公开(公告)号：CN118559600A

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN202410215725.6

申请日：2024-02-27

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 梶田真二 ,  平安名常仁 ,  梶川敬之 ,  上里昌充

IPC: B24B37/10 ,  B24B7/22 ,  B24B37/04 ,  B24B37/34 ,  B24B55/06

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具备：预处理单元，该预处理单元对研磨前的基板的背面进行亲水化处理；以及研磨单元，该研磨单元研磨由预处理单元对背面进行了亲水化处理后的基板的表面。

公开(公告)号：CN1921955A

公开(公告)日：2007-02-28

申请号：CN200580005796.9

申请日：2005-02-23

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 梶田真二 ,  片伯部一郎

IPC: B05C11/08 ,  C23F1/00 ,  C23F1/08 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  H01L21/68

Abstract: 衬底处理设备具有用于在固定力下固定衬底(W)的衬底固定机构(14)，所述固定力根据衬底固定机构(14)的旋转速度而改变；衬底旋转机构(22)，用于旋转衬底固定机构(14)以旋转由衬底固定机构(14)固定的衬底(W)；和处理液输送机构(12、15、19)，用于将处理液输送给由衬底固定机构(14)固定的衬底(W)的期望部分。