电子枪装置
    1.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203373418U

    公开(公告)日:2014-01-01

    申请号:CN201290000132.9

    申请日:2012-04-09

    Abstract: 提供一种电子枪装置,在适于装置运转的位置具备极片,该极片在坩埚的上方位置朝着坩埚沿水平方向延伸。电子枪装置(1)具备:坩埚(3),其收容蒸镀材料;电子束射出机构(7),其射出电子束(EB),以使坩埚(3)内的蒸镀材料加热蒸发;壳体(10),其在内部收容电子束射出机构(7);第1极片(11)以及第2极片(12),其在固定于壳体(10)的状态下使电子束(EB)朝着坩埚(3)内的蒸镀材料偏转;以及第3极片(13),其为了调整电子束(EB)对坩埚(3)内的蒸镀材料的照射位置,使向壳体(10)外射出的电子束(EB)进一步偏转,第3极片(13)在配置于坩埚(3)的上方位置的状态下朝着坩埚沿水平方向延伸,位于壳体(10)外,并且与壳体(10)分离。

    薄膜形成装置
    2.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203080057U

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201220694213.5

    申请日:2012-12-14

    Abstract: 本实用新型提供一种薄膜形成装置,其具备离子源,其中,电子枪、离子源都不会因彼此发出的电子而发生干涉,从而能够稳定地动作。对于离子源,使从电子枪的灯丝朝向坩埚的线为水平线并将其作为基准线,使所述离子源的电极部位于相对于基准线呈±45°的范围以外的位置,且所述离子源配置成,所述离子源的电极中心与使所述基体保持构件旋转的旋转构件的中心之间的水平距离(L)相对于所述基体保持构件的直径(D)的比(L/D)在0.3以上、0.5以下的范围。

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