Abstract:
이성분계 나노입자를 포함하는 슬러리의 숙성 단계가 도입된 CI(G)S계 박막의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 CI(G)S계 박막이 제공된다. 본 발명의 CI(G)S계 박막의 제조방법은, CI(G)S계의 이성분계 나노입자를 제조하는 단계; 상기 이성분계 나노입자, CI(G)S계 원소를 포함하는 용액 전구체, 용매 및 킬레이트제를 혼합하여 하이브리드형 슬러리를 제조하는 단계; 상기 하이브리드형 슬러리를 5일 내지 10일 동안 숙성하는 단계; 숙성된 하이브리드형 슬러리를 코팅하여 CI(G)S계 박막을 형성하는 단계; 및 상기 형성된 CI(G)S 박막에 열처리하는 단계를 포함한다. 이에 의하여, CI(G)S계 태양전지 박막 제조 시 우수한 재현성 확보가 가능하고, 따라서 생산된 박막의 신뢰도를 향상시킬 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A method for forming a ZnO concavo-convex structure and a solar cell using the same are provided to form a uniform thin film on a concavo-convex structure by using a wet etching method. CONSTITUTION: A substrate (10) is prepared. A nanostructure (20) of which height and width is nanometer scale is formed. A zinc oxide thin film (30) is formed on the substrate having the nanostructure. The zinc oxide thin film is wet-etched. A concavo-convex structure (35) is formed by etching the periphery of the nanostructure.
Abstract:
태양전지용 CZTSe계 박막의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 CZTSe계 박막이 개시된다. 본 발명의 CZTSe계 박막의 제조방법은, (S1) Cu, Zn, Sn 및 Se을 동시진공증발법에 따라 기판에 증착하는 단계; 및 (S2) 감소된 기판 온도에서 Sn과 Se을 동시진공증발법에 따라 추가로 증착시키는 단계를 포함한다. 본 발명에 따르면, 고온의 기판 온도에서 Cu, In, Sn, Se를 동시진공증발법을 이용하여 증착한 후 그보다 낮은 기판 온도에서 Sn과 Se을 추가로 증착함으로써 높은 기판 온도에서의 열처리에 의한 Sn 손실을 최소화하고, 박막 내 원소 분포를 균일하게 하여 궁극적으로 에너지 변환효율이 높은 태양전지용 CZTSe계 박막을 제조할 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a CIS based compound thin film using a rapid thermal process and a method for manufacturing a thin film solar cell using the CIS based compound thin film are provided to improve the efficiency of a light absorbing layer by increasing the crystallization of the CIS based compound thin film. CONSTITUTION: A CIS based compound thin film is formed on a substrate. A thermal selenization process of the CIS based compound thin film is performed by using a rapid thermal process. The CIS based compound thin film includes a CIS compound thin film, a CIGS compound thin film, or CZTS compound thin film. Se vapor is produced by heating Se metal. Se is vacuously deposited on the CIS based compound thin film.