公开(公告)号：CN113352229A

公开(公告)日：2021-09-07

申请号：CN202110253439.5

申请日：2021-03-05

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 森浦拓也 ,  外崎宏 ,  曾根忠一 ,  伊藤雅佳 ,  小畠严贵 ,  松尾尚典 ,  寺田哲也

IPC: B24B37/10 ,  B24B37/34 ,  B24B57/02 ,  B24B41/02 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供一种研磨装置、处理系统和研磨方法，该研磨装置包含：研磨台，该研磨台用于支承研磨垫；研磨头，该研磨头用于保持基板；以及研磨液供给装置，该研磨液供给装置用于向研磨垫与基板之间供给研磨液，研磨装置通过在研磨液的存在下使研磨垫与基板接触并相互旋转运动，从而进行基板的研磨，研磨液供给装置具有多个研磨液供给口，该多个研磨液供给口在相对于基板配置在研磨垫的旋转上游侧的状态下，在与研磨垫的旋转方向交叉的方向上排列，研磨液供给装置以从多个研磨液供给口供给的研磨液成为规定的流量分布的方式供给研磨液。

公开(公告)号：CN113352229B

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202110253439.5

申请日：2021-03-05

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 森浦拓也 ,  外崎宏 ,  曾根忠一 ,  伊藤雅佳 ,  小畠严贵 ,  松尾尚典 ,  寺田哲也

IPC: B24B37/10 ,  B24B37/34 ,  B24B57/02 ,  B24B41/02 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供一种研磨装置、处理系统和研磨方法，该研磨装置包含：研磨台，该研磨台用于支承研磨垫；研磨头，该研磨头用于保持基板；以及研磨液供给装置，该研磨液供给装置用于向研磨垫与基板之间供给研磨液，研磨装置通过在研磨液的存在下使研磨垫与基板接触并相互旋转运动，从而进行基板的研磨，研磨液供给装置具有多个研磨液供给口，该多个研磨液供给口在相对于基板配置在研磨垫的旋转上游侧的状态下，在与研磨垫的旋转方向交叉的方向上排列，研磨液供给装置以从多个研磨液供给口供给的研磨液成为规定的流量分布的方式供给研磨液。

公开(公告)号：CN118664515A

公开(公告)日：2024-09-20

申请号：CN202410299657.6

申请日：2024-03-15

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 佐藤纪之 ,  田村元成 ,  山口都章 ,  寺田哲也

IPC: B24B53/017 ,  B24B37/10

Abstract: 提供一种液体供给装置和研磨装置，该液体供给装置具备：能够在研磨台的上方水平地摆动的摆动臂；和沿着所述摆动臂的长边方向排列设置，并向所述研磨台上喷射清洗流体的多个喷射喷嘴，所述多个喷射喷嘴分别具有狭缝状的流体出口，并且被定向为，在俯视下越是靠近所述摆动臂的顶端的喷射喷嘴的流体出口，相对于所述摆动臂的长边方向的倾斜角度就越大。

公开(公告)号：CN115734841A

公开(公告)日：2023-03-03

申请号：CN202280003970.X

申请日：2022-05-19

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 寺田哲也 ,  外崎宏 ,  森浦拓也

IPC: B24B37/00 ,  B24B55/06 ,  B24B57/00 ,  B24B57/04 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明在一边使具有多个研磨液供给口的研磨液供给头在研磨垫上移动一边供给研磨液时，使研磨液的供给范围的均匀性提高。本发明的研磨装置(1)包含：用于支撑研磨垫(100)的研磨台；用于保持对象物的研磨头(30)；及用于向研磨垫100与对象物之间供给研磨液的研磨液供给装置(40)。研磨液供给装置(40)包含：具有多个研磨液供给口(414)的研磨液供给头(41)；构成位使研磨液供给头(41)沿着研磨垫(100)的研磨面移动的连杆机构(60)；及构成为驱动连杆机构(60)的驱动机构(90)。驱动机构90构成为，以在研磨液供给头(41)与研磨垫(100)的中央侧相对配置的第一状态(450)下，多个研磨液供给口(414)沿着研磨垫(100)的径向排列，并在与第一状态(450)相比研磨液供给头(41)与研磨垫(100)的外缘相对配置的第二状态(460)下，多个研磨液供给口(414)沿着研磨垫100的径向排列的方式，驱动连杆机构(60)。

公开(公告)号：CN118905916A

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN202411234357.6

申请日：2021-03-05

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 森浦拓也 ,  外崎宏 ,  曾根忠一 ,  伊藤雅佳 ,  小畠严贵 ,  松尾尚典 ,  寺田哲也

IPC: B24B37/30 ,  B24B57/02 ,  B24B37/04 ,  B24B41/02 ,  B24B37/10 ,  H01L21/306 ,  B24B37/34

Abstract: 本发明提供一种研磨装置和研磨方法，该研磨装置包含：研磨台，该研磨台用于支承研磨垫；研磨头，该研磨头用于保持基板；以及研磨液供给装置，该研磨液供给装置用于向研磨垫与基板之间供给研磨液，研磨装置通过在研磨液的存在下使研磨垫与基板接触并相互旋转运动，从而进行基板的研磨，研磨液供给装置具有多个研磨液供给口，该多个研磨液供给口在相对于基板配置在研磨垫的旋转上游侧的状态下，在与研磨垫的旋转方向交叉的方向上排列，研磨液供给装置以从多个研磨液供给口供给的研磨液成为规定的流量分布的方式供给研磨液。