Abstract:
PURPOSE: A semiconductor device and a manufacturing method thereof are provided to easily develop transparent or opaque devices using a P type oxide film. CONSTITUTION: A gate electrode(22), a gate insulation layer(23), and a matching layer(24) are successively formed on a substrate(21). A channel layer(25,30) is formed on the matching layer. An insulation layer(26) is formed on the sidewalls of the gate electrode, the gate insulation layer, the matching layer, and the channel layer. Source and drain electrodes(27) are formed on both ends of the channel layer. A contact plug(28) is formed on the upper side of the source and drain electrodes.
Abstract:
PURPOSE: A transparency information transfer window is provided to maintain the transparency status and to display information, thereby displaying varying information without special restraint not being distracted by viewing. CONSTITUTION: A transparency display(110) displays information in transparency status. A driving unit(130) sanctions a driving signal to the transparency display. A wireless communication unit(150) transceives information wirelessly with an external terminal. A memory unit(170) stores display information.
Abstract:
본 발명은 디스플레이 장치에 관한 것으로, 투명 디스플레이를 이용함으로써 상부 패널 하우징을 펼치지 않고서도 영상 출력이 가능한 폴더 타입의 디스플레이 장치를 제공한다. 이를 위하여, 본 발명의 일실시 예에 따른 투명 디스플레이를 이용한 폴더형 디스플레이 장치는, 빛을 투과시키는 투명 모드 또는 영상 데이터를 출력하는 디스플레이 모드로의 전환이 가능하며 접힘과 펼침이 가능하게 연결된 두 개 이상의 투명 디스플레이를 포함하는 투명 디스플레이부; 장치의 활성화 상태 중에 수신되는 신호를 기반으로 상기 투명 디스플레이를 투명 모드 또는 디스플레이 모드로 전환하며, 상기 디스플레이 모드 중에 상기 두 개 이상의 투명 디스플레이가 펼침 상태인 경우 설정에 따라 또는 사용자의 입력 신호에 따라 각각의 상기 투명 디스플레이에 서로 다른 영상 데이터를 출력하는 제어부; 및 접힘과 펼침이 가능하도록 상기 투명 디스플레이부와 연결되는 하부 패널 하우징을 포함한다. 투명 디스플레이, 폴더형, 입체 영상
Abstract:
본 발명은 투명산화물층과 금속층이 교차적으로 다층 적층되어 있는 투명 전도막의 식각용 조성물 및 식각 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 식각용 조성물은 과산화수소, 질산, 염산, 황산 및 인산으로 이루어진 군에서 선택된 식각용 산; 산화물층 및 금속층과 동시에 착화합물을 형성할 수 있는 산; 및 물을 포함하며, 식각 방법은 상기 식각용 조성물을 투명산화물층과 금속층이 교차적으로 다층 적층되어 있는 투명 전도막에 분사하여 식각하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 식각 방법은 단면 특성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다 식각, 다층, 전도성, 박막
Abstract:
본 발명은 하이브리드 백색 유기 전계 발광 소자 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 유기 전계 발광 소자 내부의 형광 발광층과 전자 수송층의 HOMO 준위차를 다른 층들간의 HOMO 준위차 보다 크게 하거나, 또는 형광 발광층과 정공 수송층의 LUMO 준위차를 다른 층들간의 LUMO 준위차 보다 크게 함으로써, 재결합 영역을 발광층의 일부로 제한하여 높은 효율로 형광 발광을 얻을 수 있으며, 형광 발광층에서 사용되지 않는 삼중항 엑시톤을 재결합 영역과 소정 거리 떨어진 곳에 형성된 보조 발광층으로 전이시켜 형광 발광층과 다른 색상으로 발광되도록 함으로써, 유기 전계 발광 소자에서 형성되는 일중항 엑시톤과 삼중항 엑시톤을 모두 사용하여 매우 높은 효율로 백색 발광을 얻을 수 있는 것을 특징으로 한다. 유기 전계 발광 소자, 백색, 하이브리드, 삼중항, 일중항
Abstract:
A transparent electronic device and a manufacturing method thereof are provided to improve total mobility and stability by forming thinly a second channel layer with a material having low resistivity and high mobility on a top part, a bottom part or an inner part. A first channel layer(130) is formed on an upper surface of a substrate(110). The first channel layer includes a source area, a drain region, and a channel region. A second channel layer(140) is formed in one of a top part, a bottom part or an inner part of the channel region. The channel layer is made of a material having low resistivity and high mobility. A transparent electrode(160) is formed on an upper part of the source region and an upper part of the drain region. A gate insulating layer is formed in a top part of the transparent electrode. The gate electrode is formed at a top part of the gate insulating layer.
Abstract:
본 발명은 투명 전자소자용 배선구조물에 관한 것으로, 본 발명에 의한 투명 전자소자용 배선구조물은 기판 상에 형성되는 투명성을 갖는 하부 전도층; 상기 하부 전도층 상에 형성되는 투명성을 갖는 절연층; 상기 절연층 상에 형성되는 투명성을 갖는 배선층; 및 상기 하부 전도층과 상기 배선층을 전기적으로 연결하는 접촉부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 투명 하부 전도층과 배선층의 이중 전도층을 이용한 투명 배선구조를 통해 투명도의 손실이 거의 없으면서 투명 배선의 저항값을 크게 낮출 수 있으므로, 투명 배선의 성능을 크게 높일 수 있는 투명 전자소자 또는 투명 전자 회로를 제작할 수 있다. 투명 배선, 투명 전자소자, 이중 전도체, 금속 스페이서
Abstract:
본 발명은 전구체들 간의 표면화학반응을 이용하여 반도체막의 결정 크기 및 캐리어 양을 조절할 수 있는 전자소자용 ZnO 반도체막 형성방법 및 상기 반도체막을 포함하는 박막 트랜지스터에 관한 것이다. 본 발명 중 전자소자용 ZnO 반도체막 형성방법은 a) 챔버 내에 기판을 배치하는 단계; b) 상기 챔버 내에 아연 전구체를 주입하여 상기 기판 상에 상기 아연 전구체를 흡착시키는 단계; c) 상기 챔버 내에 질소 또는 비활성 기체를 주입하여 잔여 아연 전구체를 제거하는 단계; d) 상기 기판 상에 형성된 상기 아연 전구체와 반응하도록 상기 챔버 내에 산소 전구체를 주입하여 ZnO 반도체막을 형성하는 단계; e) 상기 챔버 내에 질소 또는 비활성 기체를 주입하여 잔여 산소 전구체를 제거하는 단계; f) 상기 a) 내지 e) 단계를 반복 수행하는 단계; g) 산소 플라즈마 또는 오존을 이용하여 상기 ZnO 반도체막의 표면처리를 반복적으로 수행하는 단계; h) 상기 챔버 내에 질소 또는 비활성 기체를 주입하여 잔여 산소 전구체 및 잔여 아연 전구체를 제거하는 단계 및 i) 상기 a)단계 내지 상기 h) 단계를 반복하여 상기 ZnO 반도체막의 두께를 조절하는 단계를 포함한다. 이에 따라, 투명한 기판을 사용하여 투명 박막 트랜지스터를 형성함으로써, 투명 디스플레이를 구현할 수 있고, 플레서블 기판을 사용하여 플렉서블 디스플레이를 구현할 수 있다. 또한, 반도체막의 결정은 증가시켜 이동도는 향상시키고 캐리어양을 조절하여 누설전류를 감소시킴으로써 특성이 우수한 반도체막을 형성할 수 있다. 산화물 트랜지스터, 플렉시블 트랜지스터, ZnO 반도체막, 원자층 증착법
Abstract:
본 발명은 박막을 구성하는 원소를 포함하는 전구체들간의 표면화학반응을 이용하여 질소가 도핑된 투명한 p 타입 ZnO 반도체막을 제조하는 방법과 상기 제조 방법으로 제조된 p 타입 ZnO 반도체막을 포함하는 박막 트랜지스터에 관한 것이다. 본 p 타입 ZnO 반도체막 제조방법은 기판을 준비하여 챔버 내에 배치하는 단계; 상기 챔버 내에 아연 전구체와 산소 전구체를 주입하여, 원자층 증착법을 이용한 상기 아연 전구체와 상기 산소 전구체간의 표면 화학 반응을 통해 상기 기판 상에 ZnO 박막을 형성하는 단계; 상기 챔버 내에 아연 전구체와 질소 전구체를 주입하여, 상기 아연 전구체와 상기 질소 전구체간의 표면 화학 반응을 이용하여 상기 ZnO 박막 상에 도핑층을 형성하는 단계를 포함한다. 상기와 같은 반도체막 제조 방법을 통해서 형성된 반도체막을 이용하여, 유리, Si, 서스 등의 메탈 포일, 혹은 플라스틱 기판 상에 특성이 우수한 p 타입의 박막 트랜지스터를 형성할 수 있고, 또한 PN junction 을 이용한 LED 등의 광전소자를 구현할 수 있다. p타입 ZnO 반도체막, 원자층 증착법, 트랜지스터, 광전소자
Abstract:
Wiring structures for transparent electronic devices are provided to minimize the loss of transparency and to lower the resistance value of a transparent wire by using a metal spacer and a wire with a double conductive layer. A lower conductive layer(32) having transparency is formed on a substrate(31). A dielectric layer(33) having transparency is formed on the lower conductive layer. A wire layer(35) having transparency is formed on the dielectric layer. A connecting unit(34) electrically connects the lower conductive layer to the wire layer. The lower conductive layer is formed on the whole region or one region of the substrate. The connecting unit is connected to the whole region or one region of the wire layer. The lower conductive layer and the wire layer are respectively made of one of ITO, IZO, and ITZO. The connecting unit is made of the same material as one of the lower conductive layer and the wire layer.