用于操作多射束粒子束显微镜的方法

    公开(公告)号:CN113169013A

    公开(公告)日:2021-07-23

    申请号:CN201980063653.5

    申请日:2019-09-30

    Abstract: 一种用于操作多射束粒子束显微镜的方法,包括使多个粒子束在物体上扫描;将从这些粒子束在该物体处的撞击位置发出的电子束引导到电子转换器上;在第一时间段期间,通过第一检测系统的多个检测元件来检测由该电子转换器中的撞击电子所产生的第一信号;在第二时间段期间,通过第二检测系统的多个检测元件来检测由该电子转换器中的撞击电子所产生的第二信号;并且尤其是基于在该第二时间段期间通过该第二检测系统的检测元件检测到的检测信号,将在该第一时间段期间通过该第一检测系统的检测元件检测到的信号分配给这些撞击位置。

    用于操作多射束粒子束显微镜的方法及多射束粒子束系统

    公开(公告)号:CN113169013B

    公开(公告)日:2025-02-21

    申请号:CN201980063653.5

    申请日:2019-09-30

    Abstract: 一种用于操作多射束粒子束显微镜的方法和多射束粒子束系统,该方法包括使多个粒子束在物体上扫描;将从这些粒子束在该物体处的撞击位置发出的电子束引导到电子转换器上;在第一时间段期间,通过第一检测系统的多个检测元件来检测由该电子转换器中的撞击电子所产生的第一信号;在第二时间段期间,通过第二检测系统的多个检测元件来检测由该电子转换器中的撞击电子所产生的第二信号;并且尤其是基于在该第二时间段期间通过该第二检测系统的检测元件检测到的检测信号,将在该第一时间段期间通过该第一检测系统的检测元件检测到的信号分配给这些撞击位置。

    粒子束系统
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112703573B

    公开(公告)日:2024-12-17

    申请号:CN201980041458.2

    申请日:2019-06-18

    Abstract: 一种粒子束系统,包括:多束式粒子源,该多束式粒子源被配置为产生多个粒子束;成像光学单元,该成像光学单元被配置为将物平面以粒子光学方式成像到像平面中并将该多个粒子束引导到该像平面上;以及场发生布置,该场发生布置被配置为在该物平面附近的区域中产生电和/或磁偏转场,其中,这些粒子束在操作期间被这些偏转场偏转,偏转角度取决于这些偏转场的强度。

    用于调节单独粒子束的电流的粒子束系统

    公开(公告)号:CN112970088B

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN201980064185.3

    申请日:2019-07-23

    Abstract: 公开了设定单独束电流的粒子束系统,所述粒子束系统包括以下:至少一个粒子源,其被配置为产生带电粒子的束;第一多透镜阵列,其包括实行聚焦的第一多个单独可调节粒子透镜并且被设置在粒子束路径中使得粒子中的至少一些以多个单独粒子束的形式穿过多透镜阵列中的开口;第二多孔板,其包括多个第二开口,并且被设置在第一多透镜阵列的下游的粒子束路径中且设置为使得通过第一多透镜阵列的粒子部分地照射第二多孔板且部分地穿过第二多孔板中的开口;以及控制器,其被配置为向第一多透镜阵列的粒子透镜供应单独可调节的电压,并且因此针对每个单独粒子束单独地设定相关联的粒子透镜的聚焦。

    用于单独粒子束方位角偏转的粒子束系统及粒子束系统中的方位角校正方法

    公开(公告)号:CN113939892A

    公开(公告)日:2022-01-14

    申请号:CN202080042737.3

    申请日:2020-05-20

    Abstract: 本发明说明揭露具有多束粒子源的粒子束系统,其配置成产生多个带电单独粒子束,并且具有用于在方位角方向上偏转单独粒子束的磁多偏转器阵列。磁多偏转器阵列在此包括具有多个开口的磁导多孔径板,其排列在粒子束的光束路径中,使得单独粒子束实质地穿过多孔径板的开口。该磁多偏转器阵列额外包括具有单独开口的磁导孔径板,其排列在粒子束的光路中,使得单独粒子束实质地穿过第一孔径板。此外,多孔径板和第一孔径板彼此连接,使得两个板之间形成一空腔。用于产生磁场的第一线圈排列在第一孔径板和多孔径板之间的空腔中,使得多个单独粒子束实质地穿过线圈。

    粒子束系统
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112703573A

    公开(公告)日:2021-04-23

    申请号:CN201980041458.2

    申请日:2019-06-18

    Abstract: 一种粒子束系统1,包括:多束式粒子源,该多束式粒子源被配置为产生多个粒子束5;成像光学单元35,该成像光学单元被配置为将物平面29以粒子光学方式成像到像平面7中并将该多个粒子束引导到该像平面上;以及场发生布置41,该场发生布置被配置为在该物平面29附近的区域中产生电和/或磁偏转场,其中,这些粒子束在操作期间被这些偏转场偏转,偏转角度取决于这些偏转场的强度。

Patent Agency Ranking