公开(公告)号：KR101652342B1

公开(公告)日：2016-08-30

申请号：KR1020140079976

申请日：2014-06-27

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  정대균 ,  이치영 ,  이택경

IPC: H01L31/0236 ,  H01L31/036

CPC classification number: Y02E10/50

Abstract: 태양전지표면의택스처링방법에관한것이다.

公开(公告)号：KR1020160001437A

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：KR1020140079976

申请日：2014-06-27

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  정대균 ,  이치영 ,  이택경

IPC: H01L31/0236 ,  H01L31/036

CPC classification number: Y02E10/50 ,  H01L31/0236 ,  H01L31/02363 ,  H01L31/036

Abstract: 본원은, 태양전지표면의택스처링방법을제공한다.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于纹理化太阳能电池表面的方法。 用于纹理化太阳能电池表面的方法包括以下步骤：在基板上施加光致抗蚀剂; 通过使用具有重复图案的模具在基板上形成图案，并固化图案; 并蚀刻衬底。 根据本发明，当纹理化太阳能电池的表面时，该方法通过使用压印或光刻来在基板上形成光致抗蚀剂。 此时，该方法通过使用纹理化来增加基板表面曝光单元的面积，从而降低反射率并提高太阳能电池效率。

公开(公告)号：KR101567888B1

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：KR1020130022267

申请日：2013-02-28

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  한정석 ,  정대균

IPC: H01L21/28 ,  H01L21/312

Abstract: 본원은, 다층박막에의해형성된팽창흡수막을이용한금속배선제작방법에관한것으로, 패턴이형성된기재를준비하는단계; 상기패턴이형성된기재에한 층이상의유기물층을적층하는단계; 및, 상기유기물층에금속을흡착시켜상기기재의패턴내부를충진하는단계를포함한다.

公开(公告)号：KR1020150117077A

公开(公告)日：2015-10-19

申请号：KR1020140042366

申请日：2014-04-09

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  소회섭

IPC: G02B5/04 ,  G02B6/00 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02B6/0036 ,  G02B5/045 ,  G02B6/0038 ,  G02B6/0053 ,  G02F1/133504 ,  G02F1/133615

Abstract: 본원은, 광학시트를구비한백라이트도광판, 상기백라이트도광판을포함하는백라이트유닛및 디스플레이장치에관한것이다.

Abstract translation: 本发明涉及具有实现高效率的光提取结构的光学片的背光导光板以及具有该背光导光板的背光单元和显示装置。 光学片包括：用于传播从光源输出的光的导光板; 以及与导光板的一侧接触的棱锥片或棱镜片。 多个微金字塔配置在金字塔片上，多个微棱镜配置在棱镜片上。

公开(公告)号：KR1020150117076A

公开(公告)日：2015-10-19

申请号：KR1020140042365

申请日：2014-04-09

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  소회섭

IPC: G02F1/13357 ,  F21S2/00

Abstract: 본원은, 광추출도광판을포함하는백라이트유닛, 및상기백라이트유닛을포함하는디스플레이장치에관한것이다.

Abstract translation: 本发明涉及一种包括光提取导光板的背光单元和包括背光单元的显示装置。 背光单元包括：导光板，其包括形成在一侧的微透镜或微棱镜; 配置微棱镜的微棱镜片; 以及光路，其中导光板以交叉的方式联接到微棱镜片。

公开(公告)号：KR1020120111306A

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：KR1020110029725

申请日：2011-03-31

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  소회섭 ,  이치영

IPC: G03F7/00 ,  B29C59/02 ,  G03F7/16

CPC classification number: G03F7/0002 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  G03F7/325 ,  G03F7/70616 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0337

Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a mold, the mold, and a forming method of fine patterns using the mold are provided to reduce costs needed for manufacturing processes and to form nano-sized line patterns on a substrate. CONSTITUTION: A manufacturing method of a mold includes the following: a first pattern is formed on a substrate(210) using ultraviolet ray shielding materials; a molding resin is applied on the substrate; a mask mold with a second pattern is pressurized on the substrate with the molding resin in order to arrange a surface which is shared by the first pattern and the second pattern; the patterns are imprinted; the molding resin is cured; and the master mold is removed from the substrate.

Abstract translation: 目的：提供使用该模具的模具的制造方法，模具和精细图案的成形方法，以降低制造工艺所需的成本并在基板上形成纳米尺寸的线图案。 构成：模具的制造方法包括：使用紫外线屏蔽材料在基板（210）上形成第一图案; 将模塑树脂施加在基材上; 为了布置由第一图案和第二图案共享的表面，具有第二图案的掩模模具用模制树脂在基板上加压; 图案印记; 成型树脂固化; 并将主模从衬底上移除。

公开(公告)号：KR1020120111288A

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：KR1020110029693

申请日：2011-03-31

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  소회섭 ,  이치영

IPC: G03F7/00 ,  B29C59/02 ,  G03F7/16

CPC classification number: G03F7/0002 ,  G03F7/16 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31144

Abstract: PURPOSE: A fine pattern forming method with a photo mask and a nano-imprinting mold is provided to form patterns of various shapes and to form nano-sized line patterns by using micro-sized line patterns. CONSTITUTION: A fine pattern forming method includes the following: Pattern forming resist(120) is applied on a substrate(110); a master mold with a first pattern is in contact with the upper side of the pattern forming resist; the master mold is pressurized to be imprinted; the master mold is irradiated with ultraviolet rays through a photo-mask with a second pattern which is different from the first pattern; and the master mold and the photo-mask are separated from the substrate to develop the pattern forming resist.

Abstract translation: 目的：提供具有光掩模和纳米压印模具的精细图案形成方法，以形成各种形状的图案，并通过使用微尺寸线图案形成纳米尺寸线图案。 构成：精细图案形成方法包括：图案形成抗蚀剂（120）施加在基板（110）上; 具有第一图案的母模与图案形成抗蚀剂的上侧接触; 主模具加压压印; 通过具有不同于第一图案的第二图案的光掩模用紫外线照射母模; 并且将母模和光掩模与基板分离以形成图案形成抗蚀剂。

公开(公告)号：KR101107785B1

公开(公告)日：2012-01-20

申请号：KR1020090082946

申请日：2009-09-03

Applicant: (주) 삼사원 ,  국민대학교산학협력단

Inventor： 배상범 ,  김도환 ,  장시열 ,  이재갑

IPC: F16K31/60 ,  F16K31/528 ,  F16K1/32 ,  F16K1/36

Abstract: 체크밸브 방식으로 유체의 흐름이 차단되고 핸들의 조작을 통해 유체의 흐름이 진행되도록 핸들의 구동 메커니즘이 개선된 레버형 핸들을 갖는 벨로우즈 밸브가 개시된다. 벨로우즈 밸브는 내부에 유로가 형성된 몸체와, 하면에는 유로를 흐르는 유체가 유입되는 유입통로가 형성되고 측면에는 유입통로로 유입된 유체를 배출시키는 배출통로가 형성된 관부재와, 관부재에 대해 승하강 가능한 스템과, 스템의 승하강에 의해 유로를 폐쇄 또는 개방시키는 스템베드와, 스템의 외주연에 형성되는 벨로우즈와, 스템의 상부에 스템의 길이방향과 직교되는 방향으로 결합된 핀부재 및 몸체에 회전가능하게 연결되고 핀부재를 슬라이딩 되도록 안내하는 가이드부가 형성되어 몸체에 대해 회전됨에 따라 스템을 승하강시키는 핸들을 포함한다. 따라서, 간단한 핸들의 조작을 통해 밸브의 개폐가 이루어지며, 밸브의 안전성 및 신뢰성을 증진시킬 수 있다.
벨로우즈, 밸브

公开(公告)号：KR1020110044633A

公开(公告)日：2011-04-29

申请号：KR1020090101416

申请日：2009-10-23

Applicant: 엘지디스플레이 주식회사 ,  국민대학교산학협력단

Inventor： 양희정 ,  호원준 ,  이재갑 ,  한규원 ,  이치영 ,  이준호

IPC: H01L29/786

CPC classification number: H01L29/66742 ,  H01L29/45 ,  H01L29/7869

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a thin film transistor using a single copper target and thin film transistor using the method are provided to perform a sputtering process by copper or a single copper alloy target, thereby providing a thin fill transistor which forms a source and a drain by copper or copper alloy. CONSTITUTION: A gate electrode(105) is formed on a glass substrate(101). A gate insulating film(107), a semiconductor layer(117), and an ohmic contact layer(119) are deposited on the gate electrode. A natural oxide film is formed on the ohmic contact layer. An oxide film(115) is deposited on the ohmic contact layer using metal including copper. A source-drain layer(121) is deposited on the oxide film using metal including the copper.

Abstract translation: 目的：提供使用该方法制造使用单个铜靶和薄膜晶体管的薄膜晶体管的方法，以通过铜或单一铜合金靶进行溅射处理，由此提供形成源极和/ 用铜或铜合金排水。 构成：在玻璃基板（101）上形成栅电极（105）。 栅极绝缘膜（107），半导体层（117）和欧姆接触层（119）沉积在栅电极上。 在欧姆接触层上形成自然氧化膜。 氧化膜（115）使用包括铜的金属沉积在欧姆接触层上。 源极 - 漏极层（121）使用包含铜的金属沉积在氧化膜上。

公开(公告)号：KR1020100107905A

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：KR1020090026250

申请日：2009-03-27

Applicant: 국민대학교산학협력단

Inventor： 이재갑 ,  고승희 ,  박희정 ,  이치영

IPC: H01L21/8247 ,  H01L27/115

CPC classification number: H01L45/04 ,  G11C13/0004 ,  H01L29/517

Abstract: PURPOSE: A ReRAM device and a manufacturing method thereof are provided to improve the interfacial property and memory property of a ReRAM device by forming a second electrode layer pattern after forming an adhesive patter between the second electrode pattern and a metal oxide layer. CONSTITUTION: A substrate(100) comprises a substrate insulating layer(120) and a substrate body layer(110). A first electrode layer(200) is formed on the substrate. A metal oxide layer(300) is formed on the first electrode layer. A self-assembled monolayer, which includes an aperture pattern exposing the metal oxide layer, is formed on the metal oxide layer. A second electrode layer pattern(500) is formed on the metal oxide layer.

Abstract translation: 目的：提供ReRAM器件及其制造方法，以通过在形成第二电极图案和金属氧化物层之间的粘合剂图案之后形成第二电极层图案来改善ReRAM器件的界面特性和存储特性。 构成：衬底（100）包括衬底绝缘层（120）和衬底主体层（110）。 在基板上形成第一电极层（200）。 在第一电极层上形成金属氧化物层（300）。 在金属氧化物层上形成包括露出金属氧化物层的孔径图案的自组装单层。 在金属氧化物层上形成第二电极层图案（500）。