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公开(公告)号：KR100498108B1
公开(公告)日：2005-07-01
申请号：KR1020030059053
申请日：2003-08-26
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 진공상태에서 PDP 소자를 에이징(Aging) 처리함으로써 에이징 시간을 획기적으로 감소시킬 수 있는 PDP 소자의 진공 에이징 장치 및 이를 이용한 에이징 방법에 관한 것으로서, PDP 소자를 수평상태로 지지할 수 있는 패널 지지대(9a)가 내부에 설치되어 진공펌프(12)와 배관 연결된 진공챔버(10)와; 상기 패널 지지대(9a) 상에 지지된 PDP 소자의 전면패널(1a)의 일측 취부된 전면패널 전원연결단자(6)와 전선 연결되어 상기 진공챔버(10)의 일측면부에 설치된 전면패널용 전원공급단자(7)와; 상기 패널 지지대(9a) 상에 지지된 PDP 소자의 배면패널(1b)의 일측 취부된 배면패널 전원연결단자(4)와 전선 연결되어 상기 진공챔버(10)의 타측면부에 설치된 배면패널용 전원공급단자(5)와; 상기 진공챔버(10) 상부 중앙부에 설치되어 상기 PDP 소자의 전면패널(1a)에 접촉하여 PDP 소자의 팽창량을 검출하는 위치제어센서(8)로 구성되는 것을 특징으로 하는 피디피 소자의 진공 에이징 장치를 제공한다.
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公开(公告)号：KR102230206B1
公开(公告)日：2021-03-22
申请号：KR1020190086552
申请日：2019-07-17
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명은표면유체막형성구조에관한것으로서, 장치의표면에유체막을형성하기위한표면유체막형성구조에있어서, 장치표면의상단에위치하며장치표면에유체를공급하는유체공급부; 및상기유체공급부의하부에위치하는것으로서, 장치표면의폭 방향을따라이격되어배치되며형성된위치에대한유체의흐름을차단하는차단부를다수개 구비하는분산부;를포함하고, 상기분산부는상하로다수개가구비되는것을특징으로한다. 이에따라, 물체의표면전체에유체막을균질하게형성하는것이가능하다.
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公开(公告)号：KR101924849B1
公开(公告)日：2018-12-06
申请号：KR1020170051869
申请日：2017-04-21
IPC: G01N21/552 , C08L101/14 , C08J3/075 , C08J3/20 , C08J3/24
Abstract: 본 발명은 금속 나노입자 응집체를 포함하는 표면 증강 라만 산란용 하이드로젤 미세입자 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 표면 증강 라만 산란용 하이드로젤 입자는 고분자가 코팅된 금속 나노큐브 응집체를 포함하고, 상기 응집체 사이 나노갭의 존재로 인해 기존의 하이드로젤 미세입자보다 35배 정도로 표면증강라만신호를 증폭시킬 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1020180118856A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：KR1020170051869
申请日：2017-04-21
IPC: G01N21/552 , C08L101/14 , C08J3/075 , C08J3/20 , C08J3/24
Abstract: 본발명은금속나노입자응집체를포함하는표면증강라만산란용하이드로젤미세입자및 이의제조방법에관한것이다. 본발명에따른표면증강라만산란용하이드로젤입자는고분자가코팅된금속나노큐브응집체를포함하고, 상기응집체사이나노갭의존재로인해기존의하이드로젤미세입자보다 35배정도로표면증강라만신호를증폭시킬수 있는효과가있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101897463B1
公开(公告)日：2018-09-12
申请号：KR1020170057030
申请日：2017-05-04
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: Y02E60/142 , Y02P20/124
Abstract: 본발명의열전달매체용융조성물은금속에대한부식성이없고, 높은열적안정성을가짐에도 300℃이하의매우낮은용융점을가지며, 용융점범위의폭이매우좁은효과가있다. 따라서본 발명의열전달매체용융조성물을이용한열전달시스템은에너지전환효율및 공정효율이매우높은효과가있다.
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公开(公告)号：KR1020170092811A
公开(公告)日：2017-08-14
申请号：KR1020160013948
申请日：2016-02-04
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: Y02E10/46
Abstract: 본발명은열교환기성능에지장을주지않으면서용융염의고화가일어난배관이막혔을때, 용융염을녹여효율적으로배관의막힘현상을해소할수 있는용융염열교환기에관한것이다. 이를위해용융염열교환기는용융염의이동경로를형성하는용융염유로와, 원형단면을나타내는전환공간의일부에용융염유로가회전가능하게삽입된상태에서용융염유로의접촉에따라용융염유로와열교환되거나용융염유로를가열하는용융염전환유닛및 용융염의고화상태에대응하여용융염전환유닛에대한상대운동으로용융염유로를회전시키는유로구동유닛을포함하고, 용융염유로는유로구동유닛의동작에따라상기용융염전환유닛에포함되는작동유로와히터유닛중 어느하나에만접촉된다.
Abstract translation: 本发明涉及一种熔融yeomyeol器能够克服立管时发生熔融盐和热交换器性能打乱可忽略的影响堵塞，堵塞管道的有效溶解熔融盐的现象。 向该熔融yeomyeol交换熔融盐流，并且根据所述熔融盐流路中表示的圆形横截面可旋转地插入到所述熔融盐流路和热的接触过渡区的一部分熔融盐以形成熔融盐的面包屑 上或响应于熔融盐凝固的熔融盐转换单元和熔融盐加热流动状态包括流动路径中的驱动单元，用于通过熔融盐转换单元，流驱动单元的roneun熔融颜揉动作的相对运动转动熔融盐流路 熔盐转换单元中包括的工作流路和加热器单元中的仅一个接触。
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公开(公告)号：KR101641654B1
公开(公告)日：2016-07-22
申请号：KR1020150066884
申请日：2015-05-13
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L33/36
Abstract: 본발명은반도체소자및 그제조방법을제공한다. 본발명의일 측면에따른반도체소자는반도체성 2차원전이금속디칼코지나이드계화합물이증착되어형성되는액티브층, 상기액티브층에전류를인입또는인출시키도록상기액티브층의일면에금속성 2차원전이금속디칼코지나이드계화합물이증착되어형성되는전극층및 상기액티브층및 상기전극층의계면에상기반도체성 2차원전이금속디칼코지나이드계화합물및 상기금속성 2차원전이금속디칼코지나이드계화합물의합금형성되어오믹접합이이루어지는컨택층을포함할수 있다.
Abstract translation: 本发明提供一种半导体器件及其制造方法。 根据本发明的一个方面的半导体器件可以包括通过沉积半导体2D过渡金属二硫属化合物形成的有源层，通过在活性物质的一个表面上沉积金属的二维过渡金属二硫属化物化合物形成的电极层 层，以通过将半导体2D过渡金属二硫化物化合物与金属二过渡金属二硫化物化合物合金化而形成欧姆接触的接触层在有源层和电极层的界面上 。 因此，可以形成欧姆接触。
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公开(公告)号：KR101624597B1
公开(公告)日：2016-05-27
申请号：KR1020130156635
申请日：2013-12-16
Applicant: 한국기계연구원
IPC: C23C16/458
Abstract: 본발명은가공대상물의위치를제어할수 있는가동스테이지구동장치, 증착장비및 상압화학기상증착장비에관한것으로서, 증착장비의챔버내부에설치되고, 플라즈마형성공간을대향하여설치되는가동스테이지; 상기가동스테이지를전후진시키는가동스테이지전후진장치; 및상기챔버에설치되고, 상기가동스테이지전후진장치를승하강시키는가동스테이지승하강장치;를포함하고, 상기가동스테이지전후진장치는, 회전운동을직선운동으로변환할수 있는적어도한 쌍의랙기어와피니언기어를포함하고, 상기가동스테이지승하강장치는, 상기가동스테이지전후진장치와상기가동스테이지승하강장치사이의기밀이유지되도록벨로우즈관을포함할수 있다.
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