VERFAHREN ZUM FEINPOLIEREN/-STRUKTURIEREN WÄRMEEMPFLINDLICHER DIELEKTRISCHER MATERIALIEN MITTELS LASERSTRAHLUNG
    1.
    发明申请
    VERFAHREN ZUM FEINPOLIEREN/-STRUKTURIEREN WÄRMEEMPFLINDLICHER DIELEKTRISCHER MATERIALIEN MITTELS LASERSTRAHLUNG 审中-公开
    法精抛光/ -STRUKTURIERENWÄRMEEMPFLINDLICHER介电材料的使用激光辐射

    公开(公告)号:WO2006111446A1

    公开(公告)日:2006-10-26

    申请号:PCT/EP2006/060921

    申请日:2006-03-21

    CPC classification number: B23K26/0075 B23K26/0624

    Abstract: Zum FeinpolierenAstrukturieren wärmeempfindlicher dielektrischer Materialien, insbesondere mit einem geringen Wärmeausdehnungskoeffizienten, mittels Laserstrahlung wird erfindungsgemäss ein Verfahren angegeben, bei dem intensive ultrakurze Laserstrahlung auf eine zu bearbeitende Oberfläche des Materials gerichtet wird und die Einwirkzeit der Laserstrahlung auf die Oberfläche im Bereich von 10 -13 s bis 10 -11 s und die Energie der Laserimpulse unterhalb der Ablationsschwelle aber ausreichend für das Entstehen einer Coulombexplosion eingestellt wird. Mit dem erfindungsgemässen Verfahren wird ein Materialabtrag im Nanometerbereich mit ultrakurzen Laserpulsen im Pikosekunden- und Subpikosekunden-Bereich realisiert, wobei während eines präablativen Verfahrensschritts (Abtrag unterhalb der Ablationsschwelle) die Materialoberfläche fein poliert wird. Aufgrund der extrem kurzen Einwirkzeit der Laserstrahlung auf die zu bearbeitende Oberfläche findet eine sehr kleine Erwärmung statt, die nur im Bereich von einigen 10 Grad liegt.

    Abstract translation: 对于FeinpolierenAstrukturieren热敏电介质材料,尤其是用热膨胀系数低,通过激光辐射装置是根据本发明的方法涉及一种表面在激烈的超短激光辐射和在10的范围内的表面上的激光辐射的曝光时间,以待加工材料的图示 - 13 s到10 -11 s,并且激光脉冲的能量低于烧蚀阈值但足以集用于库仑爆炸的出现。 用本发明的过程中,材料的去除是在纳米范围内与在皮秒和亚皮秒的范围超短激光脉冲,其中该材料表面是期间präablativen工艺步骤(除去下面的烧蚀阈值)精细抛光实现。 由于在表面上的激光辐射的极短的曝光时间被处理的非常小的变暖发生,这是只有在大约10度的范围内。

    MIKROSTRUKTURIERUNG VON LICHTWELLENLEITERN ZUR ERZEUGUNG VON OPTISCHEN FUNKTIONSELEMENTEN
    2.
    发明申请
    MIKROSTRUKTURIERUNG VON LICHTWELLENLEITERN ZUR ERZEUGUNG VON OPTISCHEN FUNKTIONSELEMENTEN 审中-公开
    微结构光纤生产光学功能元件

    公开(公告)号:WO2004005982A2

    公开(公告)日:2004-01-15

    申请号:PCT/EP2003/007183

    申请日:2003-07-04

    CPC classification number: G02B6/001 A61B2018/2261

    Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Mikrostrukturierung eines Lichtwellenleiters mit einem ersten Querschnittsbereich mit einem ersten Brechungsindex, einem zweiten Querschnittsbereich mit einem zweiten Brechungsindex, und einem Grenzbereich im Übergang vom ersten zum zweiten Querschnittsbereich, bei dem der Lichtwellenleiter mit Laserstrahlung in Form mindestens eines ultrakurzen Einzelpulses oder einer Pulsfolge mit definiertem Energieeintrag bestrahlt wird, wobei die Bestrahlung derart erfolgt, dass an mindestens einem definierten Abschnitt des Grenzbereiches eine Modifikation mindestens einer optischen Eigenschaft des Lichtwellenleiters eintritt.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于微结构具有第一折射率,具有第二折射率的第二横截面面积,并且在从所述第一到所述第二截面积,其中,具有激光辐射的光波导中的至少一个超短个别脉冲的形式或过渡的边界区域的第一横截面面积的光波导 一个脉冲串照射限定的能量输入,其特征在于,至少在边界区域的限定的一部分,修改发生在光波导中的至少一个光学特性进行这样的照射。

    MICROSTRUCTURING OF AN OPTICAL WAVEGUIDES FOR PRODUCING FUNCTIONAL OPTICAL ELEMENTS
    3.
    发明申请
    MICROSTRUCTURING OF AN OPTICAL WAVEGUIDES FOR PRODUCING FUNCTIONAL OPTICAL ELEMENTS 审中-公开
    用于产生光学功能元件的光波导的微结构

    公开(公告)号:WO2004005982A3

    公开(公告)日:2004-03-04

    申请号:PCT/EP0307183

    申请日:2003-07-04

    CPC classification number: G02B6/001 A61B2018/2261

    Abstract: The invention relates to a method for microstructuring an optical waveguide which comprises a first cross section area having a first refraction index, a second cross section area having a second refraction index and a limiting area which is disposed at the junction of the first and second cross section areas. The inventive method consists in exposing the optical waveguide to the effect of a laser beam which is embodied in the form of at least one individual ultrashort pulse or a pulse sequence with a given power input, thereby defining quantity of received energy. The optical waveguide is exposed to the effect of the laser beam in such a way that at least one optical property thereof is modified in at least one defined part of the limiting area

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于微结构具有第一折射率,具有第二折射率的第二横截面面积,并且在从所述第一到所述第二截面积,其中,具有激光辐射的光波导中的至少一个超短个别脉冲的形式或过渡的边界区域的第一横截面面积的光波导 一个脉冲串照射限定的能量输入,其特征在于,至少在边界区域的限定的一部分,修改发生在光波导中的至少一个光学特性进行这样的照射。

    Resonator for tunable laser of either dye or solid state type - has reflecting element, e.g. prism or mirror, to tune device

    公开(公告)号:DE4216001A1

    公开(公告)日:1992-09-17

    申请号:DE4216001

    申请日:1992-05-13

    Abstract: A resonator system for tunable lasers has a laser medium (1), a 100 per cent reflecting mirror (2), a strip incidence grating (3), a deflection prism (4) that can be pivoted around a point (5) and a further deflection mirror (8). The beam is deflected and leaves the resonator in a specific direction. An alternative version replaces the deflection prism with a mirror that can be moved to tune the resonator. A third version omits the grating and has direct reflection control. ADVANTAGE - Uses few resonator elements and eliminates adverse effect of amplified spontaneous emission.

Patent Agency Ranking