-
公开(公告)号:CN100339151C
公开(公告)日:2007-09-26
申请号:CN03813161.7
申请日:2003-05-16
Applicant: 日本派欧尼股份株式会社
CPC classification number: B01D53/8646 , B01D53/8625 , B01D53/8628 , B01D53/8668 , B01D2258/0216 , B01J23/26 , B01J23/72
Abstract: 一种废气净化方法,包括以下步骤:加热的同时,将含氮氧化物或有机溶剂的至少一种的废气与含金属作为还原性净化成分并含金属氧化物作为氧化性净化剂成分,或者含低价金属氧化物作为还原性净化剂成分并含高价金属氧化物作为氧化性净化剂成分的净化剂接触,进行还原性净化剂成分还原氮氧化物或者氧化性净化剂成分氧化分解有机溶剂中的至少一种,同时检测还原性净化剂成分和氧化性净化剂成分之间的组成比随氧化-还原反应过程的变化,当组成比例偏离预定的控制范围时提供校正气体,并将组成比恢复到控制范围内。提供了一种由半导体生产过程中排放的所含氮氧化物和/或有机溶剂浓度很高且变化很大的废气的净化方法,能够以相对较低的温度和较高的分解率容易地净化,无需使用大规模净化装置或结构复杂的净化装置。
-
公开(公告)号:CN1658950A
公开(公告)日:2005-08-24
申请号:CN03813161.7
申请日:2003-05-16
Applicant: 日本派欧尼股份株式会社
CPC classification number: B01D53/8646 , B01D53/8625 , B01D53/8628 , B01D53/8668 , B01D2258/0216 , B01J23/26 , B01J23/72
Abstract: 一种废气净化方法,包括以下步骤:加热的同时,将含氮氧化物或有机溶剂的至少一种的废气与含金属作为还原性净化成分并含金属氧化物作为氧化性净化剂成分,或者含低价金属氧化物作为还原性净化剂成分并含高价金属氧化物作为氧化性净化剂成分的净化剂接触,进行还原性净化剂成分还原氮氧化物或者氧化性净化剂成分氧化分解有机溶剂中的至少一种,同时检测还原性净化剂成分和氧化性净化剂成分之间的组成比随氧化-还原反应过程的变化,当组成比例偏离预定的控制范围时提供校正气体,并将组成比恢复到控制范围内。提供了一种由半导体生产过程中排放的所含氮氧化物和/或有机溶剂浓度很高且变化很大的废气的净化方法,能够以相对较低的温度和较高的分解率容易地净化,无需使用大规模净化装置或结构复杂的净化装置。
-