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公开(公告)号：EP2869327B1
公开(公告)日：2023-10-25
申请号：EP13812456.5
申请日：2013-06-28
Inventor： ISHIHARA, Tomonari , AKAHORI, Naoki , ANNO, Hidero
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52.发明公开Charged particle beam emitting device and method for operating a charged particle beam emitting device 有权Vorrichtungfürdie Emission von Teilchenstrahlen und Verfahren zu deren Betrieb
公开(公告)号：EP1801838A1
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：EP05027889.4
申请日：2005-12-20
Inventor： Zhou, Fang
IPC: H01J9/50 , H01J37/067 , H01J3/06
CPC classification number: H01J9/505 , H01J3/06 , H01J37/067 , Y02W30/828
Abstract: A charged particle beam emitting device includes at least two charged particle beam guns (2, 2'), each of the at least two charged particle beam guns (2, 2') having a separate charged particle emitter (4, 4') with an emitting surface for emitting a respective charged particle beam (12. 12'). The charged particle beam emitting device further includes an aperture element (18) comprising at least one aperture opening (16) and a deflector unit (14, 24). The deflector unit (14) is adapted for alternatively directing the charged particle beams (12, 12') of the at least two charged particle beam guns (2, 2') on the at least one aperture opening (16) so that, at the same time, one of the at least two charged particle beams (12, 12') is directed on the aperture opening (16) while the respective other charged particle beam of the at least two charged particle beams (12, 12') is deflected from the aperture opening (16) by the deflector unit (14, 24). At the same time, only one of the two charged particle beam guns (2, 2') is used so that the temporarily unused charged particle beam gun can be subjected to a cleaning procedure. This ensures that the emitting surfaces of both charged particle beam guns (2, 2') can be alternatively frequently cleaned with minimum interruption of the operation of the charged particle beam device.
Abstract translation: 带电粒子束发射装置包括至少两个带电粒子束枪，所述至少两个带电粒子束枪中的每一个具有分离的带电粒子发射器，具有用于发射相应的带电粒子束的发射表面。 带电粒子束发射装置还包括孔元件，该孔元件包括至少一个孔口和偏转器单元。 偏转器单元适于将至少两个带电粒子束枪的带电粒子束交替地引导到至少一个孔口上，使得同时，至少两个带电粒子束中的一个被引导到孔 所述至少两个带电粒子束的相应的其它带电粒子束由所述偏转器单元从所述开口偏转。 同时，仅使用两个带电粒子束枪中的一个，使得临时使用的带电粒子束枪可以进行清洁程序。 这确保了两个带电粒子束枪的发射表面可以以最小的带电粒子束装置的操作中断来交替地和频繁地清洁。
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53.发明申请ELEKTRONENQUELLE ZUR ERZEUGUNG EINES ELEKTRONENSTRAHLS SOWIE RÖNTGENQUELLE ZUR ERZEUGUNG VON RÖNTGENSTRAHLUNG 审中-公开电子源用于产生用于产生X射线的电子和X射线源
公开(公告)号：WO2012139872A2
公开(公告)日：2012-10-18
申请号：PCT/EP2012/055205
申请日：2012-03-23
Applicant: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT , SCHULZ, Reiner Franz
Inventor： SCHULZ, Reiner Franz
CPC classification number: H01J35/06 , H01J3/06 , H01J35/14 , H01J2235/068 , H05G1/70
Abstract: Elektronenquelle zur Erzeugung eines Elektronenstrahls sowie Röntgenquelle zur Erzeugung von Röntgenstrahlung Die Erfindung betrifft eine Elektronenquelle (1) zur Erzeugung eines Elektronenstrahls (23), in der ein erster Elektronenemitter (20) zur Erzeugung von Elektronen und zumindest ein zweiter Elektronenemitter (21) zur Erzeugung von Elektronen angeordnet sind, wobei der erste Elektronenemitter (20) und der zumindest eine zweite Elektronenemitter (21) alternativ betreibbar ausgestaltet sind und zueinander ortsfest angeordnet sind. Zusätzlich ist bei der Elektronenquelle (1) wenigstens eine gemeinsame Vorrichtung zur Fokussierung der Elektronen des ersten Elektronenemitters (20) und des zumindest einen zweiten Elektronenemitters (21) vorgesehen, wobei durch die wenigstens eine Vorrichtung zur Fokussierung der Elektronen der gebildete Elektronenstrahl (22) des ersten Elektronenemitters (20) und der gebildete Elektronenstrahl (22) des zumindest einen zweiten Elektronenemitters (21) auf eine gemeinsame Fokussierfläche (23) gerichtet werden können. Ferner betrifft die Erfindung eine Röntgenquelle (100), wobei die Röntgenquelle (100) eine Elektronenquelle (1) und eine Anode (24) aufweist, wobei die Elektronenquelle (1) derart ausgebildet ist.
Abstract translation: 电子源，用于生成用于生成X射线辐射，本发明涉及一种电子源（1），用于生成产生电子束（23），其中，第一电子发射器（20）用于产生电子，以及至少一个第二电子发射器（21）的电子束和X射线源 电子被布置，其中，所述第一电子发射器（20）和所述至少一个第二电子发射器（21）是可操作的可替换构造和布置固定到彼此。 此外，该电子源中（1）设有至少一个公共装置，用于聚焦第一电子发射器的电子（20）和所述至少一个第二电子发射器（21），通过所述至少一个装置用于聚焦电子束的电子（22）所形成的 所述至少一个第二电子发射器（21）的第一电子发射器（20）和形成所述电子束（22）可以在一个共同的聚焦平面（23）被引导。 此外，本发明涉及的X射线源（100），其中，所述X射线源（100），具有电子源（1）和阳极（24），其中所述电子源（1）被适配。
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54.发明公开
公开(公告)号：EP4327178A1
公开(公告)日：2024-02-28
申请号：EP22734134.4
申请日：2022-05-30
Applicant: Siemens Mobility GmbH
Inventor： DE STEFANO, Ernesto , FORTUNATI, Daniel , NAYAK, Bhabani
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公开(公告)号：EP3394873A1
公开(公告)日：2018-10-31
申请号：EP16881366.5
申请日：2016-12-26
Applicant: Ariel Scientific Innovations Ltd.
Inventor： EINAT, Moshe , ORBACH, Yafit , PILOSSOF, Moritz
CPC classification number: H01J29/04 , H01J1/30 , H01J23/06 , H01J2201/306
Abstract: Disclosed are methods and devices suitable for producing an electron beam.
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Patent Agency Ranking56.发明申请
公开(公告)号：WO2022263152A1
公开(公告)日：2022-12-22
申请号：PCT/EP2022/064575
申请日：2022-05-30
Applicant: SIEMENS MOBILITY GMBH
Inventor： DE STEFANO, Ernesto , FORTUNATI, Daniel , NAYAK, Bhabani
Abstract: Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren ( zusätzlich eine Einrichtung und ein Computerprogramm) zum rechnergestützten Überwachen einer ersten Zeitbasis einer ersten Kommunikationseinrichtung und einer zweiten Zeitbasis einer zweiten Kommunikationseinrichtung. In einem ersten Ablauf wird in Messschritten (n) der Christian Algorithmus zur Berechnung von Zeitversatzintervallen eines Zeitversatzes zwischen den Zeitbasen angewandt. In einem zweiten Ablauf wird mehrfach für zwei Messschritte (n, n+x ) eine maximal mögliche Drift (Ωo) des Zeitversatzes unter Berücksichtigung der unteren Schranke des Zeitversatzintervalls für den früheren Messschritt und der oberen Schranke des Zeitversatzintervalls für den späteren Messschritt ermittelt und eine minimal mögliche Drift (Ωu) unter Berücksichtigung der oberen Schranke des Zeitversatzintervalls für den früheren Messschritt und der unteren Schranke des Zeitversatzintervalls für den späteren Messschritt ermittelt. Unter Berücksichtigung der maximal möglichen Drift wird eine obere Schranke und unter Berücksichtigung der minimal möglichen Drift eine untere Schranke eines Driftintervalls (CDW) berechnet. In einem dritten Ablauf wird von mehreren Driftintervallen (CDW) die niedrigste obere Schranke als obere Schranke eines resultierendes Driftintervalls (RCDW) für die relative Drift festgesetzt und die höchste untere Schranke als untere Schranke des resultierenden Driftintervalls (RCDW) mit vorteilhaft engen Schranken für die relative Drift festgesetzt wird.
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公开(公告)号：WO2017115265A1
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：PCT/IB2016/058004
申请日：2016-12-26
Applicant: ARIEL SCIENTIFIC INNOVATIONS LTD.
Inventor： EINAT, Moshe , ORBACH, Yafit , PILOSSOF, Moritz
CPC classification number: H01J29/04 , H01J1/30 , H01J23/06 , H01J25/025 , H01J2201/306
Abstract: Disclosed are methods and devices suitable for producing an electron beam.
Abstract translation: 公开了适用于产生电子束的方法和设备。
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58.发明申请ELECTRON SOURCE FOR GENERATING AN ELECTRON BEAM AND X-RAY SOURCE FOR GENERATING X-RAY RADIATION 审中-公开电子源用于产生用于产生X射线的电子和X射线源
公开(公告)号：WO2012139872A3
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：PCT/EP2012055205
申请日：2012-03-23
Applicant: SIEMENS AG , SCHULZ REINER FRANZ
Inventor： SCHULZ REINER FRANZ
CPC classification number: H01J35/06 , H01J3/06 , H01J35/14 , H01J2235/068 , H05G1/70
Abstract: The invention relates to an electron source for generating an electron beam and to an X-ray source for generating X-ray radiation. The invention concerns an electron source (1) for generating an electron beam (22), in which source a first electron emitter (20) for generating electrons and at least one second electron emitter (21) for generating electrons are disposed, the first electron emitter (20) and the at least one second electron emitter (21) being designed such that they can be operated alternately and being arranged in a stationary manner relative to one another. In addition, at least one common device for focusing the electrons of the first electron emitter (20) and of the at least one second electron emitter (21) is provided in the electron source (1), wherein the formed electron beam (22) from the first electron emitter (20) and the formed electron beam (22) from the at least one second electron emitter (21) can be directed onto a common focusing surface (23) by the at least one device for focusing the electrons. Furthermore, the invention relates to an X-ray source (100), the X-ray source (100) comprising an electron source (1) and an anode (24), the electron source (1) being designed in the manner described above.
Abstract translation: 电子源，用于生成用于生成X射线的电子束和X射线源。 本发明涉及的电子源（1），用于生成用于生成电子的电子束（22），其中，第一电子发射器（20），和至少一个第二电子发射器（21）被设置用于产生电子，其中所述第一电子发射器（20） 和至少一个第二电子发射器（21）是可操作的可替换构造和布置固定到彼此。 此外，该电子源中（1）设有至少一个公共装置，用于聚焦第一电子发射器的电子（20）和所述至少一个第二电子发射器（21），通过所述至少一个装置用于聚焦电子束的电子（22）所形成的 所述至少一个第二电子发射器（21）的第一电子发射器（20）和形成所述电子束（22）可被引导到一个公共Fokussierflache（23）。 此外，本发明涉及的X射线源（100），其中，所述X射线源（100），具有电子源（1）和阳极（24），其中，如上面所解释的电子源（1）被构造。
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公开(公告)号：KR2019950021061U
公开(公告)日：1995-07-26
申请号：KR2019930028962
申请日：1993-12-22
Applicant: 엘지정보통신주식회사
Inventor： 김우섭
IPC: H01J3/06
Abstract: 본고안은전송장치의경로추적데이타발생회로에관한것으로, 특히동기식다중화전송장치에서시스템경로를추적하는데이타를효율적으로발생하도록한 경로추적데이타발생회로를제공하기위한것이다. 이러한본 고안의목적은고장및 탈장이발생하면이러한상태를감지하여그 상태신호(Ready Bit)를출력하는마이크로처리부와, 상기마이크로처리부로부터출력되는레디비트신호를받아저장되어있는경로추적데이타를경로추적데이타발생부로전송하는저장수단으로구성하여, 상기저장수단으로는이이피롬(EEPROM)을사용하므로서달성될수 있다.
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公开(公告)号：KR1019950020853A
公开(公告)日：1995-07-26
申请号：KR1019930028427
申请日：1993-12-18
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01J3/06
Abstract: 본 발명은 지상 및 위성 채널의 송수신을 위한 위성 방송 장치의 송수신 회로에 있어서, 신호원으로부터 발생되는 신호를 입력하여 디지탈화한 후 전송 대역폭을 줄이기 위하여 상기 신호를 패킷화하는 패킷화기와, 상기 패킷 화기로부터 출력된 신호를 시분할 다중화하여 시분할 다중화 신호를 발생하는 시분할 다중화기와, 상기 시분할 중화 신호를 입력하여 리드-솔로몬 부호화 신호를 발생하기 위한 리드-솔로몬 부호화기와, 상기 리드-솔로몬 부호화 신호를 입력하여 인터리빙된 신호를 발생하기 위한 인터리버와, 상기 인터리빙된 신호를 길쌈 부호화하여 길쌈 부호화 신호르 발생하는 길쌈 부호화기와, 상기 길쌈 부호화 신호를 입력하여 변조하여 상기 위성 채널로 송신하기 위한 QPSK 변조기와, 상기 위성 채널로부터 수신된 신호를 입력하여 복 신호를 발생하는 QPSK 복조기와, 상기 복조 신호를 입력하여 비터비 복호화 신호를 발생하기 위한 비터비 복호화기와, 상기 비터비 복호화 신호를 역인터리빙하여 역인터리빙된 신호를 발생하는 비터비 복호화기와, 상기 비터비 복호화 신호를 역인터리빙하여 역인터리빙된 신호를 발생하는 역인터리버와, 상기 역인터리빙된 신호를 입력하여 리드-솔로몬 복호화 신호를 발생하기 위한 리드-솔로몬 복호화기와, 상기 리드-소로몬 복호화 신호를 입력하여 역시분할 다중화신호를 발생하는 역시분할 다중화기와, 상기 역시분할 다중화 신호를 입력하여 패킷복호화하기 위한 패킷복호화기와, 상기 패킷복호화기에 접속하여 신호 수신하는 싱크로 구성됨을 특징으로 한다. 본 발명에 의하여 오류 정정 동작을 수행하여 송수신 동작 특성이 개선되며, 채널의 대역폭 효율이 향상되는 효과가 있다.
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