>폴리(1,4-페닐렌비닐렌)(피피브이)합성을 위한 티오페녹시 선중합체를 이용한 피피브이 유도체의 컨쥬게이션 길이 조절방법 및그 조절된 피피브이 유도체를 갖는 전기 발광 소자
    51.
    发明公开
    >폴리(1,4-페닐렌비닐렌)(피피브이)합성을 위한 티오페녹시 선중합체를 이용한 피피브이 유도체의 컨쥬게이션 길이 조절방법 및그 조절된 피피브이 유도체를 갖는 전기 발광 소자 失效
    用于控制使用硫代苯氧基核苷聚合物合成聚(1,4-亚苯基亚乙烯基)(肽)和具有受控肽体的电致发光装置的肽体缀合长度的方法

    公开(公告)号:KR1019990031556A

    公开(公告)日:1999-05-06

    申请号:KR1019970052333

    申请日:1997-10-13

    Abstract: 본 발명은 전기 발광 소자의 발광 물질로 가장 널리 사용되고 있는 폴리(1,4-페닐렌비닐렌) (PPV) 및 그 유도체를 합성하는데 있어 티오페녹시 선중합체 (thiophenoxy precursor polymer)를 이용하여 PPV 유도체의 컨쥬게이션 (conjugation) 길이와 발광 색상을 조절하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에서는 티오페녹시 (thiophenoxy) 선중합체가 공기 중에서 아주 안정하고 300
    o C 이상에서만 제거 반응이 일어난다는 점을 이용하여 PPV 유도체의 컨쥬게이션 길이를 조절하는 방법에 대해 기술하였다. 즉, 도 1에 나타난 것과 같이 PPV 나 PPV 유도체들을 물에 녹는 수용성 선중합체를 합성한 다음, 합성되어진 수용성 선중합체에 원하는 당량의 소듐 티오페녹사이드를 반응시켜, 가하여 준 티오페녹시의 당량 만큼 티오페녹시로 치환된 선중합체를 생성한 다음, 이 중합체를 200
    o C 에서 진공 열처리하여 제거 반응하면 수용성 선중합체 부분은 완전히 제거 반응되어 컨쥬게이션되고, 티오페녹시로 치환된 부분은 이 온도에서는 제거 반응이 전혀 되지 않으므로 컨쥬게이션되지 않고 남게된다. 이렇게 해서 PPV 유도체의 컨쥬게이션 길이를 조절할 수 있고, 이러한 컨쥬게이션 조절을 통해 PL 과 전기 발광 소자의 발광 파장을 손쉽게 조절할 수 있다.

    반사형 이진위상격자의 제조방법
    54.
    发明授权
    반사형 이진위상격자의 제조방법 失效
    相移方法的制造方法

    公开(公告)号:KR1019960001163B1

    公开(公告)日:1996-01-19

    申请号:KR1019920011452

    申请日:1992-06-29

    Abstract: passivating PMM at the width corresponding to the one fourth of incident light wavelength by Langmuir-Blodgett on a silicon substrate; eliminating developed part in the PMMA to expose the silicon substrate after selectively developing the PMMA by defining binary pattern; passivating a high reflection film on the remaining PMMA and the exposed part of the silicon substrate.

    Abstract translation: 通过Langmuir-Blodgett在硅衬底上对应于入射光波长四分之一的宽度钝化PMM; 消除了PMMA中开发的部分,通过定义二元图案选择性地开发PMMA后露出硅衬底; 在剩余的PMMA和硅衬底的暴露部分上钝化高反射膜。

    단일 전고분자계 광도파로 소자의 구조 및 그 제조방법

    公开(公告)号:KR1019950021820A

    公开(公告)日:1995-07-26

    申请号:KR1019930026786

    申请日:1993-12-08

    Abstract: 본 발명은 광도파로 소자 제작 과정중 완충층을 도파층과 동일한 물질을 광표백하여 얻어지는 단일 전고분자계로 된 소자의 구조 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 완충층을 광표백하여 여러 층이 단일 전고분자계로 된 광도파로 소자의 제조공정은 특정 활성층에 대한 완충층의 물질 선택과 공정조건의 적정화 등의 복잡한 문제를 피할 수 있을 뿐만 아니라 도파특성이 좋은 소자를 제작할 수 있다.

    금속 전극의 형성 방법
    58.
    发明公开
    금속 전극의 형성 방법 审中-实审
    形成金属电极的方法

    公开(公告)号:KR1020170071261A

    公开(公告)日:2017-06-23

    申请号:KR1020150179385

    申请日:2015-12-15

    Abstract: 금속전극의형성방법은상부가하부에비해넓은폭을갖는레지스트패턴을형성하는단계; 상기레지스트패턴상에몰드용절연막을형성하는단계; 상기레지스트패턴을제거하여몰드를형성하는단계; 및상기몰드내에제1 금속및 제2 금속의합금을포함하는금속전극을형성하는단계를포함한다.

    Abstract translation: 一种形成金属电极的方法包括以下步骤:形成宽度大于下部宽度的抗蚀剂图案; 在抗蚀剂图案上形成用于模具的绝缘膜; 去除抗蚀剂图案以形成模具; 并且在模具中形成包括第一金属和第二金属的合金的金属电极。

    신경 신호 측정용 신경전극 및 이의 제조 방법
    59.
    发明公开
    신경 신호 측정용 신경전극 및 이의 제조 방법 审中-实审
    用于测量神经信号的神经电极及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020160112364A

    公开(公告)日:2016-09-28

    申请号:KR1020150038002

    申请日:2015-03-19

    Abstract: 신경신호측정용신경전극제조방법이개시된다. 개시된신경신호측정용신경전극제조방법은, 기판상에 ITO 전극을형성하는단계; 상기기판및 상기 ITO 전극상에상기 ITO 전극의일부분이노출되도록절연성부동태층을형성하는단계; 및상기 ITO 전극의일부분및 상기절연성부동태층상에 ITO 나노선들을형성하는단계;를포함한다. 본발명에따르면, 기존의공정을이용하여전기적잡음의감소와함께신경친화성향상을도모할수 있는장점이있다.

    Abstract translation: 公开了一种用于制造用于测量神经信号的神经电极的方法。 制造用于测量神经信号的神经电极的方法包括在衬底上形成铟锡氧化物(ITO)电极的步骤; 在基板上形成绝缘被动态层的步骤和ITO电极以暴露部分ITO电极的步骤; 以及在绝缘被动状态层和ITO电极的一部分上形成ITO纳米线的步骤。 根据本发明,通过现有的处理可以减少电噪声。 此外,可以改善神经友好性质。

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