透明电极薄膜的制造方法

    公开(公告)号:CN105378856A

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201480039185.5

    申请日:2014-05-16

    CPC classification number: H01M4/0414 H01L31/022466 H01L31/1884 Y02E10/50

    Abstract: 本发明涉及一种透明电极薄膜的制造方法,该方法包括:电极图案的形成步骤,用于在离型膜上利用金属油墨组合物印刷电极图案;绝缘层的形成步骤,用于在形成有所述电极图案的离型膜上涂覆固性树脂而形成绝缘层;基底层的形成步骤,用于在所述绝缘层上层压基底而形成基底层;离型膜的去除步骤,用于去除所述离型膜;及导电层的形成步骤,用于在去除所述离型膜的所述电极图案上涂覆导电物质而形成导电层。

    偏光薄膜的制造方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105393146B

    公开(公告)日:2018-01-09

    申请号:CN201480040789.1

    申请日:2014-06-03

    CPC classification number: G02B5/3058 G02B1/08 G02B5/3033 G02B5/3041

    Abstract: 本发明涉及一种纳米偏光薄膜的制造方法,该方法使用一液型或者二液型黑化油墨,从而能够将目前的叠加多类光学薄膜而制作的偏光薄膜取代为单一薄膜。尤其,涉及一种将含有黑化物质的功能性油墨在纳米图案基底上涂覆后,使用蚀刻液去除在凸起部上形成的粒子,并在槽中填充黑化油墨,从而形成由一张薄膜构成的识别性优异的纳米偏光薄膜的方法。

    偏光薄膜的制造方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105393146A

    公开(公告)日:2016-03-09

    申请号:CN201480040789.1

    申请日:2014-06-03

    CPC classification number: G02B5/3058 G02B1/08 G02B5/3033 G02B5/3041

    Abstract: 本发明涉及一种纳米偏光薄膜的制造方法,该方法使用一液型或者二液型黑化油墨,从而能够将目前的叠加多类光学薄膜而制作的偏光薄膜取代为单一薄膜。尤其,涉及一种将含有黑化物质的功能性油墨在纳米图案基底上涂覆后,使用蚀刻液去除在凸起部上形成的粒子,并在槽中填充黑化油墨,从而形成由一张薄膜构成的识别性优异的纳米偏光薄膜的方法。

    利用激光蚀刻的图案形成方法

    公开(公告)号:CN104246974A

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:CN201380019806.9

    申请日:2013-02-12

    CPC classification number: H01L21/461

    Abstract: 本发明涉及利用多种激光功率来制造折射率匹配(Index matching)特性优秀的导电性金属线透明电极微细图案电极的制造方法。更加详细地说,包括:①在多种基材上形成均匀的导电性金属纳米线层的步骤;②在导电性透明电极上形成光学透明且具有绝缘性的多种聚合物层的步骤;以及③在导电性膜表面直接照射激光而形成微细图案电极的步骤。由此,导电性微细图案电极制造方法的特征在于,均匀地排列金属纳米线而形成低电阻的导电性层,并在该导电性电极层上形成利用了绝缘聚合物的保护膜来保护导电性电极膜。此外,当利用使激光功率变化来形成导电性微细图案电极的该技术时,具有能解决透明电极固有的可视性问题、能实现优秀的图案分辨率和微细线宽的效果。

    透明电极薄膜的制造方法

    公开(公告)号:CN105378856B

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201480039185.5

    申请日:2014-05-16

    CPC classification number: H01M4/0414 H01L31/022466 H01L31/1884 Y02E10/50

    Abstract: 本发明涉及一种透明电极薄膜的制造方法,该方法包括:电极图案的形成步骤,用于在离型膜上利用金属油墨组合物印刷电极图案;绝缘层的形成步骤,用于在形成有所述电极图案的离型膜上涂覆固性树脂而形成绝缘层;基底层的形成步骤,用于在所述绝缘层上层压基底而形成基底层;离型膜的去除步骤,用于去除所述离型膜;及导电层的形成步骤,用于在去除所述离型膜的所述电极图案上涂覆导电物质而形成导电层。

    利用激光蚀刻的图案形成方法

    公开(公告)号:CN104246974B

    公开(公告)日:2018-03-13

    申请号:CN201380019806.9

    申请日:2013-02-12

    CPC classification number: H01L21/461

    Abstract: 本发明涉及利用多种激光功率来制造折射率匹配(Index matching)特性优秀的导电性金属线透明电极微细图案电极的制造方法。更加详细地说,包括:①在多种基材上形成均匀的导电性金属纳米线层的步骤;②在导电性透明电极上形成光学透明且具有绝缘性的多种聚合物层的步骤;以及③在导电性膜表面直接照射激光而形成微细图案电极的步骤。由此,导电性微细图案电极制造方法的特征在于,均匀地排列金属纳米线而形成低电阻的导电性层,并在该导电性电极层上形成利用了绝缘聚合物的保护膜来保护导电性电极膜。此外,当利用使激光功率变化来形成导电性微细图案电极的该技术时,具有能解决透明电极固有的可视性问题、能实现优秀的图案分辨率和微细线宽的效果。

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