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公开(公告)号：CN110364454B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN201910151449.0
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够使含有异物的药液和不含有异物的药液在处理杯的内部分离地流通的基板处理方法和基板处理装置。本发明的基板处理方法包括：基板保持工序，利用基板保持单元保持基板；药液供给工序，一边使上述基板绕穿过该基板的中央部的旋转轴线旋转一边向上述基板的主面供给药液；以及流通目标切换工序，在上述药液供给工序中，将从所述基板排出的药液的流通目标从包围所述基板保持单元的周围的处理杯的第一流通空间切换为所述处理杯的与所述第一流通空间隔开的第二流通空间。
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公开(公告)号：CN112017952A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN202010470263.4
申请日：2020-05-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括：药液处理工序，保持覆盖基板的图案形成面的药液的液膜，并使用药液来处理图案形成面；中间处理工序，使用中间处理液来处理图案形成面；填充剂喷出工序，朝向图案形成面喷出填充剂；填充剂扩大工序，使填充剂朝向基板的外周扩展；固化膜形成工序，在图案形成面形成填充剂的固化膜；下位置配置工序，将遮断部件配置在下位置并维持在下位置；以及遮断部件上升工序，朝向位于比下位置更靠上方的上位置开始遮断部件的上升。药液处理工序包括从中央喷嘴朝向图案形成面喷出药液的工序。填充剂扩大工序包括在遮断部件位于上位置的状态下开始图案形成面上的填充剂的扩大的工序。
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公开(公告)号：CN110364453A
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201910148356.2
申请日：2019-02-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供能够从挡板的内壁良好地去除残留的异物的基板处理方法以及基板处理装置，该基板处理方法，包括：基板保持工序，将基板保持为水平姿势；药液供给工序，一边使所述基板以通过该基板的中央部的铅垂的旋转轴线为中心旋转，一边向所述基板的主表面供给药液；处理高度保持工序，与所述药液供给工序并行，将捕获从所述基板排出的药液的筒状的第一挡板保持在处理高度位置；以及清洗高度保持工序，在所述处理高度保持工序之后，与所述药液供给工序并行，将所述第一挡板保持在比所述处理高度位置更靠下方的清洗高度位置。
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公开(公告)号：CN109155247B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN201780026979.1
申请日：2017-05-18
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
Abstract: 基板处理装置包括：处理腔室；基板保持单元，配置在所述处理腔室内，用于保持基板；第一喷嘴，具有用于朝被所述基板保持单元保持的基板的主面喷出流体的喷出口。在基板处理装置中执行：第一处理步骤，将第一药剂流体从所述第一喷嘴朝所述基板的主面喷出，对所述基板实施使用了所述第一药剂流体的处理；第二处理步骤，将第二药剂流体供给至所述基板的主面，对所述基板实施使用了所述第二药剂流体的处理；以及水置换步骤，在所述第一处理步骤执行前及/或执行后，以及/或者，在所述第二处理步骤的执行前及/或执行后，将来自所述第一水供给单元的水供给至所述药剂流体配管，并以水置换所述药剂流体配管的内部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109564862B
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN201780047398.6
申请日：2017-08-16
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 基板处理装置包含：旋转单元，使被收容在腔室内的基板保持单元保持的基板绕铅垂的旋转轴线旋转；喷嘴，具有喷出口，用于从所述喷出口朝被所述旋转单元保持的基板的主表面喷出液体；第一药液供给单元，用于对所述喷嘴供给第一药液；处理杯，用于收容所述基板保持单元，并具有多个筒状的防护罩，所述多个筒状的防护罩包含围绕所述基板保持单元的周围的筒状的第一防护罩以及围绕所述第一防护罩的周围的筒状的第二防护罩；升降单元，用于使所述多个防护罩中的至少一个防护罩升降；以及控制装置，控制所述旋转单元、所述第一药液供给单元以及所述升降单元；所述控制装置执行：上位置配置步骤，将所述多个防护罩中的至少一个防护罩配置在上位置，该上位置是比预定的接液位置靠上方并能通过所述防护罩接住从被所述旋转单元旋转的基板飞散的液体的预定的上位置，所述预定的接液位置是能通过所述防护罩接住从该基板飞散的第一药液的位置；以及第一药液供给步骤，在所述防护罩配置在所述上位置的状态下，一边通过所述旋转单元使基板旋转一边对基板的主表面供给第一药液。
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公开(公告)号：CN109872959A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201811432270.4
申请日：2018-11-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常的烟雾判定方法、基板处理方法及基板处理装置。在一边在腔室的内部水平地保持基板、一边对基板的上表面供给处理液的装置中，判定烟雾的产生状况。具体来说，首先，对腔室内的规定的拍摄区域进行拍摄(步骤S62)。接着，基于通过拍摄而获取到的拍摄图像的亮度值，判定腔室内的烟雾的产生状况(步骤S63)。由此，能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常。
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公开(公告)号：CN111886677B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN201880090875.1
申请日：2018-12-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/306 , H01L21/027 , H01L21/304
Abstract: 一种能够提高多个基板间利用处理液的处理结果的均一性的基板处理装置(100)，其包括温度检测部(17)及控制部(30)。温度检测部(17)在预分配处理执行中的处理液的温度到达目标温度(Tt)之前，对处理液的温度进行检测。控制部(30)基于目标温度预测时间(tP)，来设定预分配处理中的处理液的喷出停止时间。目标温度预测时间是指处理液的温度自检测温度(Td)起到达目标温度(Tt)为止的预测时间。检测温度(Td)是指通过温度检测部(17)在到达目标温度(Tt)之前检测出的处理液的温度。目标温度预测时间(tP)是基于温度分布图(PF)而定。温度分布图(PF)是指过去依照预分配处理条件执行预分配处理时的处理液的温度的时间推移的记录。
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公开(公告)号：CN112017952B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202010470263.4
申请日：2020-05-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括：药液处理工序，保持覆盖基板的图案形成面的药液的液膜，并使用药液来处理图案形成面；中间处理工序，使用中间处理液来处理图案形成面；填充剂喷出工序，朝向图案形成面喷出填充剂；填充剂扩大工序，使填充剂朝向基板的外周扩展；固化膜形成工序，在图案形成面形成填充剂的固化膜；下位置配置工序，将遮断部件配置在下位置并维持在下位置；以及遮断部件上升工序，朝向位于比下位置更靠上方的上位置开始遮断部件的上升。药液处理工序包括从中央喷嘴朝向图案形成面喷出药液的工序。填充剂扩大工序包括在遮断部件位于上位置的状态下开始图案形成面上的填充剂的扩大的工序。
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公开(公告)号：CN110364431B
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN201910150857.4
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/311 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种向基板供给通过将硫酸与双氧水按照第一混合比混合而生成的第一SPM的基板处理方法及基板处理装置。在停止供给第一SPM后向基板供给第二SPM，该第二SPM是通过将硫酸与双氧水按照大于第一混合比的第二混合比混合而生成的。使从基板排出的第一SPM流入排液管道。并且使从基板排出的第二SPM流入回收管道。通过将双氧水与由回收管道引导的第二SPM中含有的硫酸混合来生成SPM。
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