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公开(公告)号：CN105393146A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201480040789.1
申请日：2014-06-03
Applicant: 印可得株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3058 , G02B1/08 , G02B5/3033 , G02B5/3041
Abstract: 本发明涉及一种纳米偏光薄膜的制造方法，该方法使用一液型或者二液型黑化油墨，从而能够将目前的叠加多类光学薄膜而制作的偏光薄膜取代为单一薄膜。尤其，涉及一种将含有黑化物质的功能性油墨在纳米图案基底上涂覆后，使用蚀刻液去除在凸起部上形成的粒子，并在槽中填充黑化油墨，从而形成由一张薄膜构成的识别性优异的纳米偏光薄膜的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110769944A
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201880023840.6
申请日：2018-02-02
Applicant: 印可得株式会社
Abstract: 本发明涉及一种电磁波屏蔽涂覆方法，其特征在于，包括：加载步骤，将电子元件的一面附着在输送载体上；浸渍步骤，将附着于所述输送载体上的电子元件浸渍(dipping)在收容有金属油墨的收容槽中，从而在电子元件的暴露的外表面上涂覆金属油墨；烧成步骤，对涂覆于所述电子元件上的金属油墨进行固化；及卸载步骤，从所述输送载体中分离电子元件。
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公开(公告)号：CN105519242B
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201480037174.3
申请日：2014-04-30
Applicant: 印可得株式会社
Abstract: 本发明涉及一种黑化导电图案的形成方法，该方法可包括如下的步骤来实现：一次填充步骤，用于在具有槽的基底的所述槽中填充黑化导电油墨组合物；及二次填充步骤，用于通过浸蚀液溶解在所述一次填充步骤中对所述槽填充所述黑化导电油墨组合物时残留在所述基底的表面上的残留黑化导电油墨组合物后，再对所述槽填充所述残留黑化导电油墨组合物。
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公开(公告)号：CN110769944B
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN201880023840.6
申请日：2018-02-02
Applicant: 印可得株式会社
Abstract: 本发明涉及一种电磁波屏蔽涂覆方法，其特征在于，包括：加载步骤，将电子元件的一面附着在输送载体上；浸渍步骤，将附着于所述输送载体上的电子元件浸渍(dipping)在收容有金属油墨的收容槽中，从而在电子元件的暴露的外表面上涂覆金属油墨；烧成步骤，对涂覆于所述电子元件上的金属油墨进行固化；及卸载步骤，从所述输送载体中分离电子元件。
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公开(公告)号：CN105393146B
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201480040789.1
申请日：2014-06-03
Applicant: 印可得株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/3058 , G02B1/08 , G02B5/3033 , G02B5/3041
Abstract: 本发明涉及一种纳米偏光薄膜的制造方法，该方法使用一液型或者二液型黑化油墨，从而能够将目前的叠加多类光学薄膜而制作的偏光薄膜取代为单一薄膜。尤其，涉及一种将含有黑化物质的功能性油墨在纳米图案基底上涂覆后，使用蚀刻液去除在凸起部上形成的粒子，并在槽中填充黑化油墨，从而形成由一张薄膜构成的识别性优异的纳米偏光薄膜的方法。
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公开(公告)号：CN105519242A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201480037174.3
申请日：2014-04-30
Applicant: 印可得株式会社
CPC classification number: H05K9/0092 , H05K3/107 , H05K3/1258 , H05K2201/0376 , H05K2201/09036 , H05K2203/0139 , H05K2203/1476
Abstract: 本发明涉及一种黑化导电图案的形成方法，该方法可包括如下的步骤来实现：一次填充步骤，用于在具有槽的基底的所述槽中填充黑化导电油墨组合物；及二次填充步骤，用于通过浸蚀液溶解在所述一次填充步骤中对所述槽填充所述黑化导电油墨组合物时残留在所述基底的表面上的残留黑化导电油墨组合物后，再对所述槽填充所述残留黑化导电油墨组合物。
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