公开(公告)号：TWI663481B

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：TW104113094

申请日：2015-04-23

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 貝瑞登森 克里斯提耶納斯 威爾漢瑪斯 裘漢斯 ,  BERENDSEN, CHRISTIANUS WILHELMUS JOHANNES ,  麥卡爾斯 麥塞爾 ,  BECKERS, MARCEL ,  卡泰恩司 亨利克斯 裘塞夫 ,  CASTELIJNS, HENRICUS JOZEF ,  葛雷茲 荷伯特斯 安東尼斯 ,  GERAETS, HUBERTUS ANTONIUS ,  克佛耶茲 安卓尼斯 亨瑞克 ,  KOEVOETS, ADRIANUS HENDRIK ,  李維榭 李昂 馬汀 ,  LEVASIER, LEON MARTIN ,  史洽普 彼得 ,  SCHAAP, PETER ,  史崔弗科 包伯 ,  STREEFKERK, BOB ,  特洛普 塞弗烈德 亞歷山德 ,  TROMP, SIEGFRIED ALEXANDER

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：TWI701516B

公开(公告)日：2020-08-11

申请号：TW104139223

申请日：2015-11-25

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 巴特勒 漢司 ,  BUTLER, HANS ,  露普斯 羅歐 馬登 賽門 ,  KNOPS, RAOUL MAARTEN SIMON ,  史崔弗科 包伯 ,  STREEFKERK, BOB ,  范倫丁 克力斯坦 路易斯 ,  VALENTIN, CHRISTIAAN LOUIS ,  凡 沙特 珍 伯納德 波萊奇莫斯 ,  VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS ,  西蒙斯 威爾海莫斯 法蘭西斯可思 喬翰尼斯 ,  SIMONS, WILHELMUS FRANCISCUS JOHANNES ,  馬克斯 里昂 李奧納多斯 法蘭西斯可斯 ,  MERKX, LEON LEONARDUS FRANCISCUS ,  迪 強夫 羅柏特斯 喬哈奈斯 馬利那斯 ,  DE JONGH, ROBERTUS JOHANNES MARINUS ,  瑪莉 勞爾 強漢尼司 伊莉莎白 ,  MERRY, ROEL JOHANNES ELISABETH ,  伊瑪 麥可 費德瑞 ,  YPMA, MICHAEL FREDERIK

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：TWI424275B

公开(公告)日：2014-01-21

申请号：TW097135382

申请日：2004-06-08

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 茄利 羅夫 ,  LOF, JOERI ,  漢斯 包特 ,  BUTLER, HANS ,  斯喬德 尼考拉司 蘭博特司 當德司 ,  DONDERS, SJOERD NICOLAAS LAMBERTUS ,  愛克夏 寇蘭辛嘉寇 ,  KOLESNYCHENKO, ALEKSEY ,  愛立克 羅勞夫 羅斯崔 ,  LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  漢德克斯 喬漢斯 瑪利亞 梅捷 ,  MEIJER, HENDRICUS JOHANNES MARIA ,  羅夫 愛寇 塞布蘭德 瑞茲瑪 ,  RITSEMA, ROELOF AEIKO SIEBRAND ,  法蘭克 范 斯慨 ,  VAN SCHAIK, FRANK ,  提姆瑟 法蘭西斯 參格 ,  SENGERS, TIMOTHEUS FRANCISCUS ,  卡拉司 賽門 ,  SIMON, KLAUS ,  喬安那 斯朵爾 戴 斯密特 ,  DE SMIT, JOANNES THEODOOR ,  包博 斯崔夫克 ,  STREEFKERK, BOB ,  愛立克 賽多爾 瑪利亞 畢爾特 ,  BIJLAART, ERIK THEODORUS MARIA ,  克利斯汀 愛利克安德 豪根丹 ,  HOOGENDAM, CHRISTIAAN ALEXANDER ,  海莫 范 參登 ,  VAN SANTEN, HELMAR ,  馬卡斯 安德納斯 范 戴 克豪夫 ,  VAN DE KERKHOF, MARCUS ADRIANUS ,  馬克 克倫 ,  KROON, MARK ,  愛里 捷弗列 丹 包夫 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY ,  菊斯特 捷恩 歐鄧 ,  OTTENS, JOOST JEROEN ,  喬納斯 嘉瑟琳那 哈博特司 姆肯斯 ,  MULKENS, JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS ,  愛利克安德 斯崔捷 ,  STRAAIJER, ALEXANDER ,  捷羅 喬漢斯 蘇菲雅 瑪利亞 麻登思 ,  MERTENS, JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70883

公开(公告)号：TWI427427B

公开(公告)日：2014-02-21

申请号：TW097145513

申请日：2005-04-04

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 阿卡斯 尤米希 可萊希燦可 ,  KOLESNYCHENKO, ALEKSEY YURIEVICH ,  喬納斯 喬可巴斯 麥修斯 巴賽曼 ,  BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS ,  史喬德 尼可拉斯 藍伯特斯 當德斯 ,  DONDERS, SJOERD NICOLAAS LAMBERTUS ,  克里斯汀 亞歷山大 胡根登 ,  HOOGENDAM, CHRISTIAAN ALEXANDER ,  漢斯 強森 ,  JANSEN, HANS ,  喬翁 喬納斯 蘇菲亞 馬莉亞 馬汀斯 ,  MERTENS, JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA ,  喬納斯 凱瑟尼斯 哈伯特斯 馬肯斯 ,  MULKENS, JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS ,  費力克斯 卡德弗萊 彼得 彼得斯 ,  PEETERS, FELIX GODFRIED PETER ,  包伯 史崔弗科 ,  STREEFKERK, BOB ,  法蘭西斯克斯 喬納斯 赫曼 馬里亞 泰烏尼森 ,  TEUNISSEN, FRANCISCUS JOHANNES HERMAN MARIA ,  賀馬 凡 聖誕 ,  VAN SANTEN, HELMAR

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70908

公开(公告)号：TW201546568A

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：TW104113094

申请日：2015-04-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 貝瑞登森 克里斯提耶納斯 威爾漢瑪斯 裘漢斯 ,  BERENDSEN, CHRISTIANUS WILHELMUS JOHANNES ,  麥卡爾斯 麥塞爾 ,  BECKERS, MARCEL ,  卡泰恩司 亨利克斯 裘塞夫 ,  CASTELIJNS, HENRICUS JOZEF ,  葛雷茲 荷伯特斯 安東尼斯 ,  GERAETS, HUBERTUS ANTONIUS ,  克佛耶茲 安卓尼斯 亨瑞克 ,  KOEVOETS, ADRIANUS HENDRIK ,  李維榭 李昂 馬汀 ,  LEVASIER, LEON MARTIN ,  史洽普 彼得 ,  SCHAAP, PETER ,  史崔弗科 包伯 ,  STREEFKERK, BOB ,  特洛普 塞弗烈德 亞歷山德 ,  TROMP, SIEGFRIED ALEXANDER

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70883 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70941

Abstract: 一種用於補償包含一基板台之一微影裝置之一曝光程序中之一曝光誤差的方法，該方法包含：獲得指示到達基板位階之IR輻射之一劑量之一劑量量測，其中該劑量量測可用以計算由該微影裝置中之一物件在一曝光程序期間吸收之IR輻射之一量；及使用該劑量量測以控制該曝光程序，以便補償與由該物件在該曝光程序期間吸收之該IR輻射相關聯的一曝光誤差。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于补偿包含一基板台之一微影设备之一曝光进程中之一曝光误差的方法，该方法包含：获得指示到达基板位阶之IR辐射之一剂量之一剂量量测，其中该剂量量测可用以计算由该微影设备中之一对象在一曝光进程期间吸收之IR辐射之一量；及使用该剂量量测以控制该曝光进程，以便补偿与由该对象在该曝光进程期间吸收之该IR辐射相关联的一曝光误差。

公开(公告)号：TWI442694B

公开(公告)日：2014-06-21

申请号：TW100112333

申请日：2004-05-17

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 斯崔夫克 包博 ,  STREEFKERK, BOB ,  戴雷期 馬歇爾 瑪堤斯 塞多爾 瑪里 ,  DIERICHS, MARCEL MATHIJS THEODORE MARIE ,  吉何 范 安慎 溫蒂 法蘭西斯卡 喬漢納 ,  GEHOEL-VAN ANSEM, WENDY FRANSISCA JOHANNA

IPC: H03F1/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70958

公开(公告)号：TW201626113A

公开(公告)日：2016-07-16

申请号：TW104139223

申请日：2015-11-25

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 巴特勒 漢司 ,  BUTLER, HANS ,  露普斯 羅歐 馬登 賽門 ,  KNOPS, RAOUL MAARTEN SIMON ,  史崔弗科 包伯 ,  STREEFKERK, BOB ,  范倫丁 克力斯坦 路易斯 ,  VALENTIN, CHRISTIAAN LOUIS ,  凡 沙特 珍 伯納德 波萊奇莫斯 ,  VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS ,  西蒙斯 威爾海莫斯 法蘭西斯可思 喬翰尼斯 ,  SIMONS, WILHELMUS FRANCISCUS JOHANNES ,  馬克斯 里昂 李奧納多斯 法蘭西斯可斯 ,  MERKX, LEON LEONARDUS FRANCISCUS ,  迪 強夫 羅柏特斯 喬哈奈斯 馬利那斯 ,  DE JONGH, ROBERTUS JOHANNES MARINUS ,  瑪莉 勞爾 強漢尼司 伊莉莎白 ,  MERRY, ROEL JOHANNES ELISABETH ,  伊瑪 麥可 費德瑞 ,  YPMA, MICHAEL FREDERIK

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G03F7/705 ,  G03F7/706

Abstract: 本發明係關於一種用於一微影裝置之投影系統，其包含：一光學路徑；複數個感測器；一或多個致動器；及一控制器。該光學路徑可操作以接收一輸入輻射光束且將一輸出輻射光束投影至一基板上以形成一影像。該光學路徑包含：複數個光學元件，該複數個光學元件包含：第一組至少兩個光學元件及第二組至少一個光學元件。每一感測器與該複數個光學元件中之一者相關聯且可操作以判定彼光學元件之一位置。每一致動器與該第二組光學元件中之一者相關聯且可操作以調整彼光學元件。該控制器可操作以使用該一或多個致動器以取決於該第一組光學元件之該經判定位置而調整該第二組光學元件，以便至少部分地補償由該第一組光學元件之該等位置造成的光學像差及/或視線誤差。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种用于一微影设备之投影系统，其包含：一光学路径；复数个传感器；一或多个致动器；及一控制器。该光学路径可操作以接收一输入辐射光束且将一输出辐射光束投影至一基板上以形成一影像。该光学路径包含：复数个光学组件，该复数个光学组件包含：第一组至少两个光学组件及第二组至少一个光学组件。每一传感器与该复数个光学组件中之一者相关联且可操作以判定彼光学组件之一位置。每一致动器与该第二组光学组件中之一者相关联且可操作以调整彼光学组件。该控制器可操作以使用该一或多个致动器以取决于该第一组光学组件之该经判定位置而调整该第二组光学组件，以便至少部分地补偿由该第一组光学组件之该等位置造成的光学像差及/或视线误差。

公开(公告)号：TWI410745B

公开(公告)日：2013-10-01

申请号：TW099106186

申请日：2006-04-20

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 史翠卡克 包伯 ,  STREEFKERK, BOB ,  當德斯 史喬德 尼可拉斯 萊伯特斯 ,  DONDERS, SJOERD, NICOLAAS, LAMBERTUS ,  丹 葛瑞夫 羅芙 佛德瑞克 ,  DE GRAAF, ROELOF, FREDERIK ,  胡格丹 克里斯汀恩 亞歷山大 ,  HOOGENDAM, CHRISTIAAN ALEXANDER ,  里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 ,  LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS ,  馬丁斯 喬洛恩 喬恩斯 蘇菲亞 馬莉亞 ,  MERTENS, JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA ,  瑞潘 米歇爾 ,  RIEPEN, MICHEL

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/70341

公开(公告)号：TWI392974B

公开(公告)日：2013-04-11

申请号：TW097136168

申请日：2008-09-19

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 包伯 史崔弗科 ,  STREEFKERK, BOB ,  羅洛夫 費德瑞克 迪 葛瑞夫 ,  DE GRAAF, ROELOF FREDERIK ,  瓊斯 卡莎琳納斯 修伯特斯 穆爾肯斯 ,  MULKENS, JOHANNES CATHARINUS HUBERTUS ,  麥塞爾 麥卡爾斯 ,  BECKERS, MARCEL ,  保羅 佩托拉斯 強漢斯 柏克文斯 ,  BERKVENS, PAUL PETRUS JOANNES ,  大衛 路希安 安斯托茲 ,  ANSTOTZ, DAVID LUCIEN

IPC: G03F7/20 ,  G01L19/00

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341