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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101627302B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN200880006881.0
申请日：2008-04-02
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G01N27/62
CPC classification number: H01J49/0009 , G01L21/30 , H01J41/02 , H01J41/10 , H01J49/0027
Abstract: 本发明的气体分析器包含：离子化部(211)，用以离子化试样气体；第1离子检测部(212)及第2离子检测部(213)，夹着所述离子化部(211)而设置，并且离开所述离子化部(211)起算的距离相互不同，以检测来自所述离子化部(211)的离子；过滤器部(214)，设在所述离子化部(211)及所述第1离子检测部(212)之间，选择性地使来自所述离子化部(211)的离子通过；运算装置(3)，利用通过所述第1离子检测部(212)所得的试样气体的第1全压TP1及通过所述第2离子检测部(213)所得的试样气体的第2全压TP2，修正通过所述第1离子检测部(212)所得的由所述过滤器部(214)所选择的特定成分的分压PP1；且在利用四极质谱分析法等的气体分析器中，可维持分辨率，并即使在测定值无法追随周围气体压力变化的区域也可进行修正。
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公开(公告)号：CN101405599B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200780009949.6
申请日：2007-03-09
Applicant: 株式会社堀场STEC
Abstract: 一种残留气体分析仪，对于半导体装置等狭窄场所也能够合适配置进行计量测定，且在无外部PC机的情况下能够进行从计量测定直至显示计量测定结果。其包括由检测残留气体的传感部(11)构成的传感器单元(1)以及装置本体(2)，该装置本体包括受操作以控制所述传感部(11)的操作部、根据所述传感部(11)的输出而对残留气体进行分析处理的残留气体分析处理部、以及对残留气体分析处理部的分析处理结果进行图像显示的分析处理结果图像显示部，获取将所述传感器单元(1)安装后的安装状态(P1)或将其脱离后的脱离状态(P2)。
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公开(公告)号：CN101627302A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200880006881.0
申请日：2008-04-02
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G01N27/62
CPC classification number: H01J49/0009 , G01L21/30 , H01J41/02 , H01J41/10 , H01J49/0027
Abstract: 本发明的气体分析器包含：离子化部(211)，用以离子化试样气体；第1离子检测部(212)及第2离子检测部(213)，夹着所述离子化部(211)而设置，并且离开所述离子化部(211)起算的距离相互不同，以检测来自所述离子化部(211)的离子；过滤器部(214)，设在所述离子化部(211)及所述第1离子检测部(212)之间，选择性地使来自所述离子化部(211)的离子通过；运算装置(3)，利用通过所述第1离子检测部(212)所得的试样气体的第1全压TP 1 及通过所述第2离子检测部(213)所得的试样气体的第2全压TP 2 ，修正通过所述第1离子检测部(212)所得的由所述过滤器部(214)所选择的特定成分的分压PP 1 ；且在利用四极质谱分析法等的气体分析器中，可维持分辨率，并即使在测定值无法追随周围气体压力变化的区域也可进行修正。
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公开(公告)号：CN101405599A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200780009949.6
申请日：2007-03-09
Applicant: 株式会社堀场STEC
Abstract: 一种残留气体分析仪，对于半导体装置等狭窄场所也能够合适配置进行计量测定，且在无外部PC机的情况下能够进行从计量测定直至显示计量测定结果。其包括由检测残留气体的传感部(11)构成的传感器单元(1)以及装置本体(2)，该装置本体包括受操作以控制所述传感部(11)的操作部、根据所述传感部(11)的输出而对残留气体进行分析处理的残留气体分析处理部、以及对残留气体分析处理部的分析处理结果进行图像显示的分析处理结果图像显示部，获取将所述传感器单元(1)安装后的安装状态(P1)或将其脱离后的脱离状态(P2)。
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