다층감광막을 이용한 패턴의 선택적 형성 방법
    51.
    发明授权
    다층감광막을 이용한 패턴의 선택적 형성 방법 失效
    选择性图案形成方法使用多层电阻

    公开(公告)号:KR100584681B1

    公开(公告)日:2006-05-30

    申请号:KR1020040049986

    申请日:2004-06-30

    Inventor: 김기범 위정섭

    Abstract: 본 발명은 원자이미지를 이용한 패턴형성방법인 원자이미지 투사 전자빔 리소그라피(AIPEL: atomic image projection electron beam lithography) 기술에 관한 것이며, 특히 AIPEL공정에서 다층감광막을 사용하여 미세패턴을 형성하기 위한 방법에 관한 것이다. 순차적으로 전자빔용 감광막(electron beam resist)과 포토레지스트(photoresist)를 도포하여 다층 감광막을 형성한 후, 미세 패턴(AIPEL 패턴)이 필요한 지점의 영역과 영역의 형태 등을 포토리소그래피 공정을 통하여 선택적으로 결정하며, 이렇게 선택된 영역에서만 드러나는 전자빔용 감광막의 표면에 투사방식의 원자이미지를 이용한 전자빔 리소그래피 공정을 진행하고 현상을 하게 되면, 원하는 위치에 원하는 형태의 최종의 미세 패턴(AIPEL 패턴)을 얻을 수 있다.
    원자이미지, 다층감광막, AIPEL, 포토리소그라피, 전자빔리소그라피

    고분해능 이미지의 배경 잡음 제거를 위한 대물 렌즈 조리개 및 이를 이용한 패턴형성장치
    52.
    发明公开

    公开(公告)号:KR1020060001036A

    公开(公告)日:2006-01-06

    申请号:KR1020040050049

    申请日:2004-06-30

    Inventor: 김기범 김병성

    CPC classification number: G02B21/02 G02B21/36 H01J37/26

    Abstract: 본 발명은 투과전자 현미경용 또는 전자 빔 리소그라피 장치중에서 원자이미지를 이용한 패턴형성 장치용 대물렌즈의 조리개에 관한 것으로, 특히 시편에 조사된 전자빔이 시편을 통과하여 나오는 투과빔(transmitted beam)과 회절빔(diffracted beam)의 간섭에 의해 상이 형성되는 고분해능 이미지형성에 있어서의 배경잡음을 제거할 수 있는 투과전자 현미경용 또는 전자 빔 리소그라피 장치중에서 원자이미지를 이용한 패턴형성 장치용 대물렌즈 조리개의 구조에 관한 것이다.
    대물렌즈 조리개, 배경잡음, 고분해능 이미지, 투과전자현미경, 전자빔 리소그라피 장치, 원자 이미지

    물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 방법 및 그 구조를갖는 기능성 소자
    53.
    发明公开
    물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 방법 및 그 구조를갖는 기능성 소자 失效
    使用结构材料和功能装置的晶体结构形成图案的方法

    公开(公告)号:KR1020020060380A

    公开(公告)日:2002-07-18

    申请号:KR1020010001422

    申请日:2001-01-10

    Inventor: 김기범

    Abstract: PURPOSE: A method for forming a pattern using a crystal structure of a material and a functional device having the structure are provided to form the pattern of the quantum dots and the quantum lines by using the crystal structure of the material having the uniform size and density and capable of precisely controlling the distribution. CONSTITUTION: The material(13) having the crystal structure processed with a thickness of several tens nm in order to penetrate the electron beam(11) is placed on a chamber. The electron beam is divided into a penetration beam and a diffraction beam by the material having the crystal structure. The penetration beam and the diffraction beam pass through an object lens(15) and an aperture(17) of the object lens and form a lattice image of the material having the crystal structure by interfering with each other in the space. The image formed on an image plane is enlarged by a middle lens(19).

    Abstract translation: 目的:提供一种使用材料的晶体结构形成图案的方法和具有该结构的功能器件的方法,通过使用具有均匀尺寸和密度的材料的晶体结构来形成量子点和量子线的图案 并能够精确控制分布。 构成:为了穿透电子束(11),具有处理数十nm厚度的晶体结构的材料(13)被放置在室上。 电子束被具有晶体结构的材料分成穿透光束和衍射光束。 穿透光束和衍射光束通过物镜的物镜(15)和孔(17),并通过在该空间中彼此干涉而形成具有晶体结构的材料的晶格图像。 形成在图像平面上的图像被中间透镜(19)放大。

    전자 장치 및 전자 장치의 핸드오프 기능 제공 방법
    56.
    发明公开
    전자 장치 및 전자 장치의 핸드오프 기능 제공 방법 审中-实审
    提供电子装置的越区切换功能的方法

    公开(公告)号:KR1020170057651A

    公开(公告)日:2017-05-25

    申请号:KR1020150161007

    申请日:2015-11-17

    CPC classification number: G06F13/102 G06F13/128 H04W4/80

    Abstract: 전자장치가개시된다. 본발명의다양한실시예에따른전자장치는통신모듈, 제1 어플리케이션및 제2 어플리케이션을포함하는복수의어플리케이션들을저장하기위한메모리, 및프로세서를포함하고, 프로세서는제1 어플리케이션을실행하고, 제1 어플리케이션의실행에적어도기반하여, 복수의어플리케이션들중에서제2 어플리케이션을선택하고, 통신모듈을이용하여제1 어플리케이션에대응하는제1 정보와제2 어플리케이션에대응하는제2 정보를전자장치에대한외부전자장치로전송하도록설정될수 있다. 이외에도명세서를통해파악되는다양한실시예가가능하다.

    Abstract translation: 公开了一种电子设备。 并且根据本发明的各种实施例的电子设备包括存储器,以及用于存储多个应用程序,包括一个通信模块,第一应用和第二应用的处理器,和执行第一应用程序的处理器,所述第一 的第二信息以外至少基于所述应用程序的执行,用于从多个应用程序中选择第二应用,对应于所述第一信息,并使用所述通信模块向所述电子设备对应于所述第一应用程序的第二应用程序 Lt电子设备。 通过说明书已知的各种实施例也是可能的。

    위치 보정 방법 및 장치
    57.
    发明授权
    위치 보정 방법 및 장치 有权
    位置校正方法和装置

    公开(公告)号:KR101733792B1

    公开(公告)日:2017-05-24

    申请号:KR1020100111568

    申请日:2010-11-10

    Inventor: 김기범 안진왕

    Abstract: 영상을촬영하고, 영상에대응하는위치정보를획득할수 없는경우, 이동방향및 속도를측정하고, 영상에대응하는위치정보를획득할수 있는경우, 선택적으로현재시점의위치정보인현재기준점을획득하고, 측정된이동방향및 속도를이용하여영상에대응하는위치정보를계산하는위치보정방법및 그장치가개시되어있다.

    Abstract translation: 如果不可能获取与图像相对应的位置信息,则测量移动方向和速度,并且如果能够获得与图像相对应的位置信息,则选择性地获取作为当前点的位置信息的当前参考点 以及一种位置校正方法及其装置,用于使用所测量的运动方向和速度来计算与图像相对应的位置信息。

    메모리 관리 방법 및 장치
    58.
    发明公开
    메모리 관리 방법 및 장치 审中-实审
    用于管理存储器的装置和方法

    公开(公告)号:KR1020160143026A

    公开(公告)日:2016-12-14

    申请号:KR1020150079037

    申请日:2015-06-04

    Abstract: 본발명의실시예에따르면, 메모리관리방법에있어서, 연속메모리할당영역의세그먼트에서페이지단위메모리할당요청자및 연속메모리할당요청자의배타적관계를포함하는리스트를설정하는단계, 메모리할당요청을수신하는단계, 상기메모리할당요청자가상기리스트에포함된메모리할당요청자인지확인하는단계및 상기메모리할당자가상기리스트에포함되어있으면, 상기리스트의세그먼트에대응하는연속메모리할당영역의페이지를할당하는단계를포함하는방법및 이를이용하는전자장치를제공할수 있다.

    Abstract translation: 提供了一种用于管理存储器和电子设备的方法。 该方法包括:在页面单元存储器分配请求器和连续的存储器分配请求器之间设置与排列连续的存储器分配区域对应的独占关系的列表,接收存储器分配请求,确认存储器分配请求者是否包括 存储器分配请求者包括在列表中,并且如果存储器分配请求者被包括在列表中,则分配对应于段的连续存储器分配区域的页面。

    사용자의 움직임을 검출하여 사용자 입력을 수신하는 방법 및 이를 위한 장치
    59.
    发明公开
    사용자의 움직임을 검출하여 사용자 입력을 수신하는 방법 및 이를 위한 장치 审中-实审
    通过检测用户的运动和其设备来接收用户输入的方法

    公开(公告)号:KR1020160078160A

    公开(公告)日:2016-07-04

    申请号:KR1020140188998

    申请日:2014-12-24

    Abstract: 사용자가움직임에따라, 터치스크린을포함하는디바이스가, 사용자의움직임에관한정보를획득하는통신부, 획득된사용자의움직임에관한정보에대응하여, 터치스크린상에디스플레이된커서를이동시키는디스플레이부, 및커서가이동됨에따라, 이동된커서가위치하는좌표를드웰시작좌표로써결정하고, 커서가드웰시작좌표로이동한시점부터기준시간동안커서가드웰시작좌표로부터기준거리내에위치함에따라, 드웰시작좌표를터치좌표로써결정하는제어부를포함하는, 일실시예에따른, 디바이스가개시된다.

    Abstract translation: 本发明提供了一种用于基于检测到的用户的移动来检测用户的移动并产生触摸事件的方法和装置。 根据本发明的实施例的具有触摸屏的设备包括:通信单元,其根据用户的移动获取用户的移动信息; 显示单元,其响应于所获取的关于用户的移动的信息来移动显示在触摸屏上的光标; 以及控制单元,作为停留开始坐标,当光标移动时,确定移动的光标所在的坐标,并且当光标放置在与停留开始坐标相关的参考距离内时,将停留开始坐标确定为触摸坐标, 从光标移动到驻留开始坐标的时间的参考时间。

    발광 소자
    60.
    发明公开
    발광 소자 审中-实审
    发光二极管

    公开(公告)号:KR1020160057163A

    公开(公告)日:2016-05-23

    申请号:KR1020140158055

    申请日:2014-11-13

    Abstract: 본발명의기술적사상에의한기판; 상기기판상에형성되는제1 질화물계반도체층, 상기제1 질화물계반도체층상에형성되는제2 질화물계반도체층및 상기제1 질화물계반도체층과상기제2 질화물계반도체층사이에개재되는활성층을포함하는발광적층체; 상기발광적층체의상면에형성되는절연층; 상기절연층상에형성되고, 상면의크기가하면의크기보다작고, 단면이사다리꼴형태를갖는돌출부; 상기발광적층체의상면, 상기절연층의상면및 상기돌출부의상면을덮고, 상기발광적층체의상면, 상기절연층의상면및 상기돌출부의상면을따라일정한두께로형성되는투명전도층; 및상기투명전도층상에서상기돌출부의경사진측면중 적어도하나의측면을덮는전극부; 를포함하는발광소자를제공한다.

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种发光元件,其向由发光元件发射的光的一部分提供指向性,该发光元件通过布线电极被重新反射到发光元件中并消散以提取光的一部分 到发光元件的外部。 根据本发明,发光元件包括:基板; 发光层叠体,其包含在所述基板上形成的第一氮化物系半导体层; 形成在第一氮化物基半导体层上的第二氮化物基半导体层和设置在第一氮化物基半导体层和第二氮化物基半导体层之间的有源层; 形成在所述发光层叠体的上表面上的绝缘层; 形成在所述绝缘层上的突起,其上表面的尺寸小于其下表面的尺寸,并且其横截面是梯形的; 覆盖发光层叠体,绝缘层和突起的上表面的透明导电层,沿规定厚度的发光层叠体,绝缘层和突起的上表面形成; 以及电极单元,用于覆盖透明导电层上的突起的倾斜侧中的至少一侧。

Patent Agency Ranking