公开(公告)号：CN108475628A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201680077170.7

申请日：2016-10-21

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 枝光建治 ,  藤谷佳礼 ,  岸田拓也 ,  松村刚至

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/304

Abstract: 本发明的基板处理装置中，从喷出管(7)向供给位置(SP)供给的处理液的液流，通过液流分散构件(8)被大致分散为朝向处理槽(1)中央的底面侧液流、以及朝向处理槽(1)中央的斜上方的液流这两个部分。因此，由于能够使较强的液流分散为在处理槽(1)的中央部上升的处理液的液流，以及从斜下方与该液流合流的液流，因此该液流在基板(W)表面的中央部以相对较宽的宽度上升。其结果是，由于能缓和在基板(W)表面附近的处理液流动的差异，因此能够提高处理的面内均匀性。

公开(公告)号：CN108511320A

公开(公告)日：2018-09-07

申请号：CN201810161160.2

申请日：2018-02-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 仓崎浩二 ,  枝光建治 ,  佐藤昌治 ,  武知圭 ,  松村刚至

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种用于高精度地测定在基板的处理中使用的处理液的压力的基板处理装置及基板处理方法。一种基板处理装置具有：第一槽(14)，贮存用于处理基板(12)的处理液(30)；第一路径(20)，使从第一槽的上部溢出的处理液回流到第一槽的下部。此外，设置有：第二路径(22)，从第一路径分支；测定槽(24)，贮存从第二路径流入的处理液；压力测定部(26)，在从测定槽的上部溢出处理液的状态下，测定在测定槽内的规定深度处的处理液的压力。

公开(公告)号：CN108511320B

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN201810161160.2

申请日：2018-02-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 仓崎浩二 ,  枝光建治 ,  佐藤昌治 ,  武知圭 ,  松村刚至

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种用于高精度地测定在基板的处理中使用的处理液的压力的基板处理装置及基板处理方法。一种基板处理装置具有：第一槽(14)，贮存用于处理基板(12)的处理液(30)；第一路径(20)，使从第一槽的上部溢出的处理液回流到第一槽的下部。此外，设置有：第二路径(22)，从第一路径分支；测定槽(24)，贮存从第二路径流入的处理液；压力测定部(26)，在从测定槽的上部溢出处理液的状态下，测定在测定槽内的规定深度处的处理液的压力。

公开(公告)号：CN108666235B

公开(公告)日：2022-03-08

申请号：CN201810161422.5

申请日：2018-02-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 仓崎浩二 ,  枝光建治 ,  佐藤昌治 ,  武知圭 ,  松村刚至 ,  内田博章 ,  山本滋 ,  高桥朋宏 ,  岩谷浩伸 ,  杉冈真治

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。目的在于即使在伴随基板处理的处理液中的成分浓度的变化较大的情况下，也能够对处理基板的期间的处理液的浓度进行控制。基板处理装置具备：用于利用处理液(30)对基板(12)进行处理的处理槽(14)；预先取得基板的处理信息(200)的取得部(50)；以及存储对处理信息所能取的多个状况、和与上述多个状况分别对应地预先准备的多个浓度变化模式进行记述的对应信息的存储部(52)。并设有：通过参照对应信息，对与所取得的基板的处理信息对应的预测浓度变化模式进行确定的确定部(54)；以及在处理槽中处理基板的期间，基于预测浓度变化模式进行处理液的浓度控制的控制部(56)。

公开(公告)号：CN108475628B

公开(公告)日：2022-10-14

申请号：CN201680077170.7

申请日：2016-10-21

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 枝光建治 ,  藤谷佳礼 ,  岸田拓也 ,  松村刚至

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明的基板处理装置中，从喷出管(7)向供给位置(SP)供给的处理液的液流，通过液流分散构件(8)被大致分散为朝向处理槽(1)中央的底面侧液流、以及朝向处理槽(1)中央的斜上方的液流这两个部分。因此，由于能够使较强的液流分散为在处理槽(1)的中央部上升的处理液的液流，以及从斜下方与该液流合流的液流，因此该液流在基板(W)表面的中央部以相对较宽的宽度上升。其结果是，由于能缓和在基板(W)表面附近的处理液流动的差异，因此能够提高处理的面内均匀性。

公开(公告)号：CN108666235A

公开(公告)日：2018-10-16

申请号：CN201810161422.5

申请日：2018-02-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 仓崎浩二 ,  枝光建治 ,  佐藤昌治 ,  武知圭 ,  松村刚至 ,  内田博章 ,  山本滋 ,  高桥朋宏 ,  岩谷浩伸 ,  杉冈真治

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L22/26 ,  C03C15/00 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/67253

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。目的在于即使在伴随基板处理的处理液中的成分浓度的变化较大的情况下，也能够对处理基板的期间的处理液的浓度进行控制。基板处理装置具备：用于利用处理液(30)对基板(12)进行处理的处理槽(14)；预先取得基板的处理信息(200)的取得部(50)；以及存储对处理信息所能取的多个状况、和与上述多个状况分别对应地预先准备的多个浓度变化模式进行记述的对应信息的存储部(52)。并设有：通过参照对应信息，对与所取得的基板的处理信息对应的预测浓度变化模式进行确定的确定部(54)；以及在处理槽中处理基板的期间，基于预测浓度变化模式进行处理液的浓度控制的控制部(56)。