公开(公告)号：CN118984886A

公开(公告)日：2024-11-19

申请号：CN202280093779.9

申请日：2022-11-11

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 冈田胜久 ,  重田勇辉 ,  富坚靖久 ,  高滨吉隆

IPC: C23C14/08 ,  B32B9/00 ,  C23C14/58 ,  C23C16/42

Abstract: 本发明提供一种含有硅和氧的薄膜，其能够在短时间内提高含氟化合物的薄膜的密合性。一种含有硅和氧的薄膜，其含有硅、氧和铌，通过使用了X射线光电子能谱法的原子数测定得到的上述铌与上述硅的原子数比(Nb/Si)为0％～25％(不含两端点值)。

公开(公告)号：CN118742829A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202380012409.2

申请日：2023-09-13

Applicant: 多贺康训 ,  株式会社新柯隆

Inventor： 多贺康训 ,  高滨吉隆 ,  菅原卓哉

IPC: G02B1/111 ,  B32B9/00

Abstract: 一种防反射膜(2)，该防反射膜(2)为了在具有防反射性和耐擦伤性的基础上抑制针对拉伸应力的裂纹产生，在基材(1)的表面具有折射率低于上述基材(1)的折射率的低折射率层(21)作为最外层，其中，上述低折射率层(21)含有硅、碳、氟和氧作为必要成分，还含有铟、锡或铋中的至少任一种作为必要成分，以氧化硅为主要成分，包含有机氟化合物。