有害气体的净化方法和净化装置

    公开(公告)号:CN1316290A

    公开(公告)日:2001-10-10

    申请号:CN00137230.0

    申请日:2000-11-30

    CPC classification number: B01D53/8668 B01D2251/102

    Abstract: 公开了一种有害气体的净化方法,该方法包括:将从使用有机金属化合物作反应原料的反应过程中排出的有害气体,与氧气或空气混合,然后在100℃-800℃的温度下,使混合物与通过在一种无机载体上附载一种贵金属得到的催化剂;含选自氧化钒、氧化铬、氧化锰、氧化铁、氧化铜、氧化银、氧化钴和氧化镍的至少一种金属氧化物的催化剂;或者在一种无机载体上附载该金属氧化物得到的催化剂接触,以净化该有害气体。同时,公开了一种该方法使用的装置。本发明能够确保以有效的方式净化有害气体,在将有害气体净化后,没有排出有机化合物和大量的二氧化碳,不需要后处理。

    废气的净化方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1658950A

    公开(公告)日:2005-08-24

    申请号:CN03813161.7

    申请日:2003-05-16

    Abstract: 一种废气净化方法,包括以下步骤:加热的同时,将含氮氧化物或有机溶剂的至少一种的废气与含金属作为还原性净化成分并含金属氧化物作为氧化性净化剂成分,或者含低价金属氧化物作为还原性净化剂成分并含高价金属氧化物作为氧化性净化剂成分的净化剂接触,进行还原性净化剂成分还原氮氧化物或者氧化性净化剂成分氧化分解有机溶剂中的至少一种,同时检测还原性净化剂成分和氧化性净化剂成分之间的组成比随氧化-还原反应过程的变化,当组成比例偏离预定的控制范围时提供校正气体,并将组成比恢复到控制范围内。提供了一种由半导体生产过程中排放的所含氮氧化物和/或有机溶剂浓度很高且变化很大的废气的净化方法,能够以相对较低的温度和较高的分解率容易地净化,无需使用大规模净化装置或结构复杂的净化装置。

    废气的净化方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100339151C

    公开(公告)日:2007-09-26

    申请号:CN03813161.7

    申请日:2003-05-16

    Abstract: 一种废气净化方法,包括以下步骤:加热的同时,将含氮氧化物或有机溶剂的至少一种的废气与含金属作为还原性净化成分并含金属氧化物作为氧化性净化剂成分,或者含低价金属氧化物作为还原性净化剂成分并含高价金属氧化物作为氧化性净化剂成分的净化剂接触,进行还原性净化剂成分还原氮氧化物或者氧化性净化剂成分氧化分解有机溶剂中的至少一种,同时检测还原性净化剂成分和氧化性净化剂成分之间的组成比随氧化-还原反应过程的变化,当组成比例偏离预定的控制范围时提供校正气体,并将组成比恢复到控制范围内。提供了一种由半导体生产过程中排放的所含氮氧化物和/或有机溶剂浓度很高且变化很大的废气的净化方法,能够以相对较低的温度和较高的分解率容易地净化,无需使用大规模净化装置或结构复杂的净化装置。

    有害气体的净化方法和净化装置

    公开(公告)号:CN1213794C

    公开(公告)日:2005-08-10

    申请号:CN00137230.0

    申请日:2000-11-30

    CPC classification number: B01D53/8668 B01D2251/102

    Abstract: 公开了一种有害气体的净化方法,该方法包括:将从使用有机金属化合物作反应原料的反应过程中排出的有害气体,与氧气或空气混合,然后在100℃-800℃的温度下,使混合物与通过在一种无机载体上附载一种贵金属得到的催化剂;含选自氧化钒、氧化铬、氧化锰、氧化铁、氧化铜、氧化银、氧化钴和氧化镍的至少一种金属氧化物的催化剂;或者在一种无机载体上附载该金属氧化物得到的催化剂接触,以净化该有害气体。同时,公开了一种该方法使用的装置。本发明能够确保以有效的方式净化有害气体,在将有害气体净化后,没有排出有机化合物和大量的二氧化碳,不需要后处理。

    纯化氨的方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1335259A

    公开(公告)日:2002-02-13

    申请号:CN01124353.8

    申请日:2001-07-27

    CPC classification number: C23C16/4402 C01C1/024 Y02P20/52

    Abstract: 本发明公开了一种纯化氨的方法,包括,将粗氨接触一种包含氧化锰作为有效成分的催化剂以去除作为杂质包含在氨中的氧气和/或二氧化碳;以及一种纯化氨的方法,包括,将粗氨接触一种包含氧化锰作为有效成分的催化剂,并随后接触一种孔径为4-10埃的合成沸石,以去除至少一种选自包含在所述粗氨中的氧气、二氧化碳和水分的杂质。通过上述方法,可从工业用途的市售粗氨和来自氮化镓化合物半导体的粗氨中去除杂质至极低浓度而不会将氨分解生成氢气。

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