公开(公告)号：CN112703573B

公开(公告)日：2024-12-17

申请号：CN201980041458.2

申请日：2019-06-18

Applicant: 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司

Inventor： D.蔡德勒 ,  H.弗里茨 ,  I.米勒 ,  S.舒伯特 ,  A.托马 ,  A.梅杰

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

Abstract: 一种粒子束系统，包括：多束式粒子源，该多束式粒子源被配置为产生多个粒子束；成像光学单元，该成像光学单元被配置为将物平面以粒子光学方式成像到像平面中并将该多个粒子束引导到该像平面上；以及场发生布置，该场发生布置被配置为在该物平面附近的区域中产生电和/或磁偏转场，其中，这些粒子束在操作期间被这些偏转场偏转，偏转角度取决于这些偏转场的强度。

公开(公告)号：CN112703573A

公开(公告)日：2021-04-23

申请号：CN201980041458.2

申请日：2019-06-18

Applicant: 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司

Inventor： D.蔡德勒 ,  H.弗里茨 ,  I.米勒 ,  S.舒伯特 ,  A.托马 ,  A.梅杰

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

Abstract: 一种粒子束系统1，包括：多束式粒子源，该多束式粒子源被配置为产生多个粒子束5；成像光学单元35，该成像光学单元被配置为将物平面29以粒子光学方式成像到像平面7中并将该多个粒子束引导到该像平面上；以及场发生布置41，该场发生布置被配置为在该物平面29附近的区域中产生电和/或磁偏转场，其中，这些粒子束在操作期间被这些偏转场偏转，偏转角度取决于这些偏转场的强度。