公开(公告)号：CN112703573B

公开(公告)日：2024-12-17

申请号：CN201980041458.2

申请日：2019-06-18

Applicant: 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司

Inventor： D.蔡德勒 ,  H.弗里茨 ,  I.米勒 ,  S.舒伯特 ,  A.托马 ,  A.梅杰

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

Abstract: 一种粒子束系统，包括：多束式粒子源，该多束式粒子源被配置为产生多个粒子束；成像光学单元，该成像光学单元被配置为将物平面以粒子光学方式成像到像平面中并将该多个粒子束引导到该像平面上；以及场发生布置，该场发生布置被配置为在该物平面附近的区域中产生电和/或磁偏转场，其中，这些粒子束在操作期间被这些偏转场偏转，偏转角度取决于这些偏转场的强度。

公开(公告)号：CN114600221A

公开(公告)日：2022-06-07

申请号：CN202080054443.2

申请日：2020-07-29

Applicant: 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司

Inventor： H.弗里茨 ,  I.米勒

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/09 ,  H01J37/10 ,  H01J37/12 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J37/302 ,  H01J37/317

Abstract: 公开了一种在不同操作点处操作多粒子束系统的方法。对于每个工作点，可以设定数值孔径，以使多粒子束系统的分辨率最佳。在此过程中，待扫描样品上相邻个体粒子束之间的束间距的边界条件保持恒定。出于改变数值孔径的目的，不会对系统做出机械变换。

公开(公告)号：CN112970088B

公开(公告)日：2025-01-07

申请号：CN201980064185.3

申请日：2019-07-23

Applicant: 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司

Inventor： D.蔡德勒 ,  H.弗里茨 ,  I.米勒 ,  G.梅塔利迪斯

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/28

Abstract: 公开了设定单独束电流的粒子束系统，所述粒子束系统包括以下：至少一个粒子源，其被配置为产生带电粒子的束；第一多透镜阵列，其包括实行聚焦的第一多个单独可调节粒子透镜并且被设置在粒子束路径中使得粒子中的至少一些以多个单独粒子束的形式穿过多透镜阵列中的开口；第二多孔板，其包括多个第二开口，并且被设置在第一多透镜阵列的下游的粒子束路径中且设置为使得通过第一多透镜阵列的粒子部分地照射第二多孔板且部分地穿过第二多孔板中的开口；以及控制器，其被配置为向第一多透镜阵列的粒子透镜供应单独可调节的电压，并且因此针对每个单独粒子束单独地设定相关联的粒子透镜的聚焦。

公开(公告)号：CN112703573A

公开(公告)日：2021-04-23

申请号：CN201980041458.2

申请日：2019-06-18

Applicant: 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司

Inventor： D.蔡德勒 ,  H.弗里茨 ,  I.米勒 ,  S.舒伯特 ,  A.托马 ,  A.梅杰

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

Abstract: 一种粒子束系统1，包括：多束式粒子源，该多束式粒子源被配置为产生多个粒子束5；成像光学单元35，该成像光学单元被配置为将物平面29以粒子光学方式成像到像平面7中并将该多个粒子束引导到该像平面上；以及场发生布置41，该场发生布置被配置为在该物平面29附近的区域中产生电和/或磁偏转场，其中，这些粒子束在操作期间被这些偏转场偏转，偏转角度取决于这些偏转场的强度。

公开(公告)号：CN115917699A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202180041139.9

申请日：2021-05-17

Applicant: 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司

Inventor： D.蔡德勒 ,  H.弗里茨 ,  I.米勒

IPC: H01J37/073 ,  H01J37/28 ,  H01J37/04

Abstract: 本发明揭露一种具多源系统的粒子束系统。该多源系统包含电子发射器阵列，其作为一粒子多源。在此多源系统中，各种发射器的非均质发射特性借助于粒子光学部件(其可藉助MEMS技术生产)，为了后续粒子光学成像而校正或预校正。个别粒子束的射束电流可在该多源系统中调整。

公开(公告)号：CN112970088A

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN201980064185.3

申请日：2019-07-23

Applicant: 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司

Inventor： D.蔡德勒 ,  H.弗里茨 ,  I.米勒 ,  G.梅塔利迪斯

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/28

Abstract: 公开了设定单独束电流的粒子束系统，所述粒子束系统包括以下：至少一个粒子源，其被配置为产生带电粒子的束；第一多透镜阵列，其包括实行聚焦的第一多个单独可调节粒子透镜并且被设置在粒子束路径中使得粒子中的至少一些以多个单独粒子束的形式穿过多透镜阵列中的开口；第二多孔板，其包括多个第二开口，并且被设置在第一多透镜阵列的下游的粒子束路径中且设置为使得通过第一多透镜阵列的粒子部分地照射第二多孔板且部分地穿过第二多孔板中的开口；以及控制器，其被配置为向第一多透镜阵列的粒子透镜供应单独可调节的电压，并且因此针对每个单独粒子束单独地设定相关联的粒子透镜的聚焦。