-
公开(公告)号:CN1316290A
公开(公告)日:2001-10-10
申请号:CN00137230.0
申请日:2000-11-30
Applicant: 日本派欧尼股份株式会社
IPC: B01D53/86
CPC classification number: B01D53/8668 , B01D2251/102
Abstract: 公开了一种有害气体的净化方法,该方法包括:将从使用有机金属化合物作反应原料的反应过程中排出的有害气体,与氧气或空气混合,然后在100℃-800℃的温度下,使混合物与通过在一种无机载体上附载一种贵金属得到的催化剂;含选自氧化钒、氧化铬、氧化锰、氧化铁、氧化铜、氧化银、氧化钴和氧化镍的至少一种金属氧化物的催化剂;或者在一种无机载体上附载该金属氧化物得到的催化剂接触,以净化该有害气体。同时,公开了一种该方法使用的装置。本发明能够确保以有效的方式净化有害气体,在将有害气体净化后,没有排出有机化合物和大量的二氧化碳,不需要后处理。
-
公开(公告)号:CN1658950A
公开(公告)日:2005-08-24
申请号:CN03813161.7
申请日:2003-05-16
Applicant: 日本派欧尼股份株式会社
CPC classification number: B01D53/8646 , B01D53/8625 , B01D53/8628 , B01D53/8668 , B01D2258/0216 , B01J23/26 , B01J23/72
Abstract: 一种废气净化方法,包括以下步骤:加热的同时,将含氮氧化物或有机溶剂的至少一种的废气与含金属作为还原性净化成分并含金属氧化物作为氧化性净化剂成分,或者含低价金属氧化物作为还原性净化剂成分并含高价金属氧化物作为氧化性净化剂成分的净化剂接触,进行还原性净化剂成分还原氮氧化物或者氧化性净化剂成分氧化分解有机溶剂中的至少一种,同时检测还原性净化剂成分和氧化性净化剂成分之间的组成比随氧化-还原反应过程的变化,当组成比例偏离预定的控制范围时提供校正气体,并将组成比恢复到控制范围内。提供了一种由半导体生产过程中排放的所含氮氧化物和/或有机溶剂浓度很高且变化很大的废气的净化方法,能够以相对较低的温度和较高的分解率容易地净化,无需使用大规模净化装置或结构复杂的净化装置。
-
公开(公告)号:CN100339151C
公开(公告)日:2007-09-26
申请号:CN03813161.7
申请日:2003-05-16
Applicant: 日本派欧尼股份株式会社
CPC classification number: B01D53/8646 , B01D53/8625 , B01D53/8628 , B01D53/8668 , B01D2258/0216 , B01J23/26 , B01J23/72
Abstract: 一种废气净化方法,包括以下步骤:加热的同时,将含氮氧化物或有机溶剂的至少一种的废气与含金属作为还原性净化成分并含金属氧化物作为氧化性净化剂成分,或者含低价金属氧化物作为还原性净化剂成分并含高价金属氧化物作为氧化性净化剂成分的净化剂接触,进行还原性净化剂成分还原氮氧化物或者氧化性净化剂成分氧化分解有机溶剂中的至少一种,同时检测还原性净化剂成分和氧化性净化剂成分之间的组成比随氧化-还原反应过程的变化,当组成比例偏离预定的控制范围时提供校正气体,并将组成比恢复到控制范围内。提供了一种由半导体生产过程中排放的所含氮氧化物和/或有机溶剂浓度很高且变化很大的废气的净化方法,能够以相对较低的温度和较高的分解率容易地净化,无需使用大规模净化装置或结构复杂的净化装置。
-
公开(公告)号:CN1120741C
公开(公告)日:2003-09-10
申请号:CN99124351.X
申请日:1999-12-09
Applicant: 日本派欧尼股份株式会社
IPC: B01D53/58
CPC classification number: B01D53/0423 , B01D53/0438 , B01D53/0462 , B01D2253/102 , B01D2253/104 , B01D2253/108 , B01D2257/406 , B01D2258/0216 , B01D2259/402
Abstract: 本发明提供一种廉价、具有三维网状结构的垫子构件,所述垫子构件易安装于座位架等框架上、固定强度大,且,具有优异的经久耐用性。所述垫子构件包括:三维网状结构物,至少安装于该三维网状结构物二端(缘)部上的多个金属制固定用紧固扣;和,将所述固定用紧固扣夹持于上述三维网状结构物之间、与所述固定用紧固扣同时作振动、熔敷于所述三维网状物中的树脂框架。
-
公开(公告)号:CN1213794C
公开(公告)日:2005-08-10
申请号:CN00137230.0
申请日:2000-11-30
Applicant: 日本派欧尼股份株式会社
IPC: B01D53/86
CPC classification number: B01D53/8668 , B01D2251/102
Abstract: 公开了一种有害气体的净化方法,该方法包括:将从使用有机金属化合物作反应原料的反应过程中排出的有害气体,与氧气或空气混合,然后在100℃-800℃的温度下,使混合物与通过在一种无机载体上附载一种贵金属得到的催化剂;含选自氧化钒、氧化铬、氧化锰、氧化铁、氧化铜、氧化银、氧化钴和氧化镍的至少一种金属氧化物的催化剂;或者在一种无机载体上附载该金属氧化物得到的催化剂接触,以净化该有害气体。同时,公开了一种该方法使用的装置。本发明能够确保以有效的方式净化有害气体,在将有害气体净化后,没有排出有机化合物和大量的二氧化碳,不需要后处理。
-
公开(公告)号:CN1335259A
公开(公告)日:2002-02-13
申请号:CN01124353.8
申请日:2001-07-27
Applicant: 日本派欧尼股份株式会社
CPC classification number: C23C16/4402 , C01C1/024 , Y02P20/52
Abstract: 本发明公开了一种纯化氨的方法,包括,将粗氨接触一种包含氧化锰作为有效成分的催化剂以去除作为杂质包含在氨中的氧气和/或二氧化碳;以及一种纯化氨的方法,包括,将粗氨接触一种包含氧化锰作为有效成分的催化剂,并随后接触一种孔径为4-10埃的合成沸石,以去除至少一种选自包含在所述粗氨中的氧气、二氧化碳和水分的杂质。通过上述方法,可从工业用途的市售粗氨和来自氮化镓化合物半导体的粗氨中去除杂质至极低浓度而不会将氨分解生成氢气。
-
公开(公告)号:CN1266733A
公开(公告)日:2000-09-20
申请号:CN99124351.X
申请日:1999-12-09
Applicant: 日本派欧尼股份株式会社
IPC: B01D53/58
CPC classification number: B01D53/0423 , B01D53/0438 , B01D53/0462 , B01D2253/102 , B01D2253/104 , B01D2253/108 , B01D2257/406 , B01D2258/0216 , B01D2259/402
Abstract: 回收氨的工艺,包括:安装壳体多管吸附器,该吸附器装有许多吸附管,该吸附管其内部分别充填氨吸附剂(例如合成沸石),并具有热传输介质的流动机构,以便通过吸附管进行热交换;使含氨气体流过吸附管,同时用热传输介质冷却吸附剂,以吸附氨;随后通过解吸作用收集吸附的氨,同时用热传输介质在减压条件下加热吸附剂;用于上述工艺的装置。该工艺和装置可以回收具有高纯度的大量氨,在需要时可以以连续方式回收。
-
公开(公告)号:CN1286644A
公开(公告)日:2001-03-07
申请号:CN99801645.4
申请日:1999-08-04
Applicant: 日本派欧尼股份株式会社
CPC classification number: B01D53/685 , B01J20/04 , B01J20/041 , B01J20/20 , B01J20/223 , B01J20/28004 , B01J20/2803 , B01J20/28066 , B01J20/3007 , B01J20/3014 , B01J20/3042 , B01J20/3204 , B01J20/3236 , B01J2220/42 , B01J2220/485 , B01J2220/58 , Y10S95/901
Abstract: 能够从半导体制造过程中产生的废气中将有毒的卤素系气体如氟、氯、三氟化硼、三氯化硼及六氟化钨加以有效去除的净化剂及净化方法,通过将碱金属的甲酸盐和/或碱土金属的甲酸盐添加附着至活性炭上,或者将碱金属的氢氧化物和/或碱土金属的氢氧化物同碱金属的甲酸盐和/或减土金属的甲酸盐一起添加附着至活性炭上,来制备所述净化剂,通过将废气暴露于所述净化剂中,就可以将所述废气中的有毒的卤素系气体加以有效去除,而且已吸附在所述净化剂上的卤素系气体的脱附程度很小。另外,借助一种包含金属氧化物或金属的氢氧化物的预处理净化剂和一种通过将钠的甲酸盐添加附着至金属氧化物上制备而成的后处理净化剂,所述净化处理的安全性和有效性可得到进一步改善。
-
-
-
-
-
-
-