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公开(公告)号：TWI633398B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：TW106127219
申请日：2016-04-08
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 摩斯艾佛哈德斯 柯奈利斯 , MOS,EVERHARDUS CORNELIS , 艾格納托華弗麗斯拉娃 , IGNATOVA,VELISLAVA , 傑森艾瑞克 , JENSEN,ERIK , 庫必司麥克 , KUBIS,MICHAEL , 賽門赫伯特 喬漢那 葛特斯 , SIMONS,HUBERTUS JOHANNES GERTRUDUS , 譚 伯格彼德 , TEN BERGE,PETER , 瓦勒伯斯艾瑞克 裘漢斯 瑪麗亞 , WALLERBOS,ERIK JOHANNES MARIA , 威爾登伯格裘簡 賽巴斯汀 , WILDENBERG,JOCHEM SEBASTIAAN
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公开(公告)号：TWI633299B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：TW105142817
申请日：2016-12-22
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 昆塔尼哈 李察 , QUINTANILHA, RICHARD , 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY
IPC: G01N21/88 , G01N21/956 , G03F7/20 , H05G2/00
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公开(公告)号：TW201830173A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106135269
申请日：2017-10-16
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Abstract: 一種基板處理裝置，其包含： 一基板裝載器件，其經組態以在相對於與一基板上之場之一佈局相關聯的一柵格之一預定定向上裝載該基板； 校正性元件，其等經組態以使得能夠局域校正對一基板執行之一程序之一特性；其特徵在於 該等校正性元件經配置成沿著具有除了平行於該柵格之X軸或Y軸以外之一方向之至少一個軸線。
Abstract in simplified Chinese: 一种基板处理设备，其包含： 一基板装载器件，其经组态以在相对于与一基板上之场之一布局相关联的一栅格之一预定定向上装载该基板； 校正性组件，其等经组态以使得能够局域校正对一基板运行之一进程之一特性；其特征在于 该等校正性组件经配置成沿着具有除了平行于该栅格之X轴或Y轴以外之一方向之至少一个轴线。
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公开(公告)号：TW201830157A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106137290
申请日：2017-10-30
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 凡 迪傑克 里昂 保羅 , VAN DIJK, LEON PAUL , 卡拉多 維克托 艾曼紐 , CALADO, VICTOR EMANUEL , 柳星蘭 , LIU, XING LAN , 凡 哈倫 理查 喬哈奈 法蘭西卡斯 , VAN HAREN, RICHARD JOHANNES FRANCISCUS
Abstract: 本發明描述一種判定一度量衡系統之一最佳操作參數設定的方法。執行自由形式晶圓形狀量測(304)。應用一模型(306)，從而將所量測翹曲變換成模型化翹曲縮放值308。將晶圓夾持至一微影設備中之一夾盤，從而引起晶圓變形。使用具有四個對準量測顏色之掃描器對準系統來量測對準標記(312)。藉由該等模型化翹曲縮放值308校正因此獲得之縮放值314 (316)，以判定經校正縮放值318。基於該等經校正縮放值318而判定最佳對準量測顏色。選擇使用該最佳對準量測顏色來量測之縮放值，且在步驟326處，使用該等所選縮放值來判定晶圓柵格328。使用該判定晶圓柵格328來曝光一晶圓(330)以校正對該晶圓之曝光。
Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种判定一度量衡系统之一最佳操作参数设置的方法。运行自由形式晶圆形状量测(304)。应用一模型(306)，从而将所量测翘曲变换成模型化翘曲缩放值308。将晶圆夹持至一微影设备中之一夹盘，从而引起晶圆变形。使用具有四个对准量测颜色之扫描仪对准系统来量测对准标记(312)。借由该等模型化翘曲缩放值308校正因此获得之缩放值314 (316)，以判定经校正缩放值318。基于该等经校正缩放值318而判定最佳对准量测颜色。选择使用该最佳对准量测颜色来量测之缩放值，且在步骤326处，使用该等所选缩放值来判定晶圆栅格328。使用该判定晶圆栅格328来曝光一晶圆(330)以校正对该晶圆之曝光。
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公开(公告)号：TWI630636B
公开(公告)日：2018-07-21
申请号：TW105142477
申请日：2016-12-21
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 凱斯川普 伯納多 , KASTRUP, BERNARDO , 馬肯斯 喬納斯 凱瑟尼斯 哈伯特斯 , MULKENS, JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS , 凡 丹 柏林克 瑪瑞斯 亞特 , VAN DEN BRINK, MARINUS AART , 班斯洽普 喬茲夫 佩勒斯 韓瑞卡 , BENSCHOP, JOZEF PETRUS HENRICUS , 史莫克曼 厄文 保羅 , SMAKMAN, ERWIN PAUL , 卓吉妮雅 塔瑪拉 , DRUZHININA, TAMARA , 凡斯庫瑞恩 柯恩 艾德瑞安納斯 , VERSCHUREN, COEN ADRIANUS
IPC: H01J37/065 , H01J37/15
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201820936A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106131324
申请日：2017-09-13
Applicant: 美商AMSL荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 派斯 麥可 萊斯里 , PRICE, MICHAEL LESLIE , 密提 馬克 喬瑟夫 , MITRY, MARK JOSEPH , 史汀森 柯瑞 艾倫 , STINSON, CORY ALAN
Abstract: 本發明描述一種用於量測一目標之一移動屬性的方法。該方法包括：形成至少部分地與一經延伸目標區重合之一剩餘電漿，該剩餘電漿為自一先前目標與一先前輻射脈衝之間的在一目標空間中之一相互作用形成之一電漿；沿一軌跡朝向該目標空間釋放一當前目標，該軌跡至少部分地與該經延伸目標區重疊；在該當前目標處於該經延伸目標區內時且在一先前且鄰近目標已在該目標空間中與一先前輻射脈衝相互作用之後判定該當前目標之一或多個移動屬性；及若該當前目標的該經判定之一或多個移動屬性中之任一者超出一可接受範圍，則調整經引導朝向該目標空間之一輻射脈衝之一或多個特性。
Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种用于量测一目标之一移动属性的方法。该方法包括：形成至少部分地与一经延伸目标区重合之一剩余等离子，该剩余等离子为自一先前目标与一先前辐射脉冲之间的在一目标空间中之一相互作用形成之一等离子；沿一轨迹朝向该目标空间释放一当前目标，该轨迹至少部分地与该经延伸目标区重叠；在该当前目标处于该经延伸目标区内时且在一先前且邻近目标已在该目标空间中与一先前辐射脉冲相互作用之后判定该当前目标之一或多个移动属性；及若该当前目标的该经判定之一或多个移动属性中之任一者超出一可接受范围，则调整经引导朝向该目标空间之一辐射脉冲之一或多个特性。
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公开(公告)号：TW201820188A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106136452
申请日：2017-10-24
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 徐 端孚 , HSU, DUAN-FU STEPHEN , 李 小陽 , LI, XIAOYANG JASON
Abstract: 本發明提供一種用於最佳化一圖案化器件圖案之方法，該方法包括：獲得具有複數個多邊形之一初始設計圖案；使該等多邊形中之至少一些彼此有效地連接；將評估特徵置放於該等多邊形之邊界外；及基於該等評估特徵產生橫跨該等連接之多邊形之一圖案化器件圖案。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于最优化一图案化器件图案之方法，该方法包括：获得具有复数个多边形之一初始设计图案；使该等多边形中之至少一些彼此有效地连接；将评估特征置放于该等多边形之边界外；及基于该等评估特征产生横跨该等连接之多边形之一图案化器件图案。
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公开(公告)号：TW201820065A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106127561
申请日：2017-08-15
Applicant: 漢民微測科技股份有限公司 , HERMES MICROVISION, INC. , 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
IPC: G05B19/418
Abstract: 本發明之實施例提供用於提高半導體製造良率之系統及方法。本發明之實施例提供一種良率改良系統。該系統包含一訓練工具，其經組態以基於一第一基板之一檢驗的一或多個驗證結果之接收而產生訓練資料。該系統亦包含一點判定工具，其經組態以基於該訓練資料、一第二基板之弱點資訊及該第二基板之一掃描儀的一曝光配方來判定該第二基板上待檢驗之一或多個區。
Abstract in simplified Chinese: 本发明之实施例提供用于提高半导体制造良率之系统及方法。本发明之实施例提供一种良率改良系统。该系统包含一训练工具，其经组态以基于一第一基板之一检验的一或多个验证结果之接收而产生训练数据。该系统亦包含一点判定工具，其经组态以基于该训练数据、一第二基板之弱点信息及该第二基板之一扫描仪的一曝光配方来判定该第二基板上待检验之一或多个区。
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公开(公告)号：TWI624736B
公开(公告)日：2018-05-21
申请号：TW106127718
申请日：2016-07-15
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 羅伯茲康納利 馬利亞 , ROPS,CORNELIUS MARIA , 包曼維廉 振 , BOUMAN,WILLEM JAN , 波列特喜爾多爾斯 威爾赫瑪斯 , POLET,THEODORUS WILHELMUS
IPC: G03F7/20
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公开(公告)号：TWI623824B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW106100929
申请日：2017-01-12
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 裘寧克 安德烈 伯納德斯 , JEUNINK, ANDRE BERNARDUS , 馬汀斯 羅比 法蘭西斯科斯 喬瑟夫司 , MARTENS, ROBBY FRANCISCUS JOSEPHUS , 丹 佛絲 葉瑟芙 卡倫 馬莉雅 , DE VOS, YOUSSEF KAREL MARIA , 凡 朵斯特 雷哥 彼德斯 康納利斯 , VAN DORST, RINGO PETRUS CORNELIS , 譚 柏格 傑哈德 艾伯特 , TEN BRINKE, GERHARD ALBERT , 珊登 德爾克 杰洛米 安德烈 , SENDEN, DIRK JEROME ANDRE , 柏提斯 寇音 修伯特 邁修斯 , BALTIS, COEN HUBERTUS MATHEUS , 傑利森 賈斯汀 裘漢斯 赫馬努斯 , GERRITZEN, JUSTIN JOHANNES HERMANUS , 卡敏加 吉而摩 馬修斯 , KAMMINGA, JELMER MATTHEUS , 帕西提 伊芙琳 瓦莉斯 , PACITTI, EVELYN WALLIS , 波伊茲 湯瑪士 , POIESZ, THOMAS , 西柏利奇 艾利 可尼利斯 , SCHEIBERLICH, ARIE CORNELIS , 史古登 伯特 德克 , SCHOLTEN, BERT DIRK , 史卡德 安卓列 , SCHREUDER, ANDRE , 索薩德 雅伯罕 亞歷山卓 , SOETHOUDT, ABRAHAM ALEXANDER , 特洛普 塞弗烈德 亞歷山德 , TROMP, SIEGFRIED ALEXANDER , 凡 迪 威弗 尤里 喬哈奈 賈瑞爾 , VAN DE VIJVER, YURI JOHANNES GABRIEL
IPC: G03F7/20 , H01L21/683 , H01L21/687
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