一种离子注入装置及调节方法

    公开(公告)号:CN114709122A

    公开(公告)日:2022-07-05

    申请号:CN202210380033.8

    申请日:2022-04-12

    Abstract: 本发明提出一种离子注入装置及调节方法,该装置包括离子束发生组件、离子束分离组件、离子束汇聚组件、离子束扩散组件、汇聚调节组件、扩散调节组件及调节控制组件,离子束过滤组件与离子束发生组件配合,对离子束发生组件产生的离子束进行分离,离子束汇聚组件与离子束分离组件配合,对分离后的离子束进行分别汇聚,离子束扩散组件与离子束汇聚组件配合,对汇聚后的离子束进行扩散,汇聚调节组件与离子束汇聚组件配合,对离子束汇聚组件的运行状态进行调节,扩散调节组件与离子束扩散组件配合,对离子束扩散组件的运行状态进行调节,调节控制组件与汇聚调节组件及扩散调节组件配合,对汇聚调节组件及扩散调节组件的调节过程进行控制。

    一种适用于微纳器件制造的离子注入机

    公开(公告)号:CN109872938B

    公开(公告)日:2022-03-29

    申请号:CN201711269543.3

    申请日:2017-12-05

    Abstract: 本发明公开了一种适用于微纳器件制造的离子注入机,包括依次相连的离子源、质量分析器、束流聚焦电透镜系统、束流静电扫描系统及载片腔室,还包括用于调节束斑形状和和束流大小的光阑组件、以及用于点注入的点注入掩膜板,所述光阑组件包括设于离子源和质量分析器之间的可调光阑、设于质量分析器和束流聚焦电透镜系统之间的限束光阑以及设于束流静电扫描系统和载片腔室之间的终端注入光阑,所述点注入掩膜板位于载片腔室内,所述终端注入光阑和所述点注入掩膜板上开设点注入微孔。本发明具有可简化工艺过程,能够实现微米级的低剂量、高精度注入等优点。

    多带电粒子束设备和方法
    63.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113892165A

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:CN202080039403.0

    申请日:2020-05-18

    Abstract: 公开了减轻多射束设备中的库仑效应的系统和方法。该多射束设备可以包括:带电粒子源,被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束;第一孔阵列,该第一孔阵列包括第一多个孔,该第一多个孔具有形状并且被配置为生成源自初级带电粒子束的多个初级子束;聚光透镜,包括沿着初级光轴可调的平面;以及第二孔阵列,该第二孔阵列包括第二多个孔,该第二多个孔被配置为生成与多个子束相对应的探测子束,其中多个探测子束中的每个探测子束包括至少基于聚光透镜的平面的位置和第二孔阵列的特性的对应初级子束的带电粒子的部分。

    多件式电极孔径
    64.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108369887B

    公开(公告)日:2021-08-31

    申请号:CN201780004430.2

    申请日:2017-01-19

    Abstract: 一种用于离子注入系统的光学面板,该光学面板包括一对孔径组件。每对孔径组件各自包括第一孔径构件、第二孔径构件以及孔径固件,其中该孔径固件将第一孔径构件固定至第二孔径构件。孔径尖端可以同样固定至第二孔径构件。第一孔径构件、第二孔径构件、孔径尖端和孔径固件中的一个或多个由耐熔金属、钨、钨镧合金、钨钇合金和/或石墨和碳化硅中的一种或多种制成。孔径组件可以限定离子注入系统中的引出电极组件、接地电极组件或其他电极组件。

    离子植入箔片组合件
    65.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111902904A

    公开(公告)日:2020-11-06

    申请号:CN201980021860.4

    申请日:2019-02-21

    Abstract: 公开一种包括多个箔层的箔衬垫。所述箔层可各自为堆叠在彼此顶部的导电材料。相邻箔层之间的间隔可生成热梯度,使得等离子体的温度比离子源室的温度热。在其他实施例中,可组装箔层以吸收来自等离子体的热量,使得等离子体比离子源室的温度冷。在一些实施例中,在一个或多个箔层上设置间隙或突起以影响热梯度。在某些实施例中,一个或多个箔层可由绝缘材料构成以进一步影响热梯度。箔衬垫可易于在离子源室内组装、安装及更换。

    带电粒子束装置
    66.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110709960A

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201780091345.4

    申请日:2017-06-02

    Abstract: 本发明提供一种带电粒子束装置,能够检测在光轴附近通过的能量高的信号电子,例如背散射电子(BSE)、辅助光学系统中的二次电子(SE)。因此,该带电粒子束装置具有:带电粒子束源(101),其产生带电粒子束;物镜(105),其将带电粒子束聚集于试样;以及带电粒子检测元件(108),其配置于带电粒子束源(101)与物镜(105)之间,且检测通过带电粒子束与试样的相互作用而产生的带电粒子,其中,带电粒子检测元件(108)的检测面配置于物镜(105)的中心轴上。

    一种透射电子显微镜可动光阑的光阑片装置

    公开(公告)号:CN110676147A

    公开(公告)日:2020-01-10

    申请号:CN201911111805.2

    申请日:2019-11-14

    Abstract: 本发明涉及一种透射电子显微镜可动光阑的光阑片设计。本发明包括:光阑片材质(1),光阑片形状(2),光阑孔(3)。本发明适用于透射电子显微镜的聚光镜、物镜和投影镜中的可动光阑。光阑是电镜重要的成像部件之一,其主要作用是通过调节通过光束大小,获得明场像和暗场像,降低噪声干扰、降低球差、提高成像衬度。光阑的性能指标主要由光阑片决定,包括:光阑片材质、光阑片形状、光阑孔数量、光阑孔尺寸、可移动(倾转)范围、移动精度等。本发明使用Ni-Si青铜系合金加工成透射电子显微镜可动光阑光阑片,具有易于加工、无磁性、耐电子束轰击、延展性和韧性适中、耐腐蚀、成本低廉等特点。

    电子束控制装置和方法、电子束成像模块、电子束检测设备

    公开(公告)号:CN109300760A

    公开(公告)日:2019-02-01

    申请号:CN201710612022.7

    申请日:2017-07-25

    Inventor: 滝川忠宏

    Abstract: 本公开提供用于对入射的电子束的尺寸进行调节的电子束控制装置和方法、电子束成像模块、电子束检测设备。所提供的用于对入射的电子束的尺寸进行调节的电子束控制装置包括光阑件,所述光阑件具备多个间隔开布置的光阑孔,所述多个光阑孔中的每个光阑孔在所述光阑件上的位置被确定成与入射的电子束的多个不同的半张角和与电子束的不同尺寸对应,并且每个光阑孔的大小被确定成足以通过具备对应尺寸的所述电子束,由此入射的电子束的尺寸能够通过所述电子束移位至所述多个光阑孔中的选定光阑孔来调节。

    带电粒子束装置
    70.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109155224A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201780030731.2

    申请日:2017-06-21

    Abstract: 本发明提供即使在作用了环境音等干扰的情况下也减少支撑体的振动、保持支撑体的平行度、抑制支撑体的重量的增大并且支撑体具有支撑试料室的刚性的带电粒子束装置。支撑体(4)具有:支撑搭载物并支撑于除振支架的第一部件(5);厚度与第一部件(5)的厚度不同并配置为与第一部件(5)重叠的第二部件(6);固定第一部件(5)和第二部件(6)的固定部件(7);以及刚性比固定部件(7)的刚性小并基于第一部件(5)与第二部件(6)的变位差而变形的衰减部件(8)。

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