公开(公告)号：CN106030412A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201580009193.X

申请日：2015-02-10

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M.德冈瑟 ,  V.达维登科 ,  T.科布 ,  J.艾森门格

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种光刻投影曝光设备(12)的照明系统，其包括设置成产生光脉冲(42‑1至42‑3；42‑1,42‑2,52‑1,52‑2)序列的光源(LS；LS1,LS2)。该照明系统另外包括能够在两个切换位置之间进行数字切换的光学元件(32)的阵列(28)。控制器(34)这样控制光学元件(32)，使得这些光学元件仅在两个彼此相继的光脉冲之间改变它们的切换位置并且在光脉冲期间保持它们的切换位置。

公开(公告)号：CN104769501B

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：CN201380057059.8

申请日：2013-10-07

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J.万格勒 ,  J.艾森门格 ,  M.德冈瑟 ,  M.帕特拉

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G01B11/14 ,  G01M11/005 ,  G02B26/0833 ,  G02B27/62 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/7085

Abstract: 一种光学系统，包括：反射镜系统(19)，包括多个反射镜元件(23)，其中，所述反射镜元件的取向可以独立于彼此设定；以及监视系统(52)，构造成确定所述反射镜元件(23)的取向。所述监视系统包括：监视辐射源(57)，构造成以具有多个不同波长的光(55)照明所述多个反射镜元件；监视透镜(59)，具有物平面(61)、像平面(63)以及布置在所述物平面和所述像平面之间的光瞳平面(77)；滤色器(78)，在不同位置处具有彼此不同的依赖于波长的透射属性；以及空间解析和波长解析光检测器(67)，具有检测区(65)；其中，所述反射镜元件(23)布置在所述监视透镜(59)的物平面(61)的区域中；其中，所述光检测器像平面(63)的区域中；以及其中，所述滤色器(78)布置在所述监视透镜(59)的光瞳平面(77)的区域中。(67)的检测区(65)布置在所述监视透镜(59)的

公开(公告)号：CN106030412B

公开(公告)日：2019-12-24

申请号：CN201580009193.X

申请日：2015-02-10

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M.德冈瑟 ,  V.达维登科 ,  T.科布 ,  J.艾森门格

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种光刻投影曝光设备(12)的照明系统，其包括设置成产生光脉冲(42‑1至42‑3；42‑1,42‑2,52‑1,52‑2)序列的光源(LS；LS1,LS2)。该照明系统另外包括能够在两个切换位置之间进行数字切换的光学元件(32)的阵列(28)。控制器(34)这样控制光学元件(32)，使得这些光学元件仅在两个彼此相继的光脉冲之间改变它们的切换位置并且在光脉冲期间保持它们的切换位置。

公开(公告)号：CN104769501A

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：CN201380057059.8

申请日：2013-10-07

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J.万格勒 ,  J.艾森门格 ,  M.德冈瑟 ,  M.帕特拉

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G01B11/14 ,  G01M11/005 ,  G02B26/0833 ,  G02B27/62 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/7085

Abstract: 一种光学系统，包括：反射镜系统(19)，包括多个反射镜元件(23)，其中，所述反射镜元件的取向可以独立于彼此设定；以及监视系统(52)，构造成确定所述反射镜元件(23)的取向。所述监视系统包括：监视辐射源(57)，构造成以具有多个不同波长的光(55)照明所述多个反射镜元件；监视透镜(59)，具有物平面(61)、像平面(63)以及布置在所述物平面和所述像平面之间的光瞳平面(77)；滤色器(78)，在不同位置处具有彼此不同的依赖于波长的透射属性；以及空间解析和波长解析光检测器(67)，具有检测区(65)；其中，所述反射镜元件(23)布置在所述监视透镜(59)的物平面(61)的区域中；其中，所述光检测器(67)的检测区(65)布置在所述监视透镜(59)的像平面(63)的区域中；以及其中，所述滤色器(78)布置在所述监视透镜(59)的光瞳平面(77)的区域中。

公开(公告)号：CN105474100B

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201480045507.7

申请日：2014-07-07

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J.艾森门格

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/22 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/7015 ,  G02B7/006 ,  G02B7/008 ,  G02B17/0892 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

Abstract: 本发明涉及一种光学部件(36)。在所述光学部件(36)中，光学元件(45)在横向方向(44)上固定在框架(43)中，所述框架(43)设计为其在横向方向(44)上的线性膨胀为至多0.01％，即使在光学元件(45)在横向方向(44)上的线性膨胀高达1％也如此。

公开(公告)号：CN105474100A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201480045507.7

申请日：2014-07-07

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J.艾森门格

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/22 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/7015 ,  G02B7/006 ,  G02B7/008 ,  G02B17/0892 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

Abstract: 本发明涉及一种光学部件(36)。在所述光学部件(36)中，光学元件(45)在横向方向(44)上固定在框架(43)中，所述框架(43)设计为其在横向方向(44)上的线性膨胀为至多0.01％，即使在光学元件(45)在横向方向(44)上的线性膨胀高达1％也如此。