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公开(公告)号：KR101399439B1
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：KR1020120078893
申请日：2012-07-19
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명은 기판의 금속박막 패터닝 과정에서 제거해야 할 영역을 선택적으로 제거하여 다양한 기대 효과를 얻을 수 있는 금속박막의 선택적 제거에 의한 패턴형성 방법에 관한 것으로서, 기판에 금속박막층을 증착하는 증착단계, 상기 기판과 상기 금속박막층간의 영역 중 적어도 일부의 접합력이 증가되도록 돌출되는 돌출패턴을 갖는 스탬프를 상기 금속박막층에 접촉하여 가압하는 가압단계, 상기 금속박막층에서 상기 돌출패턴에 의하여 가압 되지 않는 영역을 선택적으로 제거하여 패턴을 형성하는 패턴형성단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
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公开(公告)号：KR1020140012331A
公开(公告)日：2014-02-03
申请号：KR1020120078893
申请日：2012-07-19
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: The present invention relates to a method for forming a pattern of a metal thin film by selective removal capable of obtaining various effects by selectively removing sections to be removed in a metal thin film patterning process of a substrate. The method comprises: a deposition step of depositing a metal thin film layer on the substrate; a compression step of compressing a stamp having a protrusion pattern, which protrudes to partially increase bonding force between the substrate and the metal thin film layer, to the metal thin film layer; and a pattern forming step of forming the pattern by selectively removing the sections of the metal thin film layer which are not compressed by the protrusion pattern. [Reference numerals] (AA) START; (BB) END; (S110) Anti-adhesive treatment step; (S120) Deposition step; (S130) Compression step; (S140) Pattern formation step; (S141) Bonding step; (S142) Removal step
Abstract translation: 本发明涉及一种用于通过选择性去除形成金属薄膜图案的方法，该方法能够通过在衬底的金属薄膜构图工艺中选择性地除去待除去的部分而获得各种效果。 该方法包括：在衬底上沉积金属薄膜层的沉积步骤; 压缩步骤，压缩具有凸起图案的印模，所述凸起图案突出以部分地增加所述基板和所述金属薄膜层之间的结合力，所述压缩步骤到所述金属薄膜层; 以及图案形成步骤，通过选择性地去除未被突起图案压缩的金属薄膜层的部分来形成图案。 （附图标记）（AA）START; （BB）END; （S110）防粘处理工序; （S120）沉积步骤; （S130）压缩步骤 （S140）图案形成步骤; （S141）接合工序; （S142）去除步骤
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公开(公告)号：KR101335642B1
公开(公告)日：2013-12-03
申请号：KR1020120014530
申请日：2012-02-13
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본 발명에 따른 유기 발광 표시 장치는 기판, 기판 위에 위치하며 빈 공간을 포함하는 공기층, 공기층 위에 형성되어 있는 제1 전극, 제1 전극 위에 형성되어 있는 발광층, 발광층 위에 형성되어 있는 제2 전극을 포함하고, 빈 공간은 밀폐된 복수의 공간 또는 채움 입자 사이의 공극이다.
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公开(公告)号：KR1020130092922A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：KR1020120014530
申请日：2012-02-13
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: H01L51/5203 , H01L51/5218 , H01L51/5237 , H01L51/5262 , H01L51/5296 , H01L51/56
Abstract: PURPOSE: An organic light emitting diode display and a manufacturing method thereof are provided to simplify manufacturing processes by forming an air layer without an additional process. CONSTITUTION: An air layer (300) including an empty space (30) is formed on a substrate (111). The empty space is an air gap between the filling particles or a plurality of sealed spaces. A first electrode (710) is formed on the air layer. A light emitting layer (720) is formed on the first electrode. A second electrode (730) is formed on the light emitting layer.
Abstract translation: 目的：提供一种有机发光二极管显示器及其制造方法，通过在没有附加工艺的情况下形成空气层来简化制造工艺。 构成：在基板（111）上形成包括空的空间（30）的空气层（300）。 空的空间是填充颗粒或多个密封空间之间的气隙。 第一电极（710）形成在空气层上。 在第一电极上形成发光层（720）。 在发光层上形成第二电极（730）。
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公开(公告)号：KR1020130009448A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：KR1020110070576
申请日：2011-07-15
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: B82B3/0038 , B82Y40/00 , C08J3/24
Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of nanostructure using block copolymer queue is provided to manufacture nanostructures by a single process. CONSTITUTION: A manufacturing method of nanostructure using block copolymer queue comprises the following steps: laminating a reactive layer(120) on a substrate(110); forming a plurality of convex portions(131) on the reactive layer to be separated from each other; forming a free pattern(140) by etching and redeposition; removing the convex portions; removing the reactive layer remained on a substrate between the neighboring free patterns; and arranging block copolymer pattern(150) between the neighboring free patterns.
Abstract translation: 目的：提供使用嵌段共聚物排列的纳米结构的制造方法，通过单一工艺制造纳米结构。 构成：使用嵌段共聚物排列的纳米结构的制造方法包括以下步骤：将反应层（120）层压在基材（110）上; 在所述反应层上形成多个待分离的凸部（131）; 通过蚀刻和再沉积形成自由图案（140）; 去除凸部; 去除残留在相邻自由图案之间的衬底上的反应层; 以及在相邻的自由图案之间布置嵌段共聚物图案（150）。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101207300B1
公开(公告)日：2012-12-03
申请号：KR1020120082287
申请日：2012-07-27
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a thermoelement is provided to automatize a soldering process of a thermoelectric material and an electrode by thermally compressing an N-type or P-type thermoelectric material layer after alternatively deposing the thermoelectric material layers. CONSTITUTION: A Bi layer and a Te layer are alternatively deposited on an N-type thermoelectric material(N). Electrodes(9a,9b) of a substrate are arranged on the thermoelectric material on which the Bi layer and the Te layer are deposited. The electrode of the substrate and the thermoelectric material are thermally compressed. The Bi layer and the Te layer are transformed into a Bi-Te compound. At the same time, the electrode of the substrate and the thermoelectric material are soldered.
Abstract translation: 目的：提供一种用于制造热电偶的方法，用于通过热交换热电材料层之后热压N型或P型热电材料层来自动化热电材料和电极的焊接工艺。 构成：将Bi层和Te层交替沉积在N型热电材料（N）上。 将基板的电极（9a，9b）布置在其上沉积有Bi层和Te层的热电材料上。 基板的电极和热电材料被热压缩。 Bi层和Te层转变成Bi-Te化合物。 同时，焊接基板的电极和热电材料。
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公开(公告)号：KR101175977B1
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：KR1020100059419
申请日：2010-06-23
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명은나노은입자를포함하는콜로이드스핀코팅후 열처리를통해나노구조어레이를제작함으로써기존의탑다운방식(식각또는 lift-off)의금속나노구조어레이제작방법에비해대면적화및 공정제어가용이하며, 또한금속필름을이용하는방법에비해고온에적합하지않은기판에도적용가능하며, 입자패턴의규칙성및 크기제어가용이한저비용고생산성의국소표면플라즈몬공명의유도를위한금속나노구조어레이제작방법에관한것으로서, 용매에나노은입자가분산되는콜로이드서스펜션(colloidal suspension)과나노구조어레이가제작될기판을준비하는준비단계, 상기콜로이드서스펜션에포함되는나노은입자가덩어리를형성하고용매가증발하여서로격리된나노은섬(nanosilver islands)을형성하도록열처리하는열처리단계계를포함하는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR1020120069292A
公开(公告)日：2012-06-28
申请号：KR1020100130785
申请日：2010-12-20
Applicant: 한국기계연구원
IPC: B32B3/30
CPC classification number: B32B3/30 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/165
Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of ceramics template having micro-pattern is provided to improve accuracy and density of the micro-pattern by eliminating defects due to disorder orientation. CONSTITUTION: A manufacturing method of ceramics template having micro-pattern comprises the following steps: manufacturing compliant mold which includes a protruded unit; forming a coating layer by spreading metal-organic precursor solution on a substrate(31); solidifying the coating layer as pressurizing the coating layer with the compliant mold; forming a metal oxide pattern(33) in which a first concave part is included by eliminating the compliant mold; filling a block copolymer coating layer which includes block copolymer in the first concave part(34); separating recurring units by sintering the block copolymer coating layer; forming a magnetism assembling structure which is composed of a plurality of high-molecule-blocks; and forming micro-patterns(43) which includes a second concave part by eliminating a part of the copolymer.
Abstract translation: 目的：提供具有微图案的陶瓷模板的制造方法，以通过消除由于无序取向引起的缺陷来提高微图案的精度和密度。 构成：具有微图案的陶瓷模板的制造方法包括以下步骤：制造包括突出单元的柔性模具; 通过将金属 - 有机前体溶液铺展在基材（31）上形成涂层; 使用所述柔性模具使所述涂层固化; 形成金属氧化物图案（33），其中通过消除柔性模具包括第一凹部; 在第一凹部（34）中填充包含嵌段共聚物的嵌段共聚物涂层; 通过烧结嵌段共聚物涂层来分离重复单元; 形成由多个高分子块组成的磁性组装结构; 以及通过消除所述共聚物的一部分而形成包括第二凹部的微图案（43）。
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公开(公告)号：KR101102027B1
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：KR1020100028721
申请日：2010-03-30
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 롤임프린트 장치에 관한 것으로, 기판 상에 수지를 전사하는 전사롤러를 사용하여 임프린트 리소그래피를 수행하기 위한 롤임프린트 장치에 있어서, 상기 전사롤러는 롤러지지대에 의해 지지되어 회전 운동하되 회전 중심에 안착홀이 관통 형성되는 투광성의 원통봉; 상기 안착홀에 삽입된 채 상기 롤러지지대에 고정되어 상기 기판의 표면을 향해 광을 조사하는 광조사부;를 포함하여 구성되고, 상기 원통봉의 외경에 따라 상기 기판의 이동 속도 또는 상기 원통봉의 회전속도가 조절되는 것을 특징으로 한다.
이에 따라 기판의 투명도에 상관없이 가압 상태에서 기판에 전사된 수지를 경화시킬 수 있도록 하는 롤임프린트 장치가 제공된다.
또한, 기판의 이송 과정에서 기판에 전사된 수지의 형태가 파손되거나 변형되는 것을 방지하고, 제품의 품질을 향상시킬 수 있는 롤임프린트 장치가 제공된다.-
公开(公告)号：KR101102012B1
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：KR1020100107872
申请日：2010-11-01
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0275 , G03F7/2012
Abstract: PURPOSE: A fine structure formation method which uses a partial hardening process is provided to attach a target material by partial hardening a hardening polymer, thereby easily arranging various shapes of fine structures on a wide substrate. CONSTITUTION: A polymer pattern which includes a partial hardening layer is arranged on a first base substrate(S1). The first base substrate is installed in a target substrate in which a target material is coated in order to mutually connect the target material and partial hardening layer(S2). The partial hardening layer is completely hardened in order to attach the target material to the partial hardening layer(S3). The first base substrate is separated from the target substrate(S4).
Abstract translation: 目的：提供使用局部硬化处理的精细结构形成方法，通过部分硬化固化聚合物来附着目标材料，从而容易地在宽的基板上排列各种形状的精细结构。 构成：包括部分硬化层的聚合物图案设置在第一基底（S1）上。 为了使目标材料和部分硬化层（S2）相互连接，将第一基板安装在目标基板中，在其中涂覆目标材料。 为了将目标材料附着到部分硬化层，部分硬化层被完全硬化（S3）。 第一基底与目标基底分离（S4）。
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