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公开(公告)号：KR1020170096821A
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：KR1020160018552
申请日：2016-02-17
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 김정엽
IPC: H04N5/44
CPC classification number: H04N5/44
Abstract: 디스플레이부, 전자장치의접촉을감지하고, 상기전자장치와통신하는통신부및 상기전자장치와연관된기능을인식하고, 인식된상기기능을조작하기위한 UI(user interface)를상기디스플레이부에표시하고, 상기 UI에대해상기기능을조작하기위한사용자입력을제어장치로부터수신하는제어부를포함하는디스플레이장치가개시된다.
Abstract translation: 有显示部，检测电子设备的一个接触，并且所述电子设备与所述通信单元和用于操作识别与所述电子设备相关联的功能的功能的UI（用户接口）进行通信，并识别出在显示单元上的显示， 以及控制单元，用于从控制装置接收用于操作UI的功能的用户输入。
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公开(公告)号：KR100604795B1
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：KR1019990052659
申请日：1999-11-25
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302
Abstract: 캐리어 필름 및 그 제조 방법에 관해 개시되어 있다. 캐리어 베이스와, 상기 캐리어 베이스의 상부 가장자리를 따라 구비된 지지링, 및 상기 지지링 안 쪽에서 상기 캐리어 베이스의 상부에 부착되는 캐리어 필름을 포함하는 화학기계적연마장치에 있어서, 상기 캐리어 필름은 영역에 따라 압축률이 다르고 최대 압축률은 최소 압축률의 2배 정도인 것을 특징으로 하는 화학기계적연마장치용 캐리어 필름 및 그 제조 방법이 개시되어 있다. 웨이퍼 상에서 연마량이 많은 영역은 캐리어 필름의 압축률이 작은 영역이 대응되게 하고, 연마량이 작은 영역은 캐리어 필름의 압축률이 큰 영역이 대응되도록한다. 이러한 캐리어 필름을 이용함으로써, 웨이퍼 내의 지역적인 단차를 완화하여 전 영역을 균일하게 연마할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020020073036A
公开(公告)日：2002-09-19
申请号：KR1020010013192
申请日：2001-03-14
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/31053 , H01L21/31055
Abstract: PURPOSE: A method for fabricating a semiconductor device is provided to reduce a dishing phenomenon generated from a CMP(Chemical Mechanical Polishing) process without forming a dummy pattern. CONSTITUTION: A conductive layer(22) is formed on a semiconductor substrate(20). The first stopper layer(24) is formed thereon. A plurality of conductive patterns are formed by etching the first stopper layer(24) and the conductive layer(22). An interlayer dielectric(26) is formed on a whole surface of the semiconductor substrate(20). The second stopper layer is formed on the interlayer dielectric(26). A photoresist layer is coated on the second stopper layer. The interlayer dielectric(26) of a cell region is removed and a part of the second stopper layer is polished by performing the first polishing process. The second stopper layer is removed from a peripheral region by performing the second polishing process.
Abstract translation: 目的：提供一种用于制造半导体器件的方法，以减少由CMP（化学机械抛光）工艺产生的凹陷现象而不形成虚拟图案。 构成：在半导体衬底（20）上形成导电层（22）。 第一阻挡层（24）形成在其上。 通过蚀刻第一阻挡层（24）和导电层（22）形成多个导电图案。 在半导体衬底（20）的整个表面上形成层间电介质（26）。 第二阻挡层形成在层间电介质（26）上。 光致抗蚀剂层被涂覆在第二阻挡层上。 去除单元区域的层间电介质（26），并通过执行第一抛光处理来抛光第二阻挡层的一部分。 通过进行第二研磨处理，从周边区域除去第二阻挡层。
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公开(公告)号：KR100343148B1
公开(公告)日：2002-07-06
申请号：KR1020000066828
申请日：2000-11-10
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/31
Abstract: 공정을 단순화시키고, 게이트 상부절연막의 손실을 억제하여 비트라인과 게이트와의 단선을 억제하고, 게이트 구조형성 후 적층되는 층간절연막의 보이드 발생을 억제할 수 있는 반도체 소자의 콘택패드 형성방법에 관해 개시한다. 이를 위해 본 발명은, 반도체 기판에 게이트 상부절연막을 포함하는 게이트 구조와, 정지층(stopping layer) 및 층간절연막을 형성하고 수행하는 화학기계적 연마공정에서, 게이트 상부절연막과 층간절연막과의 연마선택비가 높은 슬러리를 이용하여 상기 적어도 게이트 상부절연막이 노출되도록 상기 층간절연막을 평탄화하고, 상기 층간절연막에 콘택패드가 형성될 영역을 식각 후, 콘택패드용 도전물질을 증착하고 수행하는 화학기계적 연마공정에서 게이트 상부절연막과 상기 콘택패드용 도전물질과의 연마선택비가 높은 슬러리를 이용하여 평탄화를 진행한다.
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公开(公告)号：KR1020010110528A
公开(公告)日：2001-12-13
申请号：KR1020000031032
申请日：2000-06-07
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302
Abstract: 균일도(uniformity)를 개선하고, 커패시터 하부전극의 높이를 높여 커패시턴스를 늘릴 수 있는 2단계 화학기계적 연마를 통한 하부전극층 분리방법에 관해 개시한다. 이를 위해 본 발명은, 제1 절연막이 형성된 반도체 기판에 매몰 콘택홀을 형성하고 상기 매몰 콘택홀을 채우는 플러그를 형성하는 공정과, 상기 매몰 콘택 플러그가 형성된 반도체 기판 위에 식각정지층, 제2 절연막 및 캡핑층을 순차적으로 형성하는 공정과, 상기 식각정지층, 제2 절연막 및 캡핑층을 패터닝하여 상기 매몰 콘택 플러그를 노출시키는 오목형상의 제2 절연막 패턴을 형성하는 공정과, 상기 제2 절연막 패턴이 형성된 반도체 기판 위에 하부전극층 및 충진용 제3 절연막 패턴을 형성하는 공정과, 상기 하부전극층이 노출되도록 제1 연마제를 이용하여 1차 화학기계적 연마를 진행하는 공정과, 상기 제2 절연막 표면이 노출되도록 제2 연마제를 이용하여 2차 화학기계적 연마를 진행하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 2단계 화학기계적 � �마를 통한 하부전극층 분리방법을 제공한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020010105589A
公开(公告)日：2001-11-29
申请号：KR1020000026182
申请日：2000-05-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
Abstract: A method for monitoring client interaction with a resource downloaded from a server in a computer network includes the steps of using a client to specify an address of a resource located on a first server, downloading a file corresponding to the resource from the first server in response to specification of the address, using the client to specify an address of a first executable program located on a second server, the address of the first executable program being embedded in the file downloaded from the first server, the first executable program including a software timer for monitoring the amount of time the client spends interacting with and displaying the file downloaded from the first server, downloading the first executable program from the second server to run on the client so as to determine the amount of time the client interacts with the file downloaded from the first server, using a server to acquire client identifying indicia from the client, and uploading the amount of time determined by the first executable program to a third server. The first executable program may also monitor time, keyboard events, mouse events, and the like, in order to track choices and selections made by a user in the file, and may execute upon the occurrence of a predetermined event, as well as monitoring or determining the amount of information downloaded by the client. The monitored information and client identifying indicia is stored on a database in a server for use in analysis and for automatically serving out files assembled according to user interests and preferences.
Abstract translation: 一种用于监视与从计算机网络中的服务器下载的资源的客户端交互的方法包括以下步骤：使用客户端来指定位于第一服务器上的资源的地址，响应于从第一服务器下载对应于资源的文件 使用所述客户端来指定位于第二服务器上的第一可执行程序的地址，所述第一可执行程序的地址被嵌入在从所述第一服务器下载的文件中，所述第一可执行程序包括软件定时器 用于监视客户端与第一服务器交互并显示从第一服务器下载的文件的时间量，从第二服务器下载第一可执行程序以在客户端上运行，以便确定客户端与下载的文件交互的时间量 从第一个服务器，使用服务器从客户端获取客户端识别标记，并上传tim数量 e由第一可执行程序确定为第三服务器。 第一可执行程序还可以监视时间，键盘事件，鼠标事件等，以便跟踪用户在文件中做出的选择和选择，并且可以在发生预定事件时执行，以及监视或 确定客户端下载的信息量。 所监视的信息和客户端识别标记被存储在服务器中的数据库上以用于分析，并且根据用户兴趣和偏好自动地输出组装的文件。
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公开(公告)号：KR100304663B1
公开(公告)日：2001-09-29
申请号：KR1019980053119
申请日：1998-12-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N9/44
Abstract: 칼라 조명색 온도 검출 방법 및 장치가 개시된다. 본 칼라 조명색 온도 검출 방법은 임의의 영상을 선택하여 그 영상에 대하여 각 RGB 채널별로 평균값을 계산함으로써 RGB 평균벡터값을 구하는 단계와, 1 보다 큰 양의 정수인 소정의 계수 f를 정의하고 RGB 평균벡터값의 f 배를 선택된 영상에 대한 임시적인 조명색으로 추정하는 단계와, 일광궤적상에서 임시적인 추정 조명색에 가장 가까운 조명색을 조명색으로 추정하는 단계와, 인간의 시감 특성을 사용한 자체 발광 영역을 설정하기 위하여 1 보다 큰 양의 정수인 소정의 계수를 k라 할때 추정 조명색의 k 배를 자체 발광 문턱치로 설정하는 단계와, 자체발광문턱치를 초과하는 RGB 값을 가지는 자체발광영역을 제거함으로써 자체발광영역이 제거된 영상을 생성하는 단계, 및 자체발광영역이 제거된 영상의 uv 색도값으로부터 조명색온도를 계산하여 출력� ��는 단계를 포함한다. 본 발명에 따른 칼라 조명색 온도 검출 방법은 인간이 시감적으로 인식하는 영상으로부터 자체발광영역을 선별적으로 제외시킴으로써 안정적이고 효과적으로 조명정보를 추출한다.
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公开(公告)号：KR1019990027890A
公开(公告)日：1999-04-15
申请号：KR1019970050420
申请日：1997-09-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302
Abstract: 반도체 장치의 절연막 평탄화 방법을 개시한다. 본 발명은, 하부 구조가 형성된 반도체 기판 상에 저단차 부분과 고단차 부분을 가지는 제1절연막을 형성한다. 이후에, 제1절연막의 고단차 부분을 노출시키는 마스크(mask)를 형성하여, 노출되는 제1절연막의 고단차 부분을 식각한다. 이어서, 고단차 부분이 식각된 제1절연막 상에 유동성 제2절연막을 형성한다. 이때, 유동성 제2절연막은 유기 SOG막, 무기 SOG막, 유동성 산화막 및 폴리머막(polymer layer) 등으로 형성된다. 다음에, 유동성 제2절연막을 치밀화시킨다. 즉, 유동성 제2절연막을 열처리하거나 전자 빔을 조사하여 큐어링(curing)시키는 방법으로, 유동성 제2절연막을 치밀화시킨다. 더하여, 유동성 제2절연막을 치밀화시키는 단계 이후에, 치밀화된 유동성 제2절연막의 전면을 에치백(etch back)하여 평탄화시키는 단계를 더 포함한다. 이때, 유동성 제2절연막을 대체하여 포토레지스트막(photoresist pattern)을 고단차 부분이 식각된 제1절연막 상에 형성할 수 있다. 이와 같이 형성되는 유동성 제2절연막 또는 포토레지스트막을 에치백 단계에서 평탄화시킨다.
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公开(公告)号：KR1019980065748A
公开(公告)日：1998-10-15
申请号：KR1019970000861
申请日：1997-01-14
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/28
Abstract: 반도체 소자의 금속 배선 형성방법에 대해 기재되어 있다. 이는, 절연막에 금속배선 형성을 위한 홈을 형성하는 공정, 홈이 형성되어 있는 절연막 전면에 장벽금속막을 형성하는 공정, 장벽금속막 상에 금속물질층을 형성하는 공정, 금속물질층 상에 점성을 갖는 물질을 그 표면이 평탄하도록 도포하는 공정, 에치백 공정을 행하여 점성을 갖는 물질은 완전히 제거함과 동시에 절연막이 노출되지 않을 정도로 점성을 갖는 물질과 금속물질층을 식각하는 공정 및 절연막이 노출될 때 까지 화학 물리적 폴리슁을 행하여 홈에만 금속물질층을 남김으로써 금속 배선을 형성하는 공정을 구비하여, 침식과 디슁이 없는 금속 배선을 형성할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1019970052669A
公开(公告)日：1997-07-29
申请号：KR1019950057205
申请日：1995-12-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
Abstract: 열 또는 압력을 이용하여 폴리싱 패드의 무늬 형성방법에 관하여 개시한다. 본 발명은 스프트 패드, 접착제인 글루층 및 하드패드로 구성된 폴리싱패드를 준비하는 단계와, 상기 하드 패드상에 요철을 가진 단단한 수단으로 이용하여 열 또는 압력을 가하여 상기 하드패드에 원하는 무늬를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 패드의 무늬 형성방법을 제공한다. 본 발명의 폴리싱 패드는 슬러리에 의한 손상을 피할수 있고 하드패드상에 슬러리 이동이 원활하여 평탄도 및 막질 제거등이 우수하다.
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