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公开(公告)号：CN108666235A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201810161422.5
申请日：2018-02-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
CPC classification number: H01L22/26 , C03C15/00 , H01L21/32134 , H01L21/67086 , H01L21/67253
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。目的在于即使在伴随基板处理的处理液中的成分浓度的变化较大的情况下，也能够对处理基板的期间的处理液的浓度进行控制。基板处理装置具备：用于利用处理液(30)对基板(12)进行处理的处理槽(14)；预先取得基板的处理信息(200)的取得部(50)；以及存储对处理信息所能取的多个状况、和与上述多个状况分别对应地预先准备的多个浓度变化模式进行记述的对应信息的存储部(52)。并设有：通过参照对应信息，对与所取得的基板的处理信息对应的预测浓度变化模式进行确定的确定部(54)；以及在处理槽中处理基板的期间，基于预测浓度变化模式进行处理液的浓度控制的控制部(56)。
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公开(公告)号：CN108511320A
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：CN201810161160.2
申请日：2018-02-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明的目的在于提供一种用于高精度地测定在基板的处理中使用的处理液的压力的基板处理装置及基板处理方法。一种基板处理装置具有：第一槽(14)，贮存用于处理基板(12)的处理液(30)；第一路径(20)，使从第一槽的上部溢出的处理液回流到第一槽的下部。此外，设置有：第二路径(22)，从第一路径分支；测定槽(24)，贮存从第二路径流入的处理液；压力测定部(26)，在从测定槽的上部溢出处理液的状态下，测定在测定槽内的规定深度处的处理液的压力。
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公开(公告)号：CN107665838B
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201710622173.0
申请日：2017-07-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，包括：多个夹具构件(13)，其通过将基板夹持为水平而将上述基板保持为水平的姿势；处理液供给单元，向基板(W)供给处理液；以及热源，配置于基板的上方。夹具构件(13)包括：导电性构件(41)，至少一部分由含有碳的材料形成，包括：底座部(46)，配置在比基板(W)靠近下方的位置；以及接触部(47)，从上述底座部(46)的上表面(46a)向上方突出，按压于基板(W)的外周部；以及夹具盖(42)，安装于导电性构件(41)，俯视时未覆盖底座部(46)的至少一部分而覆盖接触部(47)。
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公开(公告)号：CN114242614A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202111059078.7
申请日：2021-09-09
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供一种能够将基板加工成更复杂的形状的基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法是将具有交替层叠的氧化膜(Ma)和氮化膜(Mb)的基板(W)，在处理槽(3)中用含磷酸的蚀刻液(E)蚀刻的方法。在第一处理工序(步骤S2)中，控制参数以使与蚀刻液(E)中的磷酸的浓度相对应的物理量成为第一目标值。在第二处理工序(步骤S4)中，控制参数以使与蚀刻液(E)中的磷酸的浓度相对应的物理量成为比第一目标值低的第二目标值。参数是使与蚀刻液(E)中的磷酸的浓度相对应的物理量变动的参数。第二目标值表示与第一目标值相比，氮化膜(Mb)的蚀刻速度更大且氧化膜(Ma)的蚀刻速度更小的值。
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公开(公告)号：CN114068355A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202110855316.9
申请日：2021-07-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种能够容易地确认气泡供给管的开口的状态的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100B)具备处理槽(110)、气泡供给管(180A)、气体供给管(261A)、物理量检测部(253A)和判定部(12)。处理槽(110)贮留处理液(LQ)并浸渍基板(W)。气泡供给管(180A)具有向处理液(LQ)中供给气体以形成气泡的多个开口(G)。气体供给管(261A)向气泡供给管(180A)供给气体。物理量检测部(253A)通过气体供给管(261A)检测由气泡供给管(180A)的状态引起的物理量。判定部(12)基于物理量判定多个开口(G)的状态。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107527838A
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201710462496.8
申请日：2017-06-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，包括：多个夹具构件(13)，通过将基板(W)夹持为水平而将基板(W)保持为水平的姿势；支撑构件(59)，支撑夹具构件(13)；紧固构件(43)，将夹具构件(13)紧固在支撑构件(59)上。夹具构件(13)包括：导电性构件(41)，包括按压于基板(W)的外周部的基板接触部(71)；芯材(40)，支撑导电性构件(41)，由紧固构件(43)紧固在支撑构件(59)上；以及通电构件(44)，形成不通过芯材(40)并从基板接触部(71)向紧固构件(43)延伸的接地路径(95)的一部分，经由接地路径(95)使基板(W)接地。
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公开(公告)号：CN108511320B
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN201810161160.2
申请日：2018-02-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明的目的在于提供一种用于高精度地测定在基板的处理中使用的处理液的压力的基板处理装置及基板处理方法。一种基板处理装置具有：第一槽(14)，贮存用于处理基板(12)的处理液(30)；第一路径(20)，使从第一槽的上部溢出的处理液回流到第一槽的下部。此外，设置有：第二路径(22)，从第一路径分支；测定槽(24)，贮存从第二路径流入的处理液；压力测定部(26)，在从测定槽的上部溢出处理液的状态下，测定在测定槽内的规定深度处的处理液的压力。
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公开(公告)号：CN108666235B
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN201810161422.5
申请日：2018-02-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。目的在于即使在伴随基板处理的处理液中的成分浓度的变化较大的情况下，也能够对处理基板的期间的处理液的浓度进行控制。基板处理装置具备：用于利用处理液(30)对基板(12)进行处理的处理槽(14)；预先取得基板的处理信息(200)的取得部(50)；以及存储对处理信息所能取的多个状况、和与上述多个状况分别对应地预先准备的多个浓度变化模式进行记述的对应信息的存储部(52)。并设有：通过参照对应信息，对与所取得的基板的处理信息对应的预测浓度变化模式进行确定的确定部(54)；以及在处理槽中处理基板的期间，基于预测浓度变化模式进行处理液的浓度控制的控制部(56)。
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公开(公告)号：CN107527838B
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201710462496.8
申请日：2017-06-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，包括：多个夹具构件(13)，通过将基板(W)夹持为水平而将基板(W)保持为水平的姿势；支撑构件(59)，支撑夹具构件(13)；紧固构件(43)，将夹具构件(13)紧固在支撑构件(59)上。夹具构件(13)包括：导电性构件(41)，包括按压于基板(W)的外周部的基板接触部(71)；芯材(40)，支撑导电性构件(41)，由紧固构件(43)紧固在支撑构件(59)上；以及通电构件(44)，形成不通过芯材(40)并从基板接触部(71)向紧固构件(43)延伸的接地路径(95)的一部分，经由接地路径(95)使基板(W)接地。
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公开(公告)号：CN107665838A
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201710622173.0
申请日：2017-07-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，包括：多个夹具构件(13)，其通过将基板夹持为水平而将上述基板保持为水平的姿势；处理液供给单元，向基板(W)供给处理液；以及热源，配置于基板的上方。夹具构件(13)包括：导电性构件(41)，至少一部分由含有碳的材料形成，包括：底座部(46)，配置在比基板(W)靠近下方的位置；以及接触部(47)，从上述底座部(46)的上表面(46a)向上方突出，按压于基板(W)的外周部；以及夹具盖(42)，安装于导电性构件(41)，俯视时未覆盖底座部(46)的至少一部分而覆盖接触部(47)。
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