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公开(公告)号：CN114402090A
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202080064516.6
申请日：2020-10-09
Abstract: 在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变蒸镀材料的组成的气体，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在被蒸镀物上。
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公开(公告)号：CN116419986A
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202280005853.7
申请日：2022-02-04
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/54
Abstract: 成膜控制装置具有：光源(42)，其对配置于旋转体(25)的基板(S)照射光；受光部(46)，对于从所述光源照射的光，该受光部接收透过形成在所述基板上的薄膜的层的透过光或者被形成在所述基板上的薄膜的层反射的反射光；位置信息取得部(48)，其取得与所述旋转体的圆周方向的位置对应的位置信息；以及控制部(4)，其对成膜条件进行控制，所述控制部包含：时机控制部，其根据由所述位置信息取得部取得的所述旋转体的圆周方向的位置信息来确定作为目标的基板的位置，对接收从所述光源向该确定的位置的基板照射的光的透过光或者反射光的时机进行控制；膜厚判定部，其根据由所述受光部接收到的透过光或者反射光，计算由多个层构成的薄膜的各层的膜厚，判定所述各层的膜厚与构成具有期望的分光特性的薄膜的各层的目标膜厚的膜厚差；以及成膜条件设定部，其在所述各层的膜厚相对于所述目标膜厚存在规定值以上的膜厚差的情况下，对针对该层的成膜条件进行校正以使得存在该膜厚差的层的膜厚成为该层的目标膜厚，然后设定所述成膜条件。
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公开(公告)号：CN114402090B
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202080064516.6
申请日：2020-10-09
Abstract: 在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变蒸镀材料的组成的气体，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在被蒸镀物上。
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公开(公告)号：CN114514335B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202080064503.9
申请日：2020-10-09
Abstract: 在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变所述蒸镀材料的组成的气体，将成膜室(2a)的内部的包含基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将成膜室(2a)的内部的包含蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在基板(S)上，并且在第1区域(A)中向基板(S)照射离子。
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公开(公告)号：CN114514335A
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202080064503.9
申请日：2020-10-09
Abstract: 在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变所述蒸镀材料的组成的气体，将成膜室(2a)的内部的包含基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将成膜室(2a)的内部的包含蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在基板(S)上，并且在第1区域(A)中向基板(S)照射离子。
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