-
公开(公告)号：CN109872959B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201811432270.4
申请日：2018-11-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常的烟雾判定方法、基板处理方法及基板处理装置。在一边在腔室的内部水平地保持基板、一边对基板的上表面供给处理液的装置中，判定烟雾的产生状况。具体来说，首先，对腔室内的规定的拍摄区域进行拍摄(步骤S62)。接着，基于通过拍摄而获取到的拍摄图像的亮度值，判定腔室内的烟雾的产生状况(步骤S63)。由此，能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常。
-
公开(公告)号：CN109872955B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN201811470249.3
申请日：2018-11-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种能够定量地判定干燥区域的状态是否正常的判定方法及基板处理装置。在执行干燥处理的装置中，判定干燥处理是否合格，所述干燥处理是在水平地保持着的基板(W)的上表面形成液膜，使被去除液膜的干燥区域逐渐扩大的处理。具体来说，首先，在干燥处理的执行过程中，利用摄像部(70)反复拍摄基板(W)的上表面。接着，基于通过拍摄而获取到的多个拍摄图像，判定干燥区域的状态是否正常。由此，能够基于多个拍摄图像，定量地判定干燥区域的状态是否正常。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111009477B
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN201910936715.0
申请日：2019-09-29
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/68 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种可对喷出至基板的端部的液柱状的处理液进行拍摄的基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、摄像工序以及监视工序。在上升工序中，使包围基板保持部的外周的杯状构件上升，并使杯状构件的上端位于较保持于基板保持部的基板的上表面而言更高的上端位置。在斜面处理工序中，自位于较上端位置而言更低的位置的喷嘴的喷出口向保持于基板保持部的基板的上表面的端部喷出处理液。在摄像工序中，使照相机对作为包含自喷嘴的喷出口喷出的处理液的摄像区域且自基板的上方的摄像位置看到的摄像区域进行拍摄，来取得摄像图像。在监视工序中，基于摄像图像判定处理液的喷出状态。
-
公开(公告)号：CN109872959A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201811432270.4
申请日：2018-11-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常的烟雾判定方法、基板处理方法及基板处理装置。在一边在腔室的内部水平地保持基板、一边对基板的上表面供给处理液的装置中，判定烟雾的产生状况。具体来说，首先，对腔室内的规定的拍摄区域进行拍摄(步骤S62)。接着，基于通过拍摄而获取到的拍摄图像的亮度值，判定腔室内的烟雾的产生状况(步骤S63)。由此，能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常。
-
公开(公告)号：CN119517801A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202411626931.2
申请日：2019-09-29
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/68 , H01L21/677 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种可对喷出至基板的端部的液柱状的处理液进行拍摄的基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、摄像工序以及监视工序。在上升工序中，使包围基板保持部的外周的杯状构件上升，并使杯状构件的上端位于较保持于基板保持部的基板的上表面而言更高的上端位置。在斜面处理工序中，自位于较上端位置而言更低的位置的喷嘴的喷出口向保持于基板保持部的基板的上表面的端部喷出处理液。在摄像工序中，使照相机对作为包含自喷嘴的喷出口喷出的处理液的摄像区域且自基板的上方的摄像位置看到的摄像区域进行拍摄，来取得摄像图像。在监视工序中，基于摄像图像判定处理液的喷出状态。
-
公开(公告)号：CN111009477A
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201910936715.0
申请日：2019-09-29
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/68 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种可对喷出至基板的端部的液柱状的处理液进行拍摄的基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、摄像工序以及监视工序。在上升工序中，使包围基板保持部的外周的杯状构件上升，并使杯状构件的上端位于较保持于基板保持部的基板的上表面而言更高的上端位置。在斜面处理工序中，自位于较上端位置而言更低的位置的喷嘴的喷出口向保持于基板保持部的基板的上表面的端部喷出处理液。在摄像工序中，使照相机对作为包含自喷嘴的喷出口喷出的处理液的摄像区域且自基板的上方的摄像位置看到的摄像区域进行拍摄，来取得摄像图像。在监视工序中，基于摄像图像判定处理液的喷出状态。
-
公开(公告)号：CN109872955A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201811470249.3
申请日：2018-11-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种能够定量地判定干燥区域的状态是否正常的判定方法及基板处理装置。在执行干燥处理的装置中，判定干燥处理是否合格，所述干燥处理是在水平地保持着的基板(W)的上表面形成液膜，使被去除液膜的干燥区域逐渐扩大的处理。具体来说，首先，在干燥处理的执行过程中，利用摄像部(70)反复拍摄基板(W)的上表面。接着，基于通过拍摄而获取到的多个拍摄图像，判定干燥区域的状态是否正常。由此，能够基于多个拍摄图像，定量地判定干燥区域的状态是否正常。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.032 seconds)
