公开(公告)号：CN101861408B

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN200980100991.8

申请日：2009-08-17

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长江亦周 ,  姜友松 ,  塩野一郎 ,  清水匡之 ,  林达也 ,  古川诚 ,  村田尊则

IPC: C23C14/22

CPC classification number: C23C14/22 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/221 ,  C23C14/225 ,  H01J2237/0041 ,  H01J2237/3132

Abstract: 本发明提供一种能够制造具有良好的光学特性的光学薄膜的光学薄膜沉积装置，以及制造成本低廉而且具有良好的光学特性的光学薄膜的制造方法。在真空容器(10)内向基体(14)沉积沉积物质的光学薄膜沉积装置具有：圆顶形的基体保持单元(12)，其设置在真空容器(10)内，用于保持基体(14)；旋转单元，其使基体保持单元(12)旋转；沉积单元(34)，其与基体(14)相对设置；离子源(38)，其向基体(14)照射离子；以及中和器(40)，其向基体(14)照射电子。离子源(38)被设置在下述位置，即，所述位置是使从离子源(38)照射离子的轴线、与相对于基体(14)的表面的垂线之间的角度为8°以上40°以下，并使基体保持单元的旋转轴中心和离子源(38)的中心之间的垂直方向的距离、与基体保持单元(12)的直径之比为0.5以上1.2以下的范围。

公开(公告)号：CN101861408A

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200980100991.8

申请日：2009-08-17

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长江亦周 ,  姜友松 ,  塩野一郎 ,  清水匡之 ,  林达也 ,  古川诚 ,  村田尊则

IPC: C23C14/22

CPC classification number: C23C14/22 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/221 ,  C23C14/225 ,  H01J2237/0041 ,  H01J2237/3132

Abstract: 本发明提供一种能够制造具有良好的光学特性的光学薄膜的光学薄膜沉积装置，以及制造成本低廉而且具有良好的光学特性的光学薄膜的制造方法。在真空容器(10)内向基体(14)沉积沉积物质的光学薄膜沉积装置具有：圆顶形的基体保持单元(12)，其设置在真空容器(10)内，用于保持基体(14)；旋转单元，其使基体保持单元(12)旋转；沉积单元(34)，其与基体(14)相对设置；离子源(38)，其向基体(14)照射离子；以及中和器(40)，其向基体(14)照射电子。离子源(38)被设置在下述位置，即，所述位置是使从离子源(38)照射离子的轴线、与相对于基体(14)的表面的垂线之间的角度为8°以上40°以下，并使基体保持单元的旋转轴中心和离子源(38)的中心之间的垂直方向的距离、与基体保持单元(12)的直径之比为0.5以上1.2以下的范围。

公开(公告)号：CN203498464U

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201320649172.2

申请日：2013-10-21

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 渡边健 ,  村田尊则 ,  清水匡之

IPC: C23C14/30

Abstract: 本实用新型提供一种薄膜形成装置，减少因蒸发物质从收纳于真空容器的基板保持部件和真空容器内壁之间的间隙迂回进入而引起的真空容器内的污染和异物混入。薄膜形成装置（1）具备：真空容器（2）；基板保持部件（10），其收纳于真空容器内，用于保持基板（K）；和蒸镀源（3），其配置于基板保持部件（10）的下方位置。在基板保持部件（10）的外周下端部和真空容器内壁之间的间隙设置有防附着遮护部（20）。防附着遮护部（20）由配置于基板保持部件（10）的外周下端部的第1防附着遮护部（21）、和配置于真空容器的内壁面的第2防附着遮护部（22）构成。第1防附着遮护部配置成在上下方向上至少一部分与第2防附着遮护部重叠。