一种农作物顶端优势去除装置及方法

    公开(公告)号:CN114303686A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202011055301.6

    申请日:2020-09-30

    Abstract: 本发明提供了一种农作物顶端优势去除装置及方法,所述装置包括:光纤激光器组件、传输光纤、扩束准直组件以及F‑θ镜;所述光纤激光器组件通过所述传输光纤将激光束传入所述扩束准直组件;所述扩束准直组件依据所述F‑θ镜与农作物顶芽之间的距离调整所述激光束的发散角、腰斑半径及腰斑位置,使所述激光束经过F‑θ镜后聚焦到所需去除的农作物顶芽所在的区域去除农作物顶芽。本发明的农作物顶端优势去除装置及方法,通过高能量的激光进行精准切割,不会对切割区域外的农作物植株造成损伤,精准控制激光的作用范围和强度,提高了打顶效率,保护农作物等植株,增加农作物的产量和品质。

    一种稳态辐射温度的间接测试方法

    公开(公告)号:CN113465755A

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN202010241713.2

    申请日:2020-03-31

    Abstract: 本发明提供了一种稳态辐射温度的间接测试方法,包括监测待测物非辐射部位的接触温度Tc;监测待测物的环境温度Ta;监测待测物辐射面的辐射温度Tr;建立接触温度Tc、环境温度Ta与辐射温度Tr之间的初始数学模型;获取多个试验温度下稳态后的多组接触温度测量值、环境温度测量值和辐射温度测量值;基于获取的多组接触温度测量值、环境温度测量值和辐射温度测量值对初始数学模型进行实验标定,得到接触温度Tc、环境温度Ta与辐射温度Tr之间的最终数学模型;基于任一时刻的接触温度测量值、环境温度测量值和最终数学模型得到对应时刻的辐射温度计算值。本发明能够解决现有技术中无法通过单点或多点接触测温结果精确推演辐射面的辐射温度的技术问题。

    一种温度传感装置
    83.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109827675A

    公开(公告)日:2019-05-31

    申请号:CN201711178011.9

    申请日:2017-11-23

    Abstract: 本发明提供了一种温度传感装置,该温度传感装置包括传感头底座、传感头主体部、模拟黑体腔、高温光学系统、耐高温光纤、光纤固定结构、固定顶丝、传光光纤和信号处理系统,模拟黑体腔设置在传感头底座内,高温光学系统用于收集模拟黑体腔发出的光辐射信号,耐高温光纤用于接收高温光学系统收集的光辐射信号,光纤固定结构用于固定耐高温光纤,固定顶丝用于限制光纤固定结构沿传感头主体部的轴向方向的移动,传光光纤与耐高温光纤连接,信号处理系统用于将传光光纤输出的光辐射信号转换为待测物体的温度。应用本发明的技术方案,以解决现有技术中温度传感装置的测温范围受限且动态响应、干扰屏蔽、使用寿命和恶劣环境适应性差的技术问题。

    非接触式物体位移测量装置及使用其的测量方法

    公开(公告)号:CN109751955A

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:CN201711054716.X

    申请日:2017-11-01

    Abstract: 本发明提供了一种非接触式物体位移测量装置及使用其的测量方法,该非接触物体位移测量装置包括:标准量块,标准量块用于提供高温环境下的标准长度,高温环境为温度值大于或等于500℃的温度环境;光学系统和相机,光学系统用于将目标物体和标准量块成像在相机的探测器上,相机用于采集目标物体和标准量块的图像并将采集到的目标物体和标准量块的图像输出至图像处理与控制单元;图像处理与控制单元,图像处理与控制单元用于根据标准量块提供的标准长度和目标物体的图像计算获取目标物体在高温环境下的形变位移量。应用本发明的技术方案,以解决现有技术中在进行高温物体位移测量时标定复杂的技术问题。

    一种射频/光学波束合成器
    85.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106767160A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611068607.9

    申请日:2016-11-29

    CPC classification number: F41G3/32

    Abstract: 本发明涉及一种射频/光学波束合成器,包括由基板和镀层组成的方形单元结构,基板采用光学材料,基板正面镀有镀层,镀层采用高反射率金属,镀层上有周期性重复的镂空图形。上述波束合成器在光学材料表面镀制FSS平面,保证表面质量、确保光学信号的高反射率,同时可以使射频信号由FSS表面透射,避免偏振态的改变。

    微型成像式红外温度场测量系统

    公开(公告)号:CN106679826A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201510760903.4

    申请日:2015-11-10

    Abstract: 本发明提供一种微型成像式红外温度场测量系统,包括:红外成像模块,用于收集被测目标的红外辐射;N个辐射匀化单元,用于将所述红外辐射进行匀化处理,其中N为大于等于2的整数;与所述N个辐射匀化单元对应的N个单波长滤光单元,每个单波长滤光单元包括M个滤光片,用于分别获取不同波长的红外辐射,其中M为波长数量;红外探测器,用于检测不同波长的红外辐射并输出测量信号;将多波长辐射测温理论应用到微型成像式红外温度场测量系统,解决了目前微型成像式红外温度场测量系统抗干扰能力低、测量精度差的问题。

    一种射频/光学波束合成器的设计方法

    公开(公告)号:CN106444055A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201611068610.0

    申请日:2016-11-29

    CPC classification number: G02B27/10 H01Q15/0046

    Abstract: 本发明涉及一种射频/光学波束合成器的设计方法,包括步骤:确定设计指标;从数据库中调用设计参数,结合光学信号反射传输理论和射频透射传输理论,确定射频/光学波束合成器的初步设计结果;利用光学信号和射频信号仿真方法进行仿真;当仿真结果符合预期结果时,将初步设计结果作为最终结果。本申请将光学仿真与射频仿真有机结合,提出基于光学材料的射频/光学波束合成器设计方法。根据本方法得到的合成器,在光学材料表面镀制FSS平面,保证表面质量,确保光学信号的高反射率,同时可以使射频信号由FSS表面透射,避免偏振态的改变。

    基于结构光和数字散斑测量高温物体位移和形变的装置

    公开(公告)号:CN106197290A

    公开(公告)日:2016-12-07

    申请号:CN201610712823.6

    申请日:2016-08-24

    CPC classification number: G01B11/02 G01B11/167

    Abstract: 本发明涉及一种基于结构光和数字散斑测量高温物体位移和形变的装置,包括:结构光激光器,用于输出单色结构光并照射到被测物体表面;激光测距单元,用于获得被测物体表面到光电探测单元的距离;光学成像单元,用于将被测物体表面的单色结构光图像成像在光电探测单元上;光电探测单元,用于采集成像的图像并发送给数据处理单元;数据处理单元,用于对光电探测单元发来的图像以及所述被测物体表面到光电探测单元的距离进行计算,得到所述被测量物体在高温状态下的位移和形变。本发明可以用于测量物体在高温状态下的位移和形变。

    一种紫外多参数校准装置
    89.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103175677B

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201310065833.1

    申请日:2013-03-04

    Abstract: 本发明涉及紫外光参数校准技术领域,具体的讲是一种紫外多参数校准装置,旋转平台内置于所述真空仓内,单色仪与真空仓相连接,紫外探测器通过单色仪测量真空仓内的紫外光源的辐射,或者紫外光源通过单色仪向真空仓提供紫外光源的辐射;标准紫外光源,待校准光源,标准紫外探测器,待校准探测器,紫外成像器和紫外成像参数校准系统均置于所述旋转平台之上,所述旋转平台根据控制信号沿着所述旋转平台的圆心旋转,其中,所述紫外成像器和紫外成像参数校准系统处于同一光路。通过上述实施例,能够在一个共用校准装置上实现紫外光源光谱辐射度校准、紫外探测器光谱响应度和紫外成像器参数的校准,节省了试验成本,提高了试验效率。

    一种极远紫外探测器校准装置

    公开(公告)号:CN102998089B

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201210478716.3

    申请日:2012-11-23

    Abstract: 本发明提供了一种极远紫外探测器校准装置,包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中,汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜,其包括摆镜和旋转位移平台,摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜,其反射镜中心轴线重合,其中一块反射镜的反射面A镀30nm~200nm反射膜,另一块反射镜的反射面B镀60nm~200nm反射膜。探测器单元包括标准探测器和待测探测器。利用本发明可以实现在30nm~200nm范围内探测器相对光谱响应度校准。本发明提供的整个装置体积小巧,接口丰富,在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计,提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。

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