Verfahren zum Drucken von dünnen Metallschichten in einem Keramikschichtaufbau und diesen beinhaltende elektronische Bauteile
    41.
    发明公开
    Verfahren zum Drucken von dünnen Metallschichten in einem Keramikschichtaufbau und diesen beinhaltende elektronische Bauteile 审中-公开
    薄金属层的印刷在陶瓷层结构和这些含电子元件的方法

    公开(公告)号:EP2750488A1

    公开(公告)日:2014-07-02

    申请号:EP12008664.0

    申请日:2012-12-28

    Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft allgemein ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtaufbaus (1), beinhaltend die Schritte:
    a) Bereitstellen einer Keramikschicht (2) mit einer die Keramikschicht (2) mindestens teilweise überlagernden ersten Metallschicht (3);
    b) mindestens teilweises Überlagern der ersten Metallschicht (3) mit einer weiteren Metallschicht (4), beinhaltend mindestens ein Metall der VIII. Nebengruppe;
    c) gegebenenfalls mindestens teilweises Überlagern der ersten Metall-Schicht (3) mit einer zusätzlichen Metallschicht (5), beinhaltend mindestens ein Metall der VIII. Nebengruppe;
    d) mindestens teilweises Überlagern der weiteren Metallschicht (4) oder der zusätzlichen Metallschicht (5) mit einer äußeren Schicht (6);

    wobei das Überlagern in mindestens einem der Schritte b) bis d) durch Drucken mittels einer flüssigen Druckmasse (7, 8, 9) erfolgt, wobei die flüssige Druckmasse (7, 8, 9) eine metallorganische Verbindung in einer Menge in einem Bereich von 5 bis 50 Gew.-%, jeweils bezogen auf die Druckmasse (7, 8, 9) beinhaltet

    Abstract translation: 该方法包括提供陶瓷层(2)与第一金属层(3)部分地重叠的陶瓷层。 所述第一金属层是部分重叠有第二金属层(4)和含有第八子组的金属的第三金属层(5)。 第二金属层或第三金属层被部分地叠加在外层(6),通过使用液体印刷质量,其在有机金属化合物中,在量的范围内含有5重量印刷含有金属选自%至50 重量相对于打印质量%。 因此独立权利要求中包括了以下内容:(1)的层结构(2)的层结构的前体(3)至电元件(4)的车辆(5)的试剂盒。

    METALLIZED SUBSTRATE, METAL PASTE COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING METALLIZED SUBSTRATE
    47.
    发明公开
    METALLIZED SUBSTRATE, METAL PASTE COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING METALLIZED SUBSTRATE 审中-公开
    METALLISIERTES SUBSTRAT,METALLPASTENZUSAMMENSETZUNG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES METALLISIERTEN SUBSTRATS

    公开(公告)号:EP2661160A1

    公开(公告)日:2013-11-06

    申请号:EP11853108.6

    申请日:2011-12-02

    Abstract: The present invention provides: a method for manufacturing a metallized substrate by which a fine pattern can be formed more easily; a metallized substrate manufactured by the method; and a metal paste composition to be used in the method. The metallized substrate has: a sintered nitride ceramic substrate (10); a titanium nitride layer (20) on the sintered substrate (10); an adhesion layer (30) on the titanium nitride layer (20); and a copper plating layer (40) on or above the adhesion layer (30), wherein the adhesion layer (30) contains copper and titanium, and has a thickness of no less than 0.1 µm and no more than 5 µm.

    Abstract translation: 本发明提供一种金属化基板的制造方法,能够更容易地形成精细图案; 通过该方法制造的金属化基板; 以及该方法中使用的金属糊剂组合物。 金属化基板具有:烧结氮化物陶瓷基板(10); 在所述烧结基板(10)上的氮化钛层(20); 在氮化钛层上的粘附层(30); 以及在所述粘合层(30)上或上方的镀铜层(40),其中所述粘合层(30)含有铜和钛,并且具有不小于0.1μm且不大于5μm的厚度。

    Wiring substrate and method for manufacturing the same
    48.
    发明公开
    Wiring substrate and method for manufacturing the same 有权
    Verdrahtungssubstrat und Herstellungsverfahrendafür

    公开(公告)号:EP2479788A2

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:EP12164665.7

    申请日:2007-12-04

    Abstract: A wiring substrate (10) has a pad (12) formed from a plurality of metal layers (26, 27, 28) and a via (13,17,29) connected to the pad. The plurality of metal layers have a metal layer (26) exposed through the wiring substrate, and a first metal layer (27) which is interposed between the metal layer and via and which prevents diffusion of metal included in the via into the metal layer. A second metal layer (28) which is less subject to oxidation than the first metal layer (27) is provided between the via (13) and the first metal layer, and the via is connected to a roughened surface of the second metal layer. An insulation layer (11) covers the side surfaces of the pad and the roughened surface of the second metal layer except for a region of the surface exposed by an opening section (25) in which the via is provided.

    Abstract translation: 布线基板(10)具有由多个金属层(26,27,28)形成的焊盘(12)和与焊盘连接的通孔(13,17,29)。 多个金属层具有通过布线基板露出的金属层(26),以及介于金属层和通孔之间的第一金属层(27),并且防止通孔中包含的金属扩散到金属层中。 在通孔(13)和第一金属层之间设置有比第一金属层(27)更少受到氧化的第二金属层(28),并且通孔连接到第二金属层的粗糙表面。 除了由设置有通孔的开口部分(25)暴露的表面的区域之外,绝缘层(11)覆盖焊盘的侧表面和第二金属层的粗糙表面。

    Wiring method
    50.
    发明公开
    Wiring method 失效
    Verdrahtungsverfahren。

    公开(公告)号:EP0298422A2

    公开(公告)日:1989-01-11

    申请号:EP88110710.6

    申请日:1988-07-05

    Applicant: HITACHI, LTD.

    Abstract: In conducting wiring by masking the portion other than the portion to be wired of a metallic laminate (2) with a photoresist (6) for plating and subjecting only the portion to be wired to pattern plating (7), the provision of a noble metal layer (5) made of gold, platinum or the like, or a metallic layer (5) made of a metal having a larger ionization tendency than that of a metal used in the pattern plating (7) on the metallic layer constituting the undercoat of the photoresist (6) for plating enables the peeling of the resist (6) for plating to be prevented and excellent fine wiring to be conducted.

    Abstract translation: 在通过用金属层压体(2)的布线部分以外的部分与用于电镀的光致抗蚀剂(6)进行掩模的接线来进行布线,并且仅使所述布线部分进行图案电镀(7),提供贵金属 或由金,铂等制成的层(5)或金属层(5),金属层(5)由构成底层的金属层上的图案电镀(7)中使用的金属离子化倾向大的金属制成 用于电镀的光致抗蚀剂(6)能够防止用于电镀的抗蚀剂(6)的剥离,并且进行优良的精细布线。

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