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公开(公告)号:CN114682547A
公开(公告)日:2022-07-01
申请号:CN202111590195.6
申请日:2021-12-23
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种基板清洗装置及基板的清洗方法。基板清洗装置具备:旋转机构,该旋转机构使基板旋转;清洗液供给喷嘴,该清洗液供给喷嘴向所述基板的表面喷出施加了超声波振动的清洗液;以及摆动机构,该摆动机构使所述清洗液供给喷嘴从所述基板的旋转中心附近朝向所述基板的外周端在比所述基板的半面窄的范围内摆动。
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公开(公告)号:CN106457511A
公开(公告)日:2017-02-22
申请号:CN201580024470.4
申请日:2015-05-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/34 , B24B37/20 , H01L21/304
Abstract: 本发明揭示一种用于更换使用于研磨晶片等基板的研磨装置的研磨台的装置。研磨台更换装置(10)是用于从研磨装置(1)取出研磨台(3)的装置。该研磨台更换装置(10)具备:使研磨台(12);放置研磨台(3)的台座(14);及使台座(14)相对于水平方向倾斜的台座倾斜移动机构(15)。(3)在铅直方向上及水平方向上移动的起重机
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公开(公告)号:CN117957638A
公开(公告)日:2024-04-30
申请号:CN202280060410.8
申请日:2022-06-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304
Abstract: 基板清洗装置(31)具备辊清洗构件(61)与旋转保持部(100)。旋转保持部(100)具备非接触密封部(140),其配置于轴承部(130)与辊清洗构件(61)之间,且将轴部(110)与壳体部(120)的间隙密封。非接触密封部(140)具备:旋转部(150),安装于轴部(110),在周面(150a)隔着间隔在轴向上形成有多个凸部(151);及固定部(160),安装于壳体部(120),包围多个凸部(151),且在包围多个凸部(151)的内周面(160a)形成有气体供给孔(161),气体供给孔(161)从比多个凸部(151)之中配置于轴向两端部的凸部(151)在轴向上靠内侧的位置供给压缩气体(200)。
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公开(公告)号:CN106457511B
公开(公告)日:2019-12-13
申请号:CN201580024470.4
申请日:2015-05-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/34 , B24B37/20 , H01L21/304
Abstract: 本发明揭示一种用于更换使用于研磨晶片等基板的研磨装置的研磨台的装置。研磨台更换装置(10)是用于从研磨装置(1)取出研磨台(3)的装置。该研磨台更换装置(10)具备:使研磨台(3)在铅直方向上及水平方向上移动的起重机(12);放置研磨台(3)的台座(14);及使台座(14)相对于水平方向倾斜的台座倾斜移动机构(15)。
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