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公开(公告)号：CN118984886A
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202280093779.9
申请日：2022-11-11
Applicant: 株式会社新柯隆
Abstract: 本发明提供一种含有硅和氧的薄膜，其能够在短时间内提高含氟化合物的薄膜的密合性。一种含有硅和氧的薄膜，其含有硅、氧和铌，通过使用了X射线光电子能谱法的原子数测定得到的上述铌与上述硅的原子数比(Nb/Si)为0％～25％(不含两端点值)。
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