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公开(公告)号：CN112509940B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202010840506.9
申请日：2020-08-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种不需要基准图像也能够判定基板是否被正常地保持的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具有：保持部，用于保持基板；拍摄部，用于在包括被保持的基板的外缘部的拍摄范围内对基板的多个部位进行拍摄，并且输出基板的多个图像数据；提取部，用于从多个图像数据之间的差分图像提取基板的外缘部；以及判定部，用于基于差分图像中的基板的外缘部，判定基板的保持状态。
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公开(公告)号：CN112840438A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201980065740.4
申请日：2019-09-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 提供一种能够拍摄喷出到基板的端部的液柱状的处理液的基板处理装置。基板处理装置具有基板保持部20、杯构件40、升降机构44、第一喷嘴31以及相机70。基板保持部20保持基板W并使基板W旋转。杯构件40包围基板保持部20的外周。升降机构44以使杯构件40的上端部位于比基板保持部20保持的基板W高的上端位置的方式，使杯构件40上升。第一喷嘴31在比上端位置低的位置具有喷出口，从喷出口向基板W的端部喷出第一处理液。相机70拍摄从基板W的上方的拍摄位置观察的拍摄区域，该拍摄区域包含从第一喷嘴31的喷出口喷出的第一处理液。
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公开(公告)号：CN119517801A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202411626931.2
申请日：2019-09-29
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/68 , H01L21/677 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种可对喷出至基板的端部的液柱状的处理液进行拍摄的基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、摄像工序以及监视工序。在上升工序中，使包围基板保持部的外周的杯状构件上升，并使杯状构件的上端位于较保持于基板保持部的基板的上表面而言更高的上端位置。在斜面处理工序中，自位于较上端位置而言更低的位置的喷嘴的喷出口向保持于基板保持部的基板的上表面的端部喷出处理液。在摄像工序中，使照相机对作为包含自喷嘴的喷出口喷出的处理液的摄像区域且自基板的上方的摄像位置看到的摄像区域进行拍摄，来取得摄像图像。在监视工序中，基于摄像图像判定处理液的喷出状态。
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公开(公告)号：CN112640054B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN201980054879.9
申请日：2019-07-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , B05D1/36 , B05D1/40 , B05D3/00 , H01L21/027 , H01L21/306
Abstract: 基板处理方法具有第一工序至第六工序。保持基板(第一工序)。开始利用相机进行拍摄，从而生成拍摄图像(第二工序)。开始从第一喷嘴向基板喷出处理液(第三工序)。停止从第一喷嘴喷出处理液，开始从第二喷嘴喷出处理液(第四工序)。基于针对拍摄图像的图像处理，求出从第二喷嘴喷出处理液的开始时刻与从第一喷嘴喷出处理液的停止时刻之间的时间差(第五工序)。在判定为时间差在规定范围外时，以使时间差处于规定范围内的方式调整开始时刻及停止时刻中的至少任一者(第六工序)。
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公开(公告)号：CN109560012B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN201811084085.0
申请日：2018-09-17
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够掌握衬底的被处理面的中央侧及外周侧的处理结束时间点的衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置具备：衬底旋转部，所述衬底旋转部将衬底保持为水平并使其旋转；喷嘴，所述喷嘴向通过衬底旋转部进行旋转的衬底的被处理面供给处理液；拍摄部，所述拍摄部对包含多个对象区域的拍摄区域进行拍摄，所述对象区域是在向衬底供给了处理液时形成了液膜的区域；和检测部，所述检测部参照拍摄部的拍摄结果，基于多个对象区域的各自的亮度值的变化，来检测多个对象区域的各自的处理结束时间点。另外，拍摄区域至少包含被处理面的中央侧的区域和外周侧的区域作为多个对象区域。因此，能掌握衬底的被处理面的中央侧及外周侧的处理结束时间点。
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公开(公告)号：CN112640055A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201980054884.X
申请日：2019-07-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/306
Abstract: 相机(70)通过连续拍摄在处理区间(PS1)内移动的喷嘴(30)来获取摄影图像。基准图像登记部(90)对通过拍摄位于处理区间(PS1)的第一端(TE1)及第二端(TE2)的喷嘴(30)而获得的第一基准图像及第二基准图像(RP1、RP2)进行登记。位置偏离检测部(91)具有：图像判定部(910)，对于利用相机拍摄在处理区间(PS1)内移动的喷嘴(30)而获得的实际图像(GP)，根据既定的判定规则，判定是否为与所述第一端及所述第二端分别对应的图像；以及图像比较部(912)，将第一基准图像及第二基准图像(RP1、RP2)与由图像判定部(910)判定为与第一端及第二端分别对应的实际图像(GP)进行比较。
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公开(公告)号：CN112490167A
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN202010805951.1
申请日：2020-08-12
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种提高对移动的喷嘴的位置检测精度的基板处理装置。基板处理装置具有用于拍摄喷嘴并输出喷嘴的图像数据的拍摄部，用于根据图像数据检测喷嘴的位置的位置检测部。位置检测部在停止区域中，通过使用基准图像数据对图像数据进行匹配处理，从而检测喷嘴的位置，在移动区域中，将在停止区域检测到的喷嘴的位置作为基准，通过在连续的图像数据之间进行循轨处理来检测喷嘴的位置。
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公开(公告)号：CN107764193A
公开(公告)日：2018-03-06
申请号：CN201710650900.4
申请日：2017-08-02
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种能够以优异的精度检测定位对象物相对基准位置在实际空间中的位移的技术。位移检测装置包括：拍摄机构，其将定位对象物或与定位对象物一体地位移的物体作为拍摄对象物，拍摄包括该拍摄对象物的图像；位移检测机构，其从由拍摄机构拍摄到的图像检测拍摄对象物，基于检测到的拍摄对象物在图像内的位置，检测定位对象物的位移；位移检测机构根据在图像内检测到拍摄对象物的位置和规定的基准位置的距离乘以根据图像内的拍摄对象物的大小确定的系数得到的值，来求出定位对象物的位移量。
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公开(公告)号：CN112840438B
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN201980065740.4
申请日：2019-09-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 提供一种能够拍摄喷出到基板的端部的液柱状的处理液的基板处理装置。基板处理装置具有基板保持部20、杯构件40、升降机构44、第一喷嘴31以及相机70。基板保持部20保持基板W并使基板W旋转。杯构件40包围基板保持部20的外周。升降机构44以使杯构件40的上端部位于比基板保持部20保持的基板W高的上端位置的方式，使杯构件40上升。第一喷嘴31在比上端位置低的位置具有喷出口，从喷出口向基板W的端部喷出第一处理液。相机70拍摄从基板W的上方的拍摄位置观察的拍摄区域，该拍摄区域包含从第一喷嘴31的喷出口喷出的第一处理液。
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公开(公告)号：CN112789709B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN201980065636.5
申请日：2019-09-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , B05C11/08 , H01L21/027
Abstract: 提供一种能够监视喷出到基板的端部的液柱状的处理液的着落位置的基板处理方法。基板处理方法具有保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、拍摄工序以及监视工序。在保持工序中，使基板保持部保持基板。在旋转工序中，使基板保持部旋转来使基板旋转。在上升工序中，使包围基板保持部的外周的杯构件上升，使杯构件的上端位于比基板的上表面高的上端位置。在斜面处理工序中，从位于比该上端位置低的位置的喷嘴的喷出口向基板的上表面的端部喷出处理液。在拍摄工序中，使相机对从基板的上方的拍摄位置观察的拍摄区域进行拍摄，获得拍摄图像，在该拍摄区域中包括从喷嘴喷出的处理液以及映现在基板的上表面的处理液的镜像。在监视工序中，基于拍摄图像中的处理液与该镜像，监视处理液的着落位置。
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