半导体器件
    5.
    发明公开
    半导体器件 审中-实审

    公开(公告)号:CN115483188A

    公开(公告)日:2022-12-16

    申请号:CN202210570706.6

    申请日:2022-05-24

    Abstract: 本公开涉及一种半导体器件。布线衬底包括:第一绝缘层;第一金属图案,被形成在第一绝缘层上;第二绝缘层,被形成在第一绝缘层上以便覆盖第一金属图案;第二金属图案,被形成在第二绝缘层上;以及有机绝缘膜,与第二金属图案的部分接触。而且,第一金属图案具有:第一下表面,与第一绝缘层接触;以及第一上表面,与第二绝缘层接触。而且,第二金属图案具有:第二下表面,与第二绝缘层接触;以及第二上表面,与有机绝缘膜接触。此外,第二上表面的表面粗糙度大于以下每一项的表面粗糙度:第二下表面、第一上表面和第一下表面。

    半导体器件
    10.
    发明公开
    半导体器件 审中-公开

    公开(公告)号:CN117855153A

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN202311200504.3

    申请日:2023-09-18

    Abstract: 本公开的各实施例涉及半导体器件。根据一个实施例的一种半导体器件包括:具有芯绝缘层的布线衬底;安装在布线衬底的上表面上的半导体芯片;形成在布线衬底的下表面上的多个焊球;以及散热器,该散热器具有经由第一粘合层固定到半导体芯片的后表面的第一部分和位于第一部分周围并且经由第二粘合层固定到布线衬底的第二部分。这里,多个焊球的一部分布置在与散热器的第二部分和第二粘合层中的每一者交叠的位置处。此外,第二粘合层的第二厚度大于第一粘合层的第一厚度的两倍。

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