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公开(公告)号：CN105103030A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201480013316.2
申请日：2014-01-28
Applicant: 斯维尔系统
CPC classification number: G01J3/06 , G01B9/02071 , G01J3/4535 , G01N2021/3595 , G02B26/06 , G02B26/0841
Abstract: 一种微机电系统(MEMS)干涉仪提供了可移动反射镜的反射镜定位的自校准。可移动反射镜被耦合至具有可变电容的MEMS致动器。MEMS干涉仪包括用于确定在可移动反射镜的两个或更多个已知位置处的MEMS致动器的电容的电容感测电路和用于使用在已知位置处的致动器电容来补偿电容感测电路中的任何漂移的校准模块。
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公开(公告)号：CN110140038A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201780081876.5
申请日：2017-11-21
Applicant: 斯维尔系统
IPC: G01M11/00 , G01R31/311 , G02B5/04
Abstract: 本公开的各方面涉及一种用于执行具有面内光轴的光学微机电系统(MEMS)结构的晶片测试的集成光学探针卡和系统。可以利用一个或多个微光学平台组件来执行光学MEMS结构的晶片上光学屏蔽，以在垂直于面内光轴的面外方向与平行于面内光轴的面内方向之间重定向光以便能够通过光的竖直注入来测试光学MEMS结构。
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公开(公告)号：CN105103030B
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201480013316.2
申请日：2014-01-28
Applicant: 斯维尔系统
CPC classification number: G01J3/06 , G01B9/02071 , G01J3/4535 , G01N2021/3595 , G02B26/06 , G02B26/0841
Abstract: 一种微机电系统(MEMS)干涉仪提供了可移动反射镜的反射镜定位的自校准。可移动反射镜被耦合至具有可变电容的MEMS致动器。MEMS干涉仪包括用于确定在可移动反射镜的两个或更多个已知位置处的MEMS致动器的电容的电容感测电路和用于使用在已知位置处的致动器电容来补偿电容感测电路中的任何漂移的校准模块。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107250858A
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201680011152.9
申请日：2016-02-19
Applicant: 斯维尔系统
Abstract: 一种微型光学台器件通过以下工艺来制造，所述工艺提供对所述微型光学台器件的一种或者多种特性和/或所述微型光学台器件中的光学表面的一种或者多种特性的控制。所述工艺包括：蚀刻衬底以形成临时性结构和包括光学元件的永久性结构。所述临时性结构的形状和在所述临时性结构与永久性结构之间的间隙有助于控制所述微型光学台和/或所述微型光学台中的光学表面的特性。所述工艺进一步包括从所述微型光学台器件的光路去除所述临时性结构。
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公开(公告)号：CN110140038B
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201780081876.5
申请日：2017-11-21
Applicant: 斯维尔系统
IPC: G01M11/00 , G01R31/311 , G02B5/04
Abstract: 本公开的各方面涉及一种用于执行具有面内光轴的光学微机电系统(MEMS)结构的晶片测试的集成光学探针卡和系统。可以利用一个或多个微光学平台组件来执行光学MEMS结构的晶片上光学屏蔽，以在垂直于面内光轴的面外方向与平行于面内光轴的面内方向之间重定向光以便能够通过光的竖直注入来测试光学MEMS结构。
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公开(公告)号：CN108474690B
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN201680074302.0
申请日：2016-04-18
Applicant: 斯维尔系统
Abstract: 微机电系统(MEMS)装置提供干涉仪的可移动反射镜的反射镜定位的自校准。MEMS装置中的至少一个反射镜包括非平面表面。可移动反射镜被耦合到具有可变电容的MEMS致动器。MEMS装置包括电容感测电路，用于确定在可移动反射镜的多个参考位置处的所述MEMS致动器的电容，所述多个参考位置对应于由干涉仪基于所述非平坦表面产生的干涉图的中心突发和一个或多个次级突发。校准模块使用在参考位置处的致动器电容来补偿电容感测电路中的任何漂移。
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公开(公告)号：CN107250858B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201680011152.9
申请日：2016-02-19
Applicant: 斯维尔系统
Abstract: 一种微型光学台器件通过以下工艺来制造，所述工艺提供对所述微型光学台器件的一种或者多种特性和/或所述微型光学台器件中的光学表面的一种或者多种特性的控制。所述工艺包括：蚀刻衬底以形成临时性结构和包括光学元件的永久性结构。所述临时性结构的形状和在所述临时性结构与永久性结构之间的间隙有助于控制所述微型光学台和/或所述微型光学台中的光学表面的特性。所述工艺进一步包括从所述微型光学台器件的光路去除所述临时性结构。
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公开(公告)号：CN108474690A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201680074302.0
申请日：2016-04-18
Applicant: 斯维尔系统
Abstract: 微机电系统(MEMS)装置提供干涉仪的可移动反射镜的反射镜定位的自校准。MEMS装置中的至少一个反射镜包括非平面表面。可移动反射镜被耦合到具有可变电容的MEMS致动器。MEMS装置包括电容感测电路，用于确定在可移动反射镜的多个参考位置处的所述MEMS致动器的电容，所述多个参考位置对应于由干涉仪基于所述非平坦表面产生的干涉图的中心突发和一个或多个次级突发。校准模块使用在参考位置处的致动器电容来补偿电容感测电路中的任何漂移。
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