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公开(公告)号：KR100770983B1
公开(公告)日：2007-10-30
申请号：KR1020030022444
申请日：2003-04-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G06F1/16
CPC classification number: F16M11/2021 , F16M11/10 , F16M11/2092 , F16M11/24 , F16M11/38 , F16M2200/044 , F16M2200/063
Abstract: 본 발명은, 모니터본체와, 상기 모니터본체를 지지하는 베이스부재를 포함하는 모니터장치에 있어서, 상기 모니터본체와 상기 베이스부재 사이에 개재된 제1링크부재와; 상기 모니터본체와 상기 베이스부재 사이에 개재되며, 상기 제1링크부재에 근접하게 마련된 제2링크부재와; 상기 베이스부재에 결합되며, 상기 제1링크부재 및 상기 제2링크부재의 하단부를 회동가능하게 지지하는 제1하단지지부 및 제2하단지지부를 갖는 베이스브래킷과; 상기 모니터본체에 대해 회동가능하게 결합되며, 상기 제1링크부재 및 상기 제2링크부재의 상단부를 회동가능하게 지지하는 제1상단지지부 및 제2상단지지부를 갖는 연결브래킷과; 상기 베이스부재의 판면에 대해 상기 제1링크부재를 상향 부세시키도록 상기 제1링크부재와 상기 제1하단지지부 사이에 마련된 제1스프링부재와; 상기 베이스부재의 판면에 대해 상기 제2링크부재를 상향 부세시키도록 상기 제2링크부재와 상기 제2하단지지부 사이에 마련된 제2스프링부재를 포함하며, 상기 제1링크부재 및 상기 제2링크부재를 각각 회동가능하게 지지하는 상기 제1하단지지부의 회동축선 및 제2하단지지부의 회동축선 사이의 간격이 상기 제1상단지지부 및 상기 제2상단지지부의 회동축선 사이의 간격보다 큰 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 모니터본체의 높이 및 틸팅각도를 자유롭게 조절할 수 있으며, 모니터본체의 높이를 조정할 때 사용자의 응시각도에 맞게 모니터본체의 틸팅각도가 변할 수 있다.
Abstract translation: 本发明中，所述主体和，在包括基座部件支撑监视器主体的监视装置中，设置在监视器主体和基座部件之间的第一连杆构件; 第二连杆部件，介于所述监控器主体和所述基座部件之间，所述第二连杆部件与所述第一连杆部件相邻设置; 耦合到所述基座构件，所述第一连杆构件和具有第一底部支撑件和第二支撑部，以支撑可旋转的第二连杆构件的下端的底部的基座支架; 它可旋转地联接相对于监视器主体，其中，所述第一连杆构件和具有第一上支撑和第二支撑部分，以在第一可旋转地支撑所述第二连杆构件的上端部的顶部的连接支架; 第一弹簧构件，设置在所述第一连杆构件和所述第一下端支撑部之间，以将所述第一连杆构件向上推压抵靠所述基座构件的所述板表面; 向所述基座件向上偏压所述支撑件和第二弹簧构件，所述第一连杆构件和第二连杆构件之间，设置在第二连杆构件和第二连杆构件和第二底的表面 是旋转轴线的旋转轴线和用于分别可旋转地支撑所述第一下支撑部分的第二下支承部分之间的距离，并且大于在所述支撑件的顶部上的第一上支承件和第二旋转轴线之间的间距较大的 。 以这种方式，能够调整高度和显示器的倾斜角度主体自如，以调节主体的高度有可以根据用户的注视角度来改变所述监视器主体的倾斜角度。
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公开(公告)号：KR1020070084764A
公开(公告)日：2007-08-27
申请号：KR1020060016948
申请日：2006-02-21
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: A23B7/105 , A23B7/04 , A23L3/003 , F25D23/028
Abstract: A food storage apparatus designed to sterilize bacteria living on food is provided, which stores food fresh for a long time, maintains the freshness of food at the target level by inhibiting the excessive fermentation of food, prevents secondary pollution by aerobic bacteria and produces a more sanitary product. A food storage apparatus for sterilizing food which is stored in a storage container(102) by applying electrical energy to the food comprises: a storage room(122) to receive the storage container; one or more electrode parts(104a,104b) to form an electric field in the interior space of the storage room; and additionally a door(128), door sensor, power supply apparatus, switch and a control part for inhibiting power supply to the electrode parts at the power supply apparatus. The voltage supplied from one or more electrode parts at the power supply apparatus is 100V to 10kV(AC or DC).
Abstract translation: 本发明提供了一种食物储存装置，用于对食物中的细菌进行消毒，通过抑制食物的过量发酵，将食物长时间保存在食品中，保持食品的新鲜度，防止有氧细菌二次污染，产生更多的食物 卫生用品。 一种用于对通过向食物施加电能而储存在存储容器（102）中的食物消毒的食物储存装置包括：容纳储存容器的储藏室（122） 一个或多个电极部分（104a，104b），以在储藏室的内部空间中形成电场; 以及门（128），门传感器，电源装置，开关和控制部分，用于禁止在电源装置处对电极部分的电力供应。 从供电装置的一个或多个电极部分提供的电压为100V至10kV（AC或DC）。
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公开(公告)号：KR1020060099811A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：KR1020050021276
申请日：2005-03-15
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04N5/655
CPC classification number: F16M11/10 , F16M11/2021 , F16M2200/08 , Y10S248/919
Abstract: 본 발명은, 화상이 형성되는 디스플레이부와, 설치면에 배치되어 상기 디스플레이부를 지지하는 베이스부와, 상기 베이스부와 상기 디스플레이부 사이에 마련된 스탠드부를 구비한 디스플레이장치에 관한 것으로서, 상기 디스플레이부와 상기 스탠드부 사이에 마련되어, 상기 스탠드부를 상기 디스플레이부의 후방면에 대해 절첩가능하게 지지하는 제1힌지부와; 상기 스탠드부와 상기 베이스부 사이에 마련되어, 상기 베이스부가 상기 스탠드부의 판면에 대해 가로지르는 방향으로 배치되는 지지위치와 상기 디스플레이부의 후방면에 접힌 상기 스탠드부의 판면방향으로 상기 스탠드부의 일측에 나란하게 배치되는 접이위치 간을 회동가능하도록 지지하는 제2힌지부와; 상기 베이스부의 상기 지지위치와 상기 접이위치 간 회동을 저지 및 허용하는 잠금수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 의해 베이스부가 지지위치에서 스탠드부에 대해 임의로 회동되는 것이 저지되어 설치면에 대해 스탠드부와 디스플레이부를 지지하게 되고, 포장 시에는 베이스부가 접이위치로의 회동이 허용되어 스탠드부와 함께 디스플레이본체의 후방면에 평행하게 배치되도록 접힘에 따라 포장부피를 줄일 수 있는 디스플레이장치가 제공된다.Abstract translation: 本发明涉及一种显示装置，其具有形成图像的显示部分，设置在安装表面上以支撑显示部分的基部以及设置在基部和显示部分之间的支架部分， 第一铰链部分，所述第一铰链部分设置在所述支架部分之间以相对于所述显示部分的后表面可折叠地支撑所述支架部分; 支架单元和所述基部之间，由一侧的基部侧设置成在背面支撑位置所述支架部分和设置在横向方向相对于印刷板的显示部的一侧与所述支架部的折板表面方向上的支架部 第二铰链部分，用于可旋转地支撑第一铰链部分和第二铰链部分之间的折叠位置; 并且锁定装置用于阻止和允许基部在支撑位置和折叠位置之间旋转。
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公开(公告)号：KR1020040013247A
公开(公告)日：2004-02-14
申请号：KR1020020046096
申请日：2002-08-05
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/205
Abstract: PURPOSE: Vertical type low pressure chemical vapor deposition equipment is provided to lower a temperature of the edge of a wafer under that of the center of the wafer by cooling a part of an inner tube into which a wafer-mounted wafer boat is loaded and by rotating the wafer boat while the temperature is set lower than that of other portions. CONSTITUTION: A plurality of wafers(145) are stacked on the wafer boat(140). The wafer boat is loaded/unloaded into/from the inner tube(120) whose upper portion is open. An outer tube(130) surrounds the inner tube, separated from the inner tube by a predetermined interval. A heat unit heats the inside of the inner tube, surrounding the outer surface of the outer tube. A unit(160) of decreasing locally wafer temperature is installed in the inner tube so that the edge temperature of the wafers located in the inner tube becomes lower than the center temperature of the wafers. A reaction gas supply apparatus(170) supplies reaction gas reacting with the wafer. An exhausting apparatus(180) exhausts used gas and residual gas.
Abstract translation: 目的：提供垂直型低压化学气相沉积设备，用于通过冷却载入晶片的晶片舟皿的内管的一部分来降低晶片边缘在晶圆中心的温度，并通过 在将温度设定为低于其它部分的温度的同时旋转晶片舟皿。 构成：多个晶片（145）堆叠在晶片舟（140）上。 晶片舟装载/卸载在其上部打开的内管（120）上。 外管（130）围绕内管以预定的间隔与内管隔开。 加热单元加热内管的内部，围绕外管的外表面。 将本地晶片温度降低的单元（160）安装在内管中，使得位于内管中的晶片的边缘温度变得低于晶片的中心温度。 反应气体供给装置（170）提供与晶片反应的反应气体。 排气装置（180）排出废气和残留气体。
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公开(公告)号：KR1020030018377A
公开(公告)日：2003-03-06
申请号：KR1020010052082
申请日：2001-08-28
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/22
Abstract: PURPOSE: A method for purging a vertical diffusion furnace apparatus is provided to reduce a process time and improve productivity by purging particles from a process tube. CONSTITUTION: A plurality of wafers are loaded into a boat(201). A purge process is finished in a closing state of a shutter when the wafers are fully loaded into the boat(202). The boat is loaded into the inside of a process tube in an opening state of the shutter(203). A particular layer is deposited on the wafer by supplying a reaction gas to the wafer(204). The boat is unloaded by a boat elevator after the particular layer is deposited on the wafer(205). The purge process is performed by supplying N2 gas in the closing state of the shutter(206). The deposited wafer is transferred from the cassette to a predetermined position(207).
Abstract translation: 目的：提供一种用于吹扫垂直扩散炉装置的方法，以通过从处理管中吹扫颗粒来减少处理时间并提高生产率。 构成：将多个晶片装载到舟皿（201）中。 当晶片完全装载到船（202）中时，快门的关闭状态完成清洗处理。 在快门（203）的打开状态下，船被装载到处理管的内部。 通过向晶片（204）供应反应气体将特定的层沉积在晶片上。 在特定层沉积在晶片（205）上之后，船上的船只被卸载。 通过在快门（206）的关闭状态下供给N 2气体来进行吹扫处理。 沉积的晶片从盒转移到预定位置（207）。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019990031412A
公开(公告)日：1999-05-06
申请号：KR1019970052120
申请日：1997-10-10
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/306
Abstract: 웨이퍼위에 형성되어 있는 막을 화학기상증착 장치를 이용하여 제거하는 웨이퍼 스트립 방법을 개시한다. 이 방법은 막이 형성되어 있는 웨이퍼를 장착한 보트를 화학기상증착 장치의 튜브내로 인입하는 단계와, 상기 튜브내로 스트립 가스를 주입하여 상기 웨이퍼 위에 형성되어 있는 막을 제거하는 단계를 구비한다.
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公开(公告)号：KR1019980043663A
公开(公告)日：1998-09-05
申请号：KR1019960061615
申请日：1996-12-04
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H03F3/45
Abstract: 본 발명은 비교기를 공개한다. 제1클럭신호 및 제2클럭신호에 각각 응답하여 입력전압 및 기준전압을 각각 전달하기 위한 제1, 제2스위칭 수단, 상기 제1 및 2스위칭 수단으로 부터의 전하를 충전하기 위한 제1캐패시터, 인에이블 신호에 응답하여 온되어 상기 제1캐패시터로 부터의 전압을 반전하기 위한 제1 3상태 인버터, 상기 제2클럭신호에 응답하여 상기 제1 3상태 인버터의 입력단자와 출력단자사이를 연결하기 위한 제3스위칭 수단, 상기 제1 3상태 인버터의 출력단자로 부터의 전하를 충전하기 위한 제2캐패시터, 상기 인에이블 신호에 응답하여 온되어 상기 제2캐패시터로 부터의 전압을 반전하기 위한 제2 3상태 인버터, 상기 제2클럭신호에 응답하여 상기 제2 3상태 인버터의 입력단자와 출력단자사이를 연결하기 위한 제4스위칭 수단, 상기 제2 3상태 인버터의 출력단자로 부터의 전하를 충전하기 위한 제3캐패시터, 상기 인에이블 신호에 응답하여 온되어 상기 제3캐패시터로 부터의 전압을 반전하기 위한 제3 3상태 인버터, 상기 제2클럭신호에 응답하여 상기 제3 3상태 인버터의 입력단자와 출력단자를 연결하기 위한 제5스위칭 수단, 및 상기 제3 3상태 인버터의 출력신호를 반전하여 출력전압을 발생하기 위한 인버터로 구성되어 있다.
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公开(公告)号：KR1019970068178A
公开(公告)日：1997-10-13
申请号：KR1019960007532
申请日：1996-03-20
Applicant: 삼성전자주식회사
Inventor： 임정수
IPC: H03M1/12
Abstract: 본 발명은 아날로그 디지탈 변환기의 기준 전압을 낮추어서 이득(Gain)을 증폭시키는 아날로그 이득 조정기를 포함하는 아날로그 디지탈 변환기에 관한 것으로, 다수 비트의 이득 제어 신호를 이용하여 이득을 조정하여 인가되는 아날로그 신호를 증폭시키는 아날로그 이득 조정부(10), 상기 아날로그 신호의 증폭 효과를 상대적으로 증가시키기 위해 다른 이득 제어 신호(M7)를 이용하여 기준 전압(Vr)을 감소시키는 기준 전압 조정부(30), 및 상기 기준 전압 조정부(30)로 부터 출력되는 조정 기준 전압(Vr')을 기준으로 상기 아날로그 이득 조정부(10)로 부터 출력되는 증폭된 아날로그 신호를 디지탈 신호로 변환하는 A/D 변환부 (20)로 구성된다.
따라서 본 발명은 아날로그 이득 조정기의 이득 증폭의 일부분의 A/D 변환기의 기준 전압을 변화시키므로써 얻어 아날로그 이득 조정기의 단수가 증가함에 따라 발생되는 잡음을 개선할 수 있고, 아날로그 이득 조정기의 각 단마다 사용되는 다수의 연산 증폭기와 캐패시터로 칩의 면적이 늘어나는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.-
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公开(公告)号：KR1020150039282A
公开(公告)日：2015-04-10
申请号：KR1020130117627
申请日：2013-10-02
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 전기분해장치및 분사장치를구비하여조리실내벽에생성된오염물질표면에알칼리수를고르게분사시킬수 있도록마련되는조리기기를제공하고자한다. 일실시예에따른조리기기는내부에조리실이형성된본체, 외부로부터물을공급받고, 공급된물을전기분해하여알칼리수를생성하는전기분해장치및 생성된알칼리수를이용하여미스트를발생시키고, 미스트를조리실로분사하는분사장치를포함한다.
Abstract translation: 本发明提供一种具有电解装置和喷雾装置的烹调装置，能够在烹调室的内壁产生的污染物的表面均匀地喷洒碱水。 根据本发明，烹饪设备包括：烹饪室内部形成的主体; 电解装置从外部接收水，电解供水，产生碱水; 并且喷雾装置通过使用产生的碱水产生雾，并且向烹饪室喷雾。
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