公开(公告)号：CN113170538A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980038653.X

申请日：2019-10-29

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 成田里安 ,  高村博

IPC: H05B3/64

Abstract: 一种多柄型加热器，安装于支承基体，其特征在于，存在以从所述加热器侧朝向所述支承基体侧的相对于支承基体的法线方向为基准、从所述加热器侧朝向所述支承基体侧的U字零件的平面方向的角度θ为±10°以上且±60°以下的U字零件。本发明的课题在于提供将U字零件高密度地配置从而即使是同一间距也能够大幅提高能量输出的多柄型的加热器。

公开(公告)号：CN112805403A

公开(公告)日：2021-05-14

申请号：CN201980066087.3

申请日：2019-10-09

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 梶田博树 ,  涩谷义孝 ,  成田里安

IPC: C23C14/34 ,  C04B35/053

Abstract: 一种溅射靶，所述溅射靶包含氧化镁烧结体，其特征在于，所述氧化镁烧结体中的在一个晶粒内存在的针孔的数量为20个以上的晶粒的比例为50％以下。本发明的课题在于提供一种包含氧化镁烧结体并且在溅射时粉粒的产生少的溅射靶。

公开(公告)号：CN112805403B

公开(公告)日：2023-06-16

申请号：CN201980066087.3

申请日：2019-10-09

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 梶田博树 ,  涩谷义孝 ,  成田里安

IPC: C23C14/34 ,  C04B35/053

Abstract: 一种溅射靶，所述溅射靶包含氧化镁烧结体，其特征在于，所述氧化镁烧结体中的在一个晶粒内存在的针孔的数量为20个以上的晶粒的比例为50％以下。本发明的课题在于提供一种包含氧化镁烧结体并且在溅射时粉粒的产生少的溅射靶。

公开(公告)号：CN113170538B

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN201980038653.X

申请日：2019-10-29

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 成田里安 ,  高村博

IPC: H05B3/64

Abstract: 一种多柄型加热器，安装于支承基体，其特征在于，存在以从所述加热器侧朝向所述支承基体侧的相对于支承基体的法线方向为基准、从所述加热器侧朝向所述支承基体侧的U字零件的平面方向的角度θ为±10°以上且±60°以下的U字零件。本发明的课题在于提供将U字零件高密度地配置从而即使是同一间距也能够大幅提高能量输出的多柄型的加热器。

公开(公告)号：CN111465712B

公开(公告)日：2022-12-30

申请号：CN201980003822.6

申请日：2019-03-06

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 涩谷义孝 ,  成田里安 ,  梶田博树

IPC: C23C14/34 ,  C04B35/04 ,  G11B5/851

Abstract: 一种MgO烧结体溅射靶，其中，所述MgO烧结体溅射靶的GOS(晶粒取向分布)为0°～1°的比例为75％以上。一种MgO烧结体溅射靶，其特征在于，所述MgO烧结体溅射靶的KAM(晶内平均取向差)为0°～2°的比例为90％以上。本发明的课题在于提供一种能够减少粉粒的MgO烧结体溅射靶。

公开(公告)号：CN111465712A

公开(公告)日：2020-07-28

申请号：CN201980003822.6

申请日：2019-03-06

Applicant: 捷客斯金属株式会社

Inventor： 涩谷义孝 ,  成田里安 ,  梶田博树

IPC: C23C14/34 ,  C04B35/04 ,  G11B5/851

Abstract: 一种MgO烧结体溅射靶，其中，所述MgO烧结体溅射靶的GOS(晶粒取向分布)为0°～1°的比例为75％以上。一种MgO烧结体溅射靶，其特征在于，所述MgO烧结体溅射靶的KAM(晶内平均取向差)为0°～2°的比例为90％以上。本发明的课题在于提供一种能够减少粉粒的MgO烧结体溅射靶。