半导体衬底以这样的方式固定到腔体底部,使得CCD读取部分与空腔底部相对。 所述FOP具有从所述引导开口插入所述空腔中的出射端面,以与所述半导体衬底的所述薄化部分光学连接。

    TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE CCD CAMERA
    45.
    发明申请
    TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE CCD CAMERA 审中-公开
    传输电子显微镜CCD摄像机

    公开(公告)号:WO99066529A1

    公开(公告)日:1999-12-23

    申请号:PCT/US1999/013783

    申请日:1999-06-17

    CPC classification number: H01J37/224 H01J2237/04756 H01J2237/26

    Abstract: In order to improve the performance of a CCD camera (12) on a high voltage electron microscope, an electron decelerator (14) is inserted between the microscope column and the CCD (12). This arrangement optimizes the interaction of the electron beam with the scintillator (46) of the CCD camera (12) while retaining optimization of the microscope optics and of the interaction of the beam with the specimen. Changing the electron beam energy between the specimen and camera allows both to be optimized.

    Abstract translation: 为了在高压电子显微镜上提高CCD摄像机(12)的性能,将电子减速器(14)插入显微镜柱和CCD(12)之间。 这种布置优化了电子束与CCD照相机(12)的闪烁体(46)的相互作用,同时保持了显微镜光学元件的优化以及光束与样本的相互作用。 改变样品和照相机之间的电子束能量允许优化。

    RESOLUTION-ENHANCEMENT DEVICE FOR AN OPTICALLY-COUPLED IMAGE SENSOR FOR AN ELECTRON MICROSCOPE
    46.
    发明申请
    RESOLUTION-ENHANCEMENT DEVICE FOR AN OPTICALLY-COUPLED IMAGE SENSOR FOR AN ELECTRON MICROSCOPE 审中-公开
    用于电子显微镜的光耦合图像传感器的分辨率增强器件

    公开(公告)号:WO1997013270A1

    公开(公告)日:1997-04-10

    申请号:PCT/US1996015357

    申请日:1996-09-24

    Applicant: GATAN, INC.

    CPC classification number: H01J37/224 H01J29/892 H01J2237/2443 H01J2237/2445

    Abstract: An apparatus designed to be positioned in the projection chamber (10) of an electron microscope to detect electron images and/or diffraction patterns from a sample and convert those electron images into light images using a scintillator (22) is provided. The apparatus transfers light images to an imaging sensor (26) for recording while enhancing resolution of the light images by using a light absorptive layer (36) on said scintillator to absorb substantially all laterally scattered light before it reaches the imaging sensor.

    Abstract translation: 一种被设计为位于电子显微镜的投影室(10)中的设备,用于检测来自样品的电子图像和/或衍射图案,并使用闪烁体(22)将这些电子图像转换成光图像。 该装置将光图像传送到用于记录的成像传感器(26),同时通过在所述闪烁体上使用光吸收层(36)来增强光图像的分辨率,以在其到达成像传感器之前吸收基本上所有横向散射的光。

    檢查裝置
    48.
    发明专利
    檢查裝置 审中-公开
    检查设备

    公开(公告)号:TW201603101A

    公开(公告)日:2016-01-16

    申请号:TW104108926

    申请日:2015-03-20

    Abstract: 本發明的目的係在提供一種檢查裝置,其係可以高對比將檢查對象之表面的凹凸之狀態進行檢查。檢查裝置具備:波束產生手段,係使荷電粒子或電磁波之任一者產生並作為波束;1次光學系統,係將波束照射在檢查對象;2次光學系統,係檢測從檢查對象產生之次級帶電粒子;以及畫像處理系統,係根據所檢測之次級帶電粒子而形成畫像。波束之照射能量係被設定在會藉由波束的照射而從檢查對象釋出反射鏡電子作為次級帶電粒子之能量區域。2次光學系統具備:攝像機,係用以檢測次級帶電粒子;數值孔徑,係可沿著光軸方向調整位置;以及透鏡,係使通過數值孔徑之次級帶電粒子在攝像機的像面成像。在畫像處理系統中,在將數值孔徑的位置設為物面進行攝影之孔徑成像條件下形成畫像。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明的目的系在提供一种检查设备,其系可以高对比将检查对象之表面的凹凸之状态进行检查。检查设备具备:波束产生手段,系使荷电粒子或电磁波之任一者产生并作为波束;1次光学系统,系将波束照射在检查对象;2次光学系统,系检测从检查对象产生之次级带电粒子;以及画像处理系统,系根据所检测之次级带电粒子而形成画像。波束之照射能量系被设置在会借由波束的照射而从检查对象发佈反射镜电子作为次级带电粒子之能量区域。2次光学系统具备:摄像机,系用以检测次级带电粒子;数值孔径,系可沿着光轴方向调整位置;以及透镜,系使通过数值孔径之次级带电粒子在摄像机的像面成像。在画像处理系统中,在将数值孔径的位置设为物面进行摄影之孔径成像条件下形成画像。

    用於決定在多射束曝光裝置中之兩射束之間的距離之方法 METHOD FOR DETERMINING A DISTANCE BETWEEN TWO BEAMLETS IN A MULTI-BEAMLET EXPOSURE APPARATUS
    49.
    发明专利
    用於決定在多射束曝光裝置中之兩射束之間的距離之方法 METHOD FOR DETERMINING A DISTANCE BETWEEN TWO BEAMLETS IN A MULTI-BEAMLET EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
    用于决定在多射束曝光设备中之两射束之间的距离之方法 METHOD FOR DETERMINING A DISTANCE BETWEEN TWO BEAMLETS IN A MULTI-BEAMLET EXPOSURE APPARATUS

    公开(公告)号:TW201230132A

    公开(公告)日:2012-07-16

    申请号:TW100141405

    申请日:2011-11-14

    IPC: H01J G03F

    Abstract: 本發明關於一種用於決定在多射束曝光裝置中之兩個帶電粒子射束之間的距離之方法。該裝置備有感測器,其包含用於將帶電粒子的能量轉換成為光線的轉換器元件與感光偵測器。該轉換器元件備有感測器表面區域,其備有射束阻隔與非射束阻隔區域的二維圖型。該種方法包含:將第一射束掃描在二維圖型上;接收響應於其為透射通過二維圖型之第一射束部分的帶電粒子而由轉換器元件所產生的光線;且,藉由感光偵測器來將接收的光線轉換成為第一訊號。然後,二維圖型與第一射束是關於彼此而相對移動越過一段預定距離。隨後,該種方法繼續為:將第二射束掃描在二維圖型上;接收響應於其為透射通過二維圖型之第二射束部分的帶電粒子而由轉換器元件所產生的光線;且,藉由感光偵測器來將接收的光線轉換成為第二訊號。最後,在第一射束與第二射束之間的距離是基於第一訊號、第二訊號與預定距離來決定。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明关于一种用于决定在多射束曝光设备中之两个带电粒子射束之间的距离之方法。该设备备有传感器,其包含用于将带电粒子的能量转换成为光线的转换器组件与感光侦测器。该转换器组件备有传感器表面区域,其备有射束阻隔与非射束阻隔区域的二维图型。该种方法包含:将第一射束扫描在二维图型上;接收响应于其为透射通过二维图型之第一射束部分的带电粒子而由转换器组件所产生的光线;且,借由感光侦测器来将接收的光线转换成为第一信号。然后,二维图型与第一射束是关于彼此而相对移动越过一段预定距离。随后,该种方法继续为:将第二射束扫描在二维图型上;接收响应于其为透射通过二维图型之第二射束部分的带电粒子而由转换器组件所产生的光线;且,借由感光侦测器来将接收的光线转换成为第二信号。最后,在第一射束与第二射束之间的距离是基于第一信号、第二信号与预定距离来决定。

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