公开(公告)号：CN1387499A

公开(公告)日：2002-12-25

申请号：CN00815425.2

申请日：2000-09-08

Applicant: 康宁股份有限公司

Inventor： L·H·科塔斯卡 ,  R·S·小帕夫利克

IPC: C03B37/018 ,  C03B37/01

CPC classification number: C04B35/10 ,  C03B19/1407 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/50 ,  F27B9/26 ,  F27B17/00 ,  F27D1/0006 ,  F27D1/0043 ,  F27D3/0033

Abstract: 提供较纯的二氧化硅制品,制造这种制品的窑炉(50)和方法。通过在耐火材料窑炉(50)中收集熔融二氧化硅颗粒来制造这种制品,在窑炉中,至少有一部分耐火材料(32)曾受过含卤素气体的处理,该含卤素气体与耐火材料(32)中的污染金属离子进行了反应。

公开(公告)号：WO2016100255A1

公开(公告)日：2016-06-23

申请号：PCT/US2015/065669

申请日：2015-12-15

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： GROH, Raymond D ,  LI, Ming-Jun ,  OZTURK, Alper ,  ZHOU, Chunfeng

IPC: C03B37/014

CPC classification number: C03B37/01486 ,  C03B37/01225 ,  C03B37/01446 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50

Abstract: A method for forming an optical fiber preform is provided. The method includes inserting a glass core cane (511) into a glass sleeve (32) such that the glass sleeve (32) surrounds a portion of the glass core cane (511) and such that there is a gap between the glass sleeve and the portion of the glass core cane surrounded by the glass sleeve. The method further includes depositing silica soot (36) onto at least a portion of the glass core cane (511) and at least a portion of the glass sleeve (32) to form a silica soot preform (28), and flowing gas through the gap during processing of the silica soot preform, e.g. sintering. The processing time can be reduced. Alternatively the glass core can can be attached to a handle comprising a hollow interior portion connected to the exterior of the handle by at least one opening in the handle wall. Soot is deposited onto a portion of the core cane and a portion of the handle and gas is flowed through the opening during processsing of the silica soot preform.

Abstract translation: 提供了一种用于形成光纤预制棒的方法。 该方法包括将玻璃芯棒（511）插入玻璃套筒（32）中，使得玻璃套管（32）围绕玻璃芯棒（511）的一部分，并且使得玻璃套筒和 由玻璃套筒包围的玻璃芯棒的一部分。 该方法还包括将二氧化硅烟灰（36）沉积在玻璃芯棒（511）的至少一部分上，以及玻璃套管（32）的至少一部分，以形成二氧化硅烟炱预制件（28），并使气体流过 在二氧化硅烟炱预制件的加工期间的间隙，例如 烧结。 可以减少处理时间。 或者，玻璃芯可以附接到包括通过手柄壁中的至少一个开口连接到手柄外部的中空内部的手柄。 在二氧化硅烟炱预制件的加工过程中，烟灰沉积在芯棒的一部分上，一部分手柄和气体流过开口。

公开(公告)号：WO2016073606A1

公开(公告)日：2016-05-12

申请号：PCT/US2015/059035

申请日：2015-11-04

Applicant: VERRILLON, INC.

Inventor： JACOBSEN, William ,  SOUFIANE, Abdelouahed

IPC: C03C3/06 ,  C03C13/04 ,  C03C25/10 ,  G02B6/02

CPC classification number: G02B6/0281 ,  C03B37/018 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/70 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/26 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C25/104 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/31 ,  C03C2217/91 ,  G02B6/02 ,  G02B6/0283 ,  G02B6/03627 ,  Y02P40/57

Abstract: Embodiments of the invention relate to a hydrogen-resistant optical fiber with a core having a central axis. The core may include only silica, or only silica and fluorine, while a cladding region surrounding the core may be made of silica and fluorine, along with at least one of germanium, phosphorus, and titanium.

Abstract translation: 本发明的实施例涉及具有中心轴的芯的耐氢光纤。 芯可以仅包括二氧化硅，或者仅包括二氧化硅和氟，而围绕芯的包层区域可以由二氧化硅和氟以及锗，磷和钛中的至少一种制成。

公开(公告)号：WO2015116758A1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：PCT/US2015/013417

申请日：2015-01-29

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： ANGELL, William R, IV ,  ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos Alberto ,  MAXON, John Edward

IPC: C03C3/06 ,  C03C3/062 ,  C03B19/14 ,  G03F1/24

CPC classification number: C03C3/076 ,  C03B19/09 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/50 ,  C03C3/06 ,  C03C3/062 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/40 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60

Abstract: A glass article for use in Extreme Ultra Violet Lithography (EUVL) is provided. The glass article includes a silica-titania glass having a compositional gradient through the glass article, the compositional gradient being defined by the functions: [TiO 2 ] = (c + f(x,y,z)), and [SiO 2 ] = (100 - {c + f(x,y,z)} - δ(x,y,z) ) wherein [TiO 2 ] is the concentration of titania in wt.%, [SiO 2 ] is the concentration of silica in wt.%, c is the titania concentration in wt.% for a predetermined zero crossover temperature (T zc ), f(x,y,z) is a function in three-dimensional space that defines the difference in average composition of a volume element centered at the coordinates (x,y,z) with respect to c, and δ(x,y,z) is a function in three-dimensional space that defines the sum of all other components of a volume element centered at the coordinates (x,y,z).

Abstract translation: 提供了用于极光紫外光刻（EUVL）的玻璃制品。 玻璃制品包括通过玻璃制品具有组成梯度的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃，组成梯度由以下功能定义：[TiO 2] =（c + f（x，y，z））和[SiO 2] =（ 100 - {c + f（x，y，z）} - δ（x，y，z））其中[TiO 2]是二氧化钛的重量百分比浓度，[SiO2]是二氧化硅的重量百分比 ，c是对于预定的零交叉温度（Tzc），二氧化钛浓度以重量％计，f（x，y，z）是三维空间中的函数，其定义以中心为中心的体积元素的平均组成的差异 坐标（x，y，z）相对于c，δ（x，y，z）是三维空间中的函数，其定义以坐标（x，y）为中心的体元素的所有其他分量的和 ，Z）。

公开(公告)号：WO2015038733A1

公开(公告)日：2015-03-19

申请号：PCT/US2014/055126

申请日：2014-09-11

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： DURAN, Carlos Alberto

IPC: C03B25/08

CPC classification number: C03B25/00 ,  C03B25/02 ,  C03B25/08 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C2201/00 ,  C03C2201/42 ,  Y02P40/57

Abstract: Silica-titania glasses with small temperature variations in coefficient of thermal expansion over a wide range of zero-crossover temperatures and methods for making the glasses. The method includes a cooling protocol with controlled anneals over two different temperature regimes. A higher temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 750°C - 950°C or a sub-interval thereof. A lower temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 650°C - 875°C or a sub-interval thereof. The controlled anneals permit independent control over CTE slope and Tzc of silica-titania glasses. The independent control provides CTE slope and Tzc values for silica-titania glasses of fixed composition over ranges heretofore possible only through variations in composition.

Abstract translation: 在宽范围的零交叉温度下具有小的温度变化系数的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃以及用于制造眼镜的方法。 该方法包括在两种不同温度方案下具有受控退火的冷却方案。 较高的温度控制退火可以在750℃至950℃的温度间隔或其子间隔内进行。 较低的温度控制退火可以在650℃-875℃的温度间隔或其子间隔内进行。 受控退火允许独立控制二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc。 独立控制提供固体组合物的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc值，迄今为止只能通过组成变化来实现。

公开(公告)号：WO2014122111A3

公开(公告)日：2014-10-23

申请号：PCT/EP2014052106

申请日：2014-02-04

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS ,  SHINETSU QUARTZ PROD

Inventor： THOMAS STEPHAN ,  BECKER KLAUS ,  OCHS STEFAN

IPC: G03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  G02B5/08 ,  G03F7/20

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B25/02 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/52 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958

Abstract: To provide a blank of TiO2-SiO2 glass for a mirror substrate for use in EUV lithography, in which the need for adaptation to optimize the progression of the coefficient of thermal expansion, and consequently also the progression of the zero crossing temperature Tzc, is low, the TiO2-SiO2 glass has at a mean value of the fictive temperature Tf in the range between 920°C and 970°C a dependence of its zero crossing temperature Tzc on the fictive temperature Tf which, expressed as the differential quotient dTzc/dTf, is less than 0.3.

Abstract translation: 为了提供用于镜基板制成的TiO 2 -SiO 2玻璃的在EUV光刻中使用的空白，其中需要进行调整，以优化的热膨胀系数的过程中和过零点温度因而也过程TZC小，TiO2-SiO2的 与假想温度Tf的在920℃，970℃，其过零点温度假想温度Tf，它表示为一个微商dTzc / DTF的TZC的函数之间的范围内的平均值为小于0.3的玻璃。

公开(公告)号：WO2014045990A1

公开(公告)日：2014-03-27

申请号：PCT/JP2013/074643

申请日：2013-09-12

Applicant: 株式会社ニコン

Inventor： 吉成　俊雄

IPC: C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  G03F1/60

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B11/08 ,  C03B19/1469 ,  C03B23/0493 ,  C03B32/005 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/70 ,  C03B2207/80 ,  C03B2215/44 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  G03F1/60

Abstract: 　ＳｉＯ 2 －ＴｉＯ 2 系ガラスの製造方法は、直接法によりターゲット上にＳｉＯ 2 －ＴｉＯ 2 系ガラスを製造する方法であって、ケイ素化合物およびチタン化合物を酸水素火炎中に供給して火炎加水分解することにより、ターゲット上に所定の長さのＳｉＯ 2 －ＴｉＯ 2 系ガラスインゴットを成長させるインゴット成長工程を含み、インゴット成長工程は、ケイ素化合物の供給量に対するチタン化合物の供給量の比率を所定の値に達するまでＳｉＯ 2 －ＴｉＯ 2 系ガラスインゴットの成長に伴って徐々に増加させる第１の工程と、第１の工程において比率が所定の値に達した後、比率を一定に保持したままＳｉＯ 2 －ＴｉＯ 2 系ガラスインゴットを成長させる第２の工程と、を有する。

Abstract translation: 本发明提供了使用直接法在靶上制造SiO 2 -TiO 2玻璃的SiO 2 -TiO 2玻璃的制造方法。 SiO 2 -TiO 2玻璃的制备方法包括锭生长步骤，其中通过将硅化合物和钛化合物供应到氢氧焰并进行火焰水解，在靶上生长预定长度的SiO 2 -TiO 2玻璃锭。 锭生长步骤包括：第一步骤，其中钛化合物的供应量与硅化合物的供应量的比例随着SiO 2 -TiO 2玻璃锭的生长而逐渐增加，直到所述比例达到预定的 值; 第二步，在比率达到第一步骤的预定值之后，生长SiO 2 -TiO 2玻璃锭，同时比率保持不变。

公开(公告)号：WO2012008343A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：PCT/JP2011/065497

申请日：2011-07-06

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  小池 章夫 ,  宮坂 順子 ,  中西 博志

Inventor： 小池　章夫 ,  宮坂　順子 ,  中西　博志

IPC: B29C59/02 ,  B29C33/38 ,  C03B20/00 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C19/00

CPC classification number: B29D11/00769 ,  B24B9/10 ,  B29C59/002 ,  B29C59/026 ,  C03B19/14 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C19/00 ,  C03C2201/42 ,  C03C2204/08 ,  G03F7/0002 ,  Y10T428/24355

Abstract: 　本発明は、主表面と側面とを有する、インプリントモールド用ＴｉＯ ２ 含有石英ガラス基材であって、前記側面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、１ｎｍ以下であり、前記側面の、１０μｍから１ｍｍの波長領域の凹凸の二乗平均平方根（ＭＳＦＲ＿ｒｍｓ）が、１０ｎｍ以下である、インプリントモールド用ＴｉＯ ２ 含有石英ガラス基材に関する。

Abstract translation: 所公开的用于压印模具的含TiO 2的石英玻璃基板具有主表面和侧表面。 侧面的算术平均粗糙度（Ra）为1nm以下，侧面的频率粗糙度的均方根为10μm以下（MSFR_rms）为10nm以下。

公开(公告)号：WO2011104257A1

公开(公告)日：2011-09-01

申请号：PCT/EP2011/052650

申请日：2011-02-23

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  KUEHN, Bodo ,  OCHS, Stefan

Inventor： KUEHN, Bodo ,  OCHS, Stefan

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/23 ,  G02B5/0891

Abstract: Es ist bekannt zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie, das Ti-dotierte Kieselglas mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen zu erzeugen und anschließend in dem Ti-dotierten Kieselglas einen vorgegebenen Wasserstoffgehalt einzustellen. Um hiervon ausgehend eine möglichst weitgehende Unempfindlichkeit der Oberfläche gegenüber Verwerfungen und Verformungen bei Bestrahlung mit EUV- Laserstrahlung zu erreichen, wird erfindungsgemäß ein Verfahrensweise vorgeschlagen, bei dem durch Flammenhydrolyse ein Sootkörper aus mit Titan dotiertem SiO 2 erzeugt wird, der Sootkörper durch Erhitzen auf eine Temperatur von mindestens 1150 °C unter Vakuum getrocknet wird, so dass sich ein mittlerer Hydroxylgruppengehalt von weniger als 150 Gew.-ppm einstellt, der getrocknete Sootkörper unter Bildung einer Vorform aus Ti-dotiertem Kieselglas gesintert wird, und das Ti-dotierte Kieselglas mit Wasserstoff beladen wird, so dass sich ein mittlerer Wasserstoffgehalt von mindestens 1 x 10 16 Molekülen/cm 3 einstellt.

Abstract translation: 它是在将Ti掺杂的二氧化硅玻璃已知的用于生产含钛原料和用于在EUV光刻中使用的镜基板以产生由硅和火焰水解的Ti掺杂的石英玻璃制成的掺杂钛的高二氧化硅玻璃的坯料然后一个 调整预定的氢含量。 向该基础实现表面相反在用EUV激光辐射照射失真和变形的最大可能的免疫力，提出一种方法，与其中通过加热由掺杂钛的SiO 2，烟灰体的微粉体的火焰水解产生的的温度下，本发明 至少1150℃在真空下干燥，从而使小于150质量ppm的平均羟基含量，将干燥的烟炱体烧结以形成钛 - 掺杂的二氧化硅玻璃的预成型体，并在Ti掺杂的二氧化硅玻璃中装入氢 使得至少1×10 16的平均氢含量调整分子/立方厘米。

公开(公告)号：WO2009107870A1

公开(公告)日：2009-09-03

申请号：PCT/JP2009/054225

申请日：2009-02-27

Applicant: ASAHI GLASS CO., LTD. ,  KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  KIKUGAWA, Shinya ,  TACHIBANA, Yuko

Inventor： KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  KIKUGAWA, Shinya ,  TACHIBANA, Yuko

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00

CPC classification number: C03B19/1453 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70958 ,  Y02P40/57

Abstract: The present invention provides a TiO2-SiO2 glass in which when used as an optical member for an exposure tool for EUVL, a thermal expansion coefficient is substantially zero at the time of irradiation with high-EUV energy light, and physical properties of a multilayer can be kept over a long period of time by releasing hydrogen from the glass. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass having a fictive temperature of 1,100 °C or lower, a hydrogen molecule concentration of 1 x 10 16 molecules/cm3 or more, and a temperature, at which a linear thermal expansion coefficient is 0 ppb/°C, falling within the range of from 40 to 110 °C.

Abstract translation: 本发明提供了一种TiO 2 -SiO 2玻璃，其中当用作用于EUVL的曝光工具的光学部件时，在高EUV能量光照射时热膨胀系数基本上为零，并且多层罐的物理性能 通过从玻璃中释放氢气，保持很长一段时间。 本发明涉及具有1,100℃或更低的假想温度，1×1016分/ cm 3或更高的氢分子浓度和线性热膨胀系数为0ppb的温度的含TiO 2的二氧化硅玻璃 /℃，落在40〜110℃的范围内。